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公开(公告)号:CN115793391A
公开(公告)日:2023-03-14
申请号:CN202211513745.9
申请日:2022-11-29
申请人: 北京科华微电子材料有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
摘要: 本申请提供一种光刻胶及其应用,属于半导体及集成电路技术领域。光刻胶包括10wt%~30wt%酚醛树脂、2wt%~10wt%重氮萘醌感光剂和0.1wt%~10wt%添加剂。本申请在重氮萘醌型光刻胶中加入含卤素的添加剂,添加剂能够和光刻胶中的其他成分相互作用,从而提高光刻胶的光敏感度,且能够使得光刻胶具有较好的光刻性能,具体表现为侧壁较垂直的形貌。
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公开(公告)号:CN118894880A
公开(公告)日:2024-11-05
申请号:CN202410933283.9
申请日:2024-07-11
申请人: 上海彤程电子材料有限公司 , 上海清华国际创新中心 , 北京科华微电子材料有限公司
IPC分类号: C07F7/18
摘要: 本发明涉及半导体技术领域,尤其是涉及一种含有发色团的硅氧烷的制备方法。本发明提供的一种含有发色团的硅氧烷的制备方法,包括如下步骤:含有异氰酸根的硅氧烷与含有活泼氢和发色团的化合物反应得到所述含有发色团的硅氧烷。本发明提供的含有发色团的硅氧烷的制备方法,通过利用异氰酸根和活泼氢之间的高反应活性,合成了含有发色团的硅氧烷;通过该制备方法合成的含有发色团的硅氧烷纯度高,后处理步骤更加简单,且不存在合成的含有发色团的硅氧烷单体聚合的问题。
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