公开(公告)号：CN101476121A

公开(公告)日：2009-07-08

申请号：CN200910077832.2

申请日：2009-01-23

Applicant: 北京工业大学

Inventor： 王波 ,  裴明德 ,  孙宏达 ,  张雪红 ,  宋雪梅 ,  严辉 ,  朱满康 ,  汪浩 ,  王如志 ,  侯育冬 ,  张铭

IPC: C23C22/63 ,  C23C22/82

Abstract: 本发明公开了一种利用低压氧化法在铜表面制备超疏水薄膜的方法，可应用于需要防水附着的各种铜表面。属于材料的表面物理化学领域。现有技术主要是利用低表面能的有机化学试剂修饰，达到超疏水的目的。然而，这种用有机化学试剂进行表面处理的方法成本较高，工艺复杂，对环境也有影响。本发明提供了一种简单的低压氧化法，在铜表面生成具有双层微纳结构的氧化铜薄膜，从而达到超疏水状态。这就免去了低表面能有机化学试剂修饰的过程，节省了制作成本，简化了工艺，且减少了有机废物的排放。