高烧结活性的ITO粉体的制备方法

    公开(公告)号:CN100465099C

    公开(公告)日:2009-03-04

    申请号:CN200510111243.3

    申请日:2005-12-08

    IPC分类号: C01G15/00 C01G19/02

    摘要: 本发明涉及一种高烧结活性的锡掺杂氧化铟粉体的制备方法,其主要步骤为:首先向由锡源、铟源和去离子水组成的溶液中加入有机络合剂,有机络合剂与金属离子的摩尔比为(0.25~5)∶1;然后再加入氨水调节pH值为4~12;最后将其置于反应器中于130~260℃进行水热反应3~24小时,水热反应产物经洗涤、干燥及热处理后得目标物。本发明优点在于,制得的ITO粉体的粒径为6~25纳米,比表面积达30~80m2/g,粉体的团聚少;制得的ITO粉体具有良好的烧结活性(1200℃常压烧结最高可达到98.7%的相对密度);从根本上消除了氯离子对制备造成的麻烦,大幅度缩短了生产周期、提高了生产效率且对环境比较友好。

    锡掺杂氧化铟纳米粉体的制备方法

    公开(公告)号:CN1775693A

    公开(公告)日:2006-05-24

    申请号:CN200510110585.3

    申请日:2005-11-22

    IPC分类号: C01G15/00 C01G19/00

    摘要: 本发明涉及一种采用共沉淀法制备锡掺杂氧化铟(ITO)纳米粉体的方法,其以不含氯离子的锡/铟水溶液与氨水经沉淀反应制得,所得粉体的粒径为8~30纳米、比表面积为20~60m2g-1。采用本发明制得的ITO粉体具有粒径小、表面积高、分散性好及使用过程中不会对使用部件产生腐蚀危害等特点。此外,本发明还具有制备周期短、效率高、成本低,可以规模化生产等优点。

    一种纳米氧化锡的制备方法

    公开(公告)号:CN1978324A

    公开(公告)日:2007-06-13

    申请号:CN200510111244.8

    申请日:2005-12-08

    IPC分类号: C01G19/02

    摘要: 本发明涉及一种纳米氧化锡的制备方法,所说制备方法的主要步骤为:将由锡源、有机络合剂及去离子水组成的混合液与沉淀剂于10℃~90℃进行沉淀反应,沉淀反应得到沉淀物经洗涤、烘干及热处理后得目标物。本发明的特点在于,整个制备工艺简单高效,易于工业化;前驱体不需要热处理就能够获得纳米氧化锡;制得的纳米氧化锡粉体具有高分散性,其表面积20~180m2/g、粒径为2~10纳米。

    高烧结活性的ITO粉体的制备方法

    公开(公告)号:CN1978323A

    公开(公告)日:2007-06-13

    申请号:CN200510111243.3

    申请日:2005-12-08

    IPC分类号: C01G15/00 C01G19/02

    摘要: 本发明涉及一种高烧结活性的锡掺杂氧化铟粉体的制备方法,其主要步骤为:首先向由锡源、铟源和去离子水组成的溶液中加入有机络合剂,有机络合剂与金属离子的摩尔比为(0.25~5)∶1;然后再加入氨水调节pH值为4~12;最后将其置于反应器中于130~260℃进行水热反应3~24小时,水热反应产物经洗涤、干燥及热处理后得目标物。本发明优点在于,制得的ITO粉体的粒径为6~25纳米,比表面积达30~80m2/g,粉体的团聚少;制得的ITO粉体具有良好的烧结活性(1200℃常压烧结最高可达到98.7%的相对密度);从根本上消除了氯离子对制备造成的麻烦,大幅度缩短了生产周期、提高了生产效率且对环境比较友好。

    一种纳米氧化锡的制备方法

    公开(公告)号:CN100415651C

    公开(公告)日:2008-09-03

    申请号:CN200510111244.8

    申请日:2005-12-08

    IPC分类号: C01G19/02

    摘要: 本发明涉及一种纳米氧化锡的制备方法,所说制备方法的主要步骤为:将由锡源、有机络合剂及去离子水组成的混合液与沉淀剂于10℃~90℃进行沉淀反应,沉淀反应得到沉淀物经洗涤、烘干及热处理后得目标物。本发明的特点在于,整个制备工艺简单高效,易于工业化;前驱体不需要热处理就能够获得纳米氧化锡;制得的纳米氧化锡粉体具有高分散性,其表面积20~180m2/g、粒径为2~10纳米。