公开(公告)号：CN116575016A

公开(公告)日：2023-08-11

申请号：CN202310471267.8

申请日：2023-04-27

申请人： 华中科技大学

发明人： 陈蓉 ,  马更 ,  杨帆 ,  单斌 ,  蒋雪薇 ,  聂煜峰

IPC分类号： C23C16/455

摘要： 本发明提供一种喷头及薄膜制备装置，喷头设有分气流道、第一扩幅腔、第一扩散流道、第二扩幅腔、第二扩散流道、匀压腔及出气口，分气流道与第一扩幅腔连通，第一扩幅腔通过第一扩散流道与第二扩幅腔连通，第二扩幅腔通过第二扩散流道与匀压腔连通，匀压腔与出气口连通，第二扩幅腔沿第二扩幅腔的长度方向的尺寸大于第一扩幅腔沿第一扩幅腔的长度方向的尺寸。本申请中喷头通过第一扩幅腔、第一扩散流道、第二扩幅腔及第二扩散流道之间的相互配合实现喷头的扩大化设计，并采用静压平衡出气的理念，使得喷头能够在保持较大出气幅长的基础上进行均匀且稳定的出气，提高了喷头及薄膜制备装置的适用性和工业生产效率。

公开(公告)号：CN118737800A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202410944630.8

申请日：2024-07-15

申请人： 华中科技大学

发明人： 陈蓉 ,  杨立 ,  杨帆 ,  单斌 ,  马更 ,  蒋雪薇

IPC分类号： H01J37/32

摘要： 本申请涉及一种区域原子层处理装置及方法，涉及区域原子层处理技术领域。喷射件包括本体，所述本体具有喷射侧和非喷射侧，所述喷射侧用于喷射反应物和隔离物，且所述本体包括设置于所述非喷射侧的多个进气口、设于所述本体内部的多个流道及设置于所述喷射侧的多个出气口；各所述进气口分别对应一个所述流道和一个所述出气口，且相邻两个所述出气口中，一个所述出气口用于喷射反应物，另一个所述出气口用于喷射隔离物。本申请可减少样品表面的处理时间，提升效率。