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公开(公告)号:CN117004865A
公开(公告)日:2023-11-07
申请号:CN202311208845.5
申请日:2023-09-19
申请人: 北京工业大学
摘要: 本发明提供一种细晶化SnBiIn合金及其制备方法和应用,涉及电子封装芯片互联材料制造技术领域。本发明提供了一种细晶化SnBiIn合金,按原子百分比计,Sn的含量为30~50at%,Bi的含量为20~40at%,In的含量为30~50at%,细晶化SnBiIn合金采用球磨的方法制备得到。本发明还提供了一种SnBiIn合金钎料,包含SnBiIn合金焊片或SnBiIn合金焊膏。本发明通过调整各元素的比例,并采用真空感应熔炼与球磨的制备方法,使In完全与Bi反应,抑制了脆性Bi相析出,组织均匀细小,熔点低,提高焊点的电迁移性能、热疲劳性能和力学性能,减小芯片翘曲的程度以及焊点失效的概率。