小基高比立体测绘光学系统

    公开(公告)号:CN101718550A

    公开(公告)日:2010-06-02

    申请号:CN200910242899.7

    申请日:2009-12-18

    IPC分类号: G01C11/02

    摘要: 小基高比立体测绘光学系统,采用完全共用主镜、次镜、三镜和平面折转镜的同轴三反射镜系统,偏视场使用,由两个独立的光学成像路径组合成。两组入射光线具有1°~6°夹角,分别依次到达主镜、次镜和三镜,最终再由平面镜折转到两个分立的接收像面上分别成像。本系统利用同时共用的主镜、次镜、三镜和平面折转镜以及双焦面实现前、后两个视场同时成像,从而通过单相机双通道成像的反射式光学系统实现高精度小基高比立体测绘。本系统具有光机结构集成度高,体积小,重量轻,便于在轨实时检测,内方位元素稳定度高等优点,特别适用于小基高比测绘制图中卫星相机单轨推扫,进行立体成像和测绘。

    一种同轴相机主次镜在轨姿态测量系统

    公开(公告)号:CN110411713B

    公开(公告)日:2021-07-13

    申请号:CN201910616490.0

    申请日:2019-07-09

    IPC分类号: G01M11/00 G01M11/02 G01M11/08

    摘要: 一种同轴相机主次镜在轨姿态测量系统,包括两个位移传感装置、两个激光发射装置、两个光电接收装置、数据处理模块;两个位移传感装置分别用于测量主镜和次镜的位移,然后输出给所述数据处理模块;两个激光发射装置均用于发射激光脉冲;两个光电接收装置分别用于接收两个激光发射装置发射的激光脉冲信号,然后输出光斑的数字图像给所述数据处理模块;两个激光发射装置和两个光电接收装置位于同一平面内;数据处理模块用于根据所述主镜的位移、次镜的位移、光斑的数字图像获得主镜和次镜的相对位置和姿态变化。本发明结构简单、安装方便,适用于空间相机在轨光机稳定性监测和成像质量分析,属于在轨像质监测和智能调整领域。

    一种遥感器在轨标定光源发射系统

    公开(公告)号:CN109084963A

    公开(公告)日:2018-12-25

    申请号:CN201810871292.4

    申请日:2018-08-02

    IPC分类号: G01M11/02

    摘要: 一种遥感器在轨标定光源发射系统,包括:光源发射模块,光斑接收模块、发射频次确定模块。发射频次确定模块确定与发射时长相关的标定光源备选频次,以及与传输速率相关的标定光源备选频次;选择所述与发射时长相关的标定光源备选频次和与传输速率相关的标定光源备选频次中数值最小的备选频次作为所述标定光源的发射频次;将标定光源的发射频次发送给光源发射模块;光源发射模块以整星星务系统发送的秒脉冲信号为使能信号,按照所述标定光源发射频次发射标定光源,将所述标定光源匀化整形处理后,通过待标定遥感器发射给光斑接收模块;光斑接收模块采集所述光源发射模块发射的定标光源的光信号,将所述光信号转换为电信号向外输出。本发明结构简单、安装方便、可靠性高,特别适用于重量不大于30Kg的微纳卫星。

    基于集成式共用主镜的双视场立体成像光学系统

    公开(公告)号:CN101770158B

    公开(公告)日:2011-03-30

    申请号:CN200910243273.8

    申请日:2009-12-30

    IPC分类号: G03B35/00 G02B27/22 G01S17/89

    摘要: 基于集成式共用主镜的双视场立体成像光学系统,由两个三反离轴光学系统构成,包括焊接主镜、两个次镜、两个三镜、两个平面折转镜以及两个接收面,通过使用两束对称的偏视场入射光线,经过光学系统后形成立体像对,可用于实现大基高比高精度空间立体测绘。本发明系统将两个光学系统的主镜以一定的角度焊接,实现光学系统集成,不仅保证了前、后视视场夹角的稳定性,从而保证了基高比(B/H)的稳定,而且可以改变焊接角度,灵活实现所需的基高比(B/H)。本发明系统具有较小的重量体积,更高的热稳定性,从而能获得内方位元素的高稳定度,实现对图像的高精度校正。

    一种少像元光学成像系统

    公开(公告)号:CN111338078B

    公开(公告)日:2022-08-12

    申请号:CN202010300561.9

    申请日:2020-04-16

    IPC分类号: G02B27/00 G02B3/00 G01J1/04

    摘要: 本发明公开了一种少像元光学成像系统,包括:第一微小透镜阵列、第二微小透镜阵列、第三微小透镜阵列和像差校准透镜组;其中,第一视场的光线、第二视场的光线、第三视场的光线、第四视场的光线和第五视场的光线分别依次经过第一微小透镜阵列、第二微小透镜阵列、第三微小透镜阵列和像差校准透镜组后得到第一像差校正光线、第二像差校正光线、第三像差校正光线、第四像差校正光线和第五像差校正光线,第一像差校正光线、第二像差校正光线、第三像差校正光线、第四像差校正光线和第五像差校正光线形成二次矩形像面。本发明将长线形的一次像面的光线汇聚形成矩形的二次像面,只需常用的面阵探测器即可完成光电转换,使得大视场成像系统可以实现。

    一种遥感器在轨标定光源发射系统

    公开(公告)号:CN109084963B

    公开(公告)日:2020-05-08

    申请号:CN201810871292.4

    申请日:2018-08-02

    IPC分类号: G01M11/02

    摘要: 一种遥感器在轨标定光源发射系统,包括:光源发射模块,光斑接收模块、发射频次确定模块。发射频次确定模块确定与发射时长相关的标定光源备选频次,以及与传输速率相关的标定光源备选频次;选择所述与发射时长相关的标定光源备选频次和与传输速率相关的标定光源备选频次中数值最小的备选频次作为所述标定光源的发射频次;将标定光源的发射频次发送给光源发射模块;光源发射模块以整星星务系统发送的秒脉冲信号为使能信号,按照所述标定光源发射频次发射标定光源,将所述标定光源匀化整形处理后,通过待标定遥感器发射给光斑接收模块;光斑接收模块采集所述光源发射模块发射的定标光源的光信号,将所述光信号转换为电信号向外输出。本发明结构简单、安装方便、可靠性高,特别适用于重量不大于30Kg的微纳卫星。

    一种少像元光学成像系统

    公开(公告)号:CN111338078A

    公开(公告)日:2020-06-26

    申请号:CN202010300561.9

    申请日:2020-04-16

    IPC分类号: G02B27/00 G02B3/00 G01J1/04

    摘要: 本发明公开了一种少像元光学成像系统,包括:第一微小透镜阵列、第二微小透镜阵列、第三微小透镜阵列和像差校准透镜组;其中,第一视场的光线、第二视场的光线、第三视场的光线、第四视场的光线和第五视场的光线分别依次经过第一微小透镜阵列、第二微小透镜阵列、第三微小透镜阵列和像差校准透镜组后得到第一像差校正光线、第二像差校正光线、第三像差校正光线、第四像差校正光线和第五像差校正光线,第一像差校正光线、第二像差校正光线、第三像差校正光线、第四像差校正光线和第五像差校正光线形成二次矩形像面。本发明将长线形的一次像面的光线汇聚形成矩形的二次像面,只需常用的面阵探测器即可完成光电转换,使得大视场成像系统可以实现。

    一种同轴相机主次镜在轨姿态测量系统

    公开(公告)号:CN110411713A

    公开(公告)日:2019-11-05

    申请号:CN201910616490.0

    申请日:2019-07-09

    IPC分类号: G01M11/00 G01M11/02 G01M11/08

    摘要: 一种同轴相机主次镜在轨姿态测量系统,包括两个位移传感装置、两个激光发射装置、两个光电接收装置、数据处理模块;两个位移传感装置分别用于测量主镜和次镜的位移,然后输出给所述数据处理模块;两个激光发射装置均用于发射激光脉冲;两个光电接收装置分别用于接收两个激光发射装置发射的激光脉冲信号,然后输出光斑的数字图像给所述数据处理模块;两个激光发射装置和两个光电接收装置位于同一平面内;数据处理模块用于根据所述主镜的位移、次镜的位移、光斑的数字图像获得主镜和次镜的相对位置和姿态变化。本发明结构简单、安装方便,适用于空间相机在轨光机稳定性监测和成像质量分析,属于在轨像质监测和智能调整领域。

    小基高比立体测绘光学系统

    公开(公告)号:CN101718550B

    公开(公告)日:2011-04-27

    申请号:CN200910242899.7

    申请日:2009-12-18

    IPC分类号: G02B17/06 G01C11/02

    摘要: 小基高比立体测绘光学系统,采用完全共用主镜、次镜、三镜和平面折转镜的同轴三反射镜系统,偏视场使用,由两个独立的光学成像路径组合成。两组入射光线具有1°~6°夹角,分别依次到达主镜、次镜和三镜,最终再由平面镜折转到两个分立的接收像面上分别成像。本系统利用同时共用的主镜、次镜、三镜和平面折转镜以及双焦面实现前、后两个视场同时成像,从而通过单相机双通道成像的反射式光学系统实现高精度小基高比立体测绘。本系统具有光机结构集成度高,体积小,重量轻,便于在轨实时检测,内方位元素稳定度高等优点,特别适用于小基高比测绘制图中卫星相机单轨推扫,进行立体成像和测绘。

    基于集成式共用主镜的双视场立体成像光学系统

    公开(公告)号:CN101770158A

    公开(公告)日:2010-07-07

    申请号:CN200910243273.8

    申请日:2009-12-30

    IPC分类号: G03B35/00 G02B27/22 G01S17/89

    摘要: 基于集成式共用主镜的双视场立体成像光学系统,由两个三反离轴光学系统构成,包括焊接主镜、两个次镜、两个三镜、两个平面折转镜以及两个接收面,通过使用两束对称的偏视场入射光线,经过光学系统后形成立体像对,可用于实现大基高比高精度空间立体测绘。本发明系统将两个光学系统的主镜以一定的角度焊接,实现光学系统集成,不仅保证了前、后视视场夹角的稳定性,从而保证了基高比(B/H)的稳定,而且可以改变焊接角度,灵活实现所需的基高比(B/H)。本发明系统具有较小的重量体积,更高的热稳定性,从而能获得内方位元素的高稳定度,实现对图像的高精度校正。