公开(公告)号：CN104752302B

公开(公告)日：2018-05-08

申请号：CN201310747095.9

申请日：2013-12-30

申请人： 北京北方华创微电子装备有限公司

发明人： 徐桂玲

IPC分类号： H01L21/687

摘要： 本发明提供一种基座支撑结构，用于支撑腔室中的基座，所述基座支撑结构包括底座、升降杆、轴承部件，所述底座包括上部和形成在所述上部下端面的下部，所述底座的上部的外边缘延伸超过所述底座的下部的外边缘，所述轴承部件和所述底座的下部连接，所述升降杆穿过所述轴承部件和所述底座，以和所述基座相连。相应地，本发明还提供一种腔室。本发明能够更好地保证轴承部件与底座之间的同轴度，同时，与现有技术相比，本发明中基座支撑结构的安装更加便捷，并且，本发明仅需在腔室底壁上加工一个固定孔而无需加工螺纹孔。

公开(公告)号：CN105470181B

公开(公告)日：2019-02-19

申请号：CN201410459629.2

申请日：2014-09-10

申请人： 北京北方华创微电子装备有限公司

发明人： 徐桂玲

IPC分类号： H01L21/677 ,  H01J37/32 ,  C23C16/44

摘要： 本发明提供了一种遮蔽盘传输装置及反应腔室，该遮蔽盘传输装置包括遮蔽盘、用于承载遮蔽盘的传送臂和电磁固定器，电磁固定器设置在传送臂的承载遮蔽盘的对应位置处，遮蔽盘采用磁性材料制成，电磁固定器用于在其具有磁性时使位于传送臂上的遮蔽盘被磁化，以实现将遮蔽盘固定在传送臂上；以及在不具有磁性时使位于传送臂上的遮蔽盘未被磁化，以实现传送臂和遮蔽盘未固定。本发明提供的遮蔽盘传输装置，可以解决在传输遮蔽盘的过程中存在遮蔽盘滑落风险的问题，从而可以提高传输的稳定性和可靠性。

公开(公告)号：CN105779932B

公开(公告)日：2018-08-24

申请号：CN201410835741.1

申请日：2014-12-26

申请人： 北京北方华创微电子装备有限公司

发明人： 徐桂玲

IPC分类号： C23C14/00

摘要： 本发明提供一种用于处理腔室的工艺内衬和物理气相沉积设备。所述工艺内衬具有环形结构，用于遮挡物理气相沉积腔室的内壁，所述工艺内衬包括：主体，所述主体由第一材料制成；以及外围层，所述外围层包覆所述主体，且由不同于所述第一材料的第二材料制成，所述外围层用于在清洗时保护主体。外围层能够对主体起到保护作用，尤其在清洗时可以保护主体，其所带来的有益效果是可以分别选择主体和外围层的材料。在选择主体的材质时可以不受待进行的处理的限制，选择导热率高且密度小的材料，既提高了整体的散热效率又减轻了工艺内衬的重量。在选择外围层的材质时，则可以主要考虑外围层与待沉积在其上的薄膜的粘附性。