公开(公告)号：CN118448423A

公开(公告)日：2024-08-06

申请号：CN202410530440.1

申请日：2024-04-29

申请人： 北京京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 邢东明 ,  张鹏 ,  贾鹏德 ,  谢冠亚 ,  娄天骄

IPC分类号： H01L27/12 ,  H01L21/77

摘要： 本发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。显示基板包括：衬底基板；位于衬底基板上的栅金属层；位于栅金属层远离衬底基板一侧的栅绝缘层；位于栅绝缘层远离衬底基板一侧的有源层；位于有源层远离衬底基板一侧的源漏金属层；位于源漏金属层远离衬底基板一侧的钝化层；位于钝化层远离衬底基板一侧的像素电极，像素电极包括层叠设置的遮光金属图形和透明导电图形，透明导电图形位于遮光金属图形远离衬底基板的一侧，遮光金属图形在衬底基板上的正投影位于透明导电图形在衬底基板上的正投影内，有源层在衬底基板上的正投影位于像素电极在衬底基板上的正投影内。本发明能够简化显示基板的制程，降低显示基板的制作成本。

公开(公告)号：CN118899319A

公开(公告)日：2024-11-05

申请号：CN202410915784.4

申请日：2024-07-09

申请人： 北京京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 张鹏 ,  邢东明 ,  刘琨 ,  李良杰 ,  胡晓洋 ,  娄天骄 ,  孙凯晨

IPC分类号： H01L27/12

摘要： 本申请提供了一种显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置，涉及显示技术领域。该制备方法包括：在衬底上依次形成栅极层、有源层和源漏导电层；形成第一掩膜层，第一掩膜层位于源漏导电层的远离衬底的一侧，第一掩膜层具有多个开口；经第一掩膜层的多个开口，刻蚀源漏导电层和有源层；去除第一掩膜层；依次形成钝化层和平坦化层，钝化层和平坦化层位于源漏导电层的远离衬底的一侧，平坦化层具有多个第一过孔；经平坦化层的多个第一过孔，刻蚀钝化层，该制备方法的工艺简单、成本较低。上述显示基板可应用于显示面板中，以实现画面显示。