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公开(公告)号:CN102512251A
公开(公告)日:2012-06-27
申请号:CN201110396532.8
申请日:2011-12-02
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: A61C7/00
摘要: 本发明公开了一种隐形矫治器的制造方法及其产品,该制造方法包括以下步骤:获取牙齿畸形患者的牙齿阴模模型;使用热塑性材料和石膏在所述牙齿阴模模型上填充成型,获得患者牙颌物理模型;加热所述牙颌物理模型中待矫正牙齿部位处的热塑性材料使其软化,然后将其移动至目标矫正位置;以及冷却待矫正牙齿部位处的热塑性材料使其硬化,并采用正畸片以此时的牙颌物理模型为母模制得一系列隐形矫治器。通过本发明,可以获得由正畸医生直接操作的、材料和成本低廉的隐形矫治器。
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公开(公告)号:CN112909092A
公开(公告)日:2021-06-04
申请号:CN202110068578.0
申请日:2021-01-19
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: H01L29/78 , H01L29/06 , H01L29/16 , H01L29/165 , H01L21/336
摘要: 本发明公开了一种碳纳米管‑石墨烯共价异质结隧穿场效应晶体管,属于隧穿场效应晶体管技术领域,包括:栅区,源区,漏区,沟道区;所述沟道区包括沿源区至漏区方向依次排布的沟道一段、沟道二段和沟道三段;所述沟道一段和沟道三段均为弯曲的zigzag型石墨烯纳米带,所述沟道二段为碳纳米管;所述源区与漏区均为armchair型石墨烯纳米带;所述源区、漏区以及沟道区组成石墨烯‑碳纳米管共价异质结。如此,在隧穿晶体管处于开态时,armchair型石墨烯(源区)中电子能够通过无带隙的zigzag型石墨烯直接输运到碳纳米管(沟道);此时,碳纳米管沟道与armchair型石墨烯之间不存在隧穿势垒,电子从源区输运到沟道的几率大大增加,隧穿晶体管器件的开态饱和电流增加一个量级。
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公开(公告)号:CN102512251B
公开(公告)日:2014-12-10
申请号:CN201110396532.8
申请日:2011-12-02
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: A61C7/00
摘要: 本发明公开了一种隐形矫治器的制造方法及其产品,该制造方法包括以下步骤:获取牙齿畸形患者的牙齿阴模模型;使用热塑性材料和石膏在所述牙齿阴模模型上填充成型,获得患者牙颌物理模型;加热所述牙颌物理模型中待矫正牙齿部位处的热塑性材料使其软化,然后将其移动至目标矫正位置;以及冷却待矫正牙齿部位处的热塑性材料使其硬化,并采用正畸片以此时的牙颌物理模型为母模制得一系列隐形矫治器。通过本发明,可以获得由正畸医生直接操作的、材料和成本低廉的隐形矫治器。
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公开(公告)号:CN112909092B
公开(公告)日:2022-08-02
申请号:CN202110068578.0
申请日:2021-01-19
申请人: 华中科技大学
IPC分类号: H01L29/78 , H01L29/06 , H01L29/16 , H01L29/165 , H01L21/336
摘要: 本发明公开了一种碳纳米管‑石墨烯共价异质结隧穿场效应晶体管,属于隧穿场效应晶体管技术领域,包括:栅区,源区,漏区,沟道区;所述沟道区包括沿源区至漏区方向依次排布的沟道一段、沟道二段和沟道三段;所述沟道一段和沟道三段均为弯曲的zigzag型石墨烯纳米带,所述沟道二段为碳纳米管;所述源区与漏区均为armchair型石墨烯纳米带;所述源区、漏区以及沟道区组成石墨烯‑碳纳米管共价异质结。如此,在隧穿晶体管处于开态时,armchair型石墨烯(源区)中电子能够通过无带隙的zigzag型石墨烯直接输运到碳纳米管(沟道);此时,碳纳米管沟道与armchair型石墨烯之间不存在隧穿势垒,电子从源区输运到沟道的几率大大增加,隧穿晶体管器件的开态饱和电流增加一个量级。
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