-
公开(公告)号:CN107351376A
公开(公告)日:2017-11-17
申请号:CN201710595846.8
申请日:2017-07-20
Applicant: 华南理工大学
IPC: B29C64/112 , B29C64/20 , B29C64/386 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y50/00
Abstract: 本发明公开了一种基于3D打印技术的掩膜制作装置,包括:控制板、热床、喷嘴、步进电机、打印耗材和计算机;所述计算机与控制板连接,所述热床、喷嘴、步进电机均与控制板连接;所述步进电机与喷嘴连接;所述喷嘴与打印耗材连接;本发明还公开了一种应用于基于3D打印技术的掩膜制作装置的掩膜制作方法,包括以下步骤:1、生成掩膜的设计方案;2、制作掩膜的3D模型,并保存为STL格式;3、将生成STL格式的掩膜3D模型导入3D打印软件中,导出至SD卡中;4、将SD卡插入3D打印机中,选择要打印的掩膜3D模型;等打印完毕,进行分离工作,得到掩膜3D模型成品。具有简化了掩膜制作流程和提高了工作效率等优点。
-
公开(公告)号:CN107379555A
公开(公告)日:2017-11-24
申请号:CN201710596076.9
申请日:2017-07-20
Applicant: 华南理工大学
IPC: B29C64/386 , B33Y50/00 , B33Y80/00
Abstract: 本发明公开了一种面向大众3D模型组合与打印平台的打印系统,包括:3D打印平台和基于计算机的模型组合平台,所述3D打印平台包括:控制板、热床、喷嘴、步进电机和打印耗材;所述基于计算机的模型组合平台包括:服务端计算机、用户端计算机和信息交互装置。本发明还公开了一种应用于面向大众3D模型组合与打印平台的打印系统的打印方法,包括以下步骤:1、从模型库中选取多个模型进行组合;2、对用户的模型组合方案进行可行性修改,并按实际情况规划打印顺序与布局;3、根据规划的打印顺序与布局操作3D打印平台,打印出模型;对打印出的模型进行表面处理,添加电路;4、测试成品正常工作后,交付用户。具有成本低和使用方便等优点。
-
公开(公告)号:CN115010634A
公开(公告)日:2022-09-06
申请号:CN202210813896.X
申请日:2022-07-12
Applicant: 华南理工大学
IPC: C07C327/38 , C07D295/20
Abstract: 本发明提供了一种二硫代草酰胺化合物及其制备方法,属于有机化合物制备技术领域。本发明将单质硫磺、四氯乙烷以及胺类单体混合,于溶剂中或于无溶剂条件下进行加热搅拌反应,并在反应结束后对其进行提纯,得到N,N‑二取代二硫代草酰胺化合物。本发明实现了对少有报道的N,N‑二脂肪基取代二硫代草酰胺化合物以及N,N‑二芳香基取代二硫代草酰胺化合物的高效低成本制备,且该发明的制备方法具有反应条件温和且操作简单,产物结构多样等特点。
-
公开(公告)号:CN113773489B
公开(公告)日:2022-05-06
申请号:CN202111096123.6
申请日:2021-09-15
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明提供了一种聚(酰胺‑硫代酰胺)聚合物及其合成方法和应用,属于高分子化学材料领域。本发明中聚合物合成及序列调控方法为:在惰性气体环境下,将第一种二官能团胺单体、顺丁烯二酸酐与单质硫磺加入到有机溶剂中反应得到反应液,需要序列调控的情况下再加入第二种二官能团胺单体进行反应之后对反应液进行稀释、过滤、沉降后即得聚(酰胺‑硫代酰胺)或序列可控的聚(酰胺‑硫代酰胺)。本发明合成方法可以高产率得到结构明确且规整的聚(酰胺‑硫代酰胺),同时得到的聚合物分子量高,成功实现多组分以一锅法高效合成结构种类多样的聚(酰胺‑硫代酰胺)。
-
公开(公告)号:CN113773489A
公开(公告)日:2021-12-10
申请号:CN202111096123.6
申请日:2021-09-15
Applicant: 华南理工大学
Abstract: 本发明提供了一种聚(酰胺‑硫代酰胺)聚合物及其合成方法和应用,属于高分子化学材料领域。本发明中聚合物合成及序列调控方法为:在惰性气体环境下,将第一种二官能团胺单体、顺丁烯二酸酐与单质硫磺加入到有机溶剂中反应得到反应液,需要序列调控的情况下再加入第二种二官能团胺单体进行反应之后对反应液进行稀释、过滤、沉降后即得聚(酰胺‑硫代酰胺)或序列可控的聚(酰胺‑硫代酰胺)。本发明合成方法可以高产率得到结构明确且规整的聚(酰胺‑硫代酰胺),同时得到的聚合物分子量高,成功实现多组分以一锅法高效合成结构种类多样的聚(酰胺‑硫代酰胺)。
-
公开(公告)号:CN207207125U
公开(公告)日:2018-04-10
申请号:CN201720887450.6
申请日:2017-07-20
Applicant: 华南理工大学
IPC: B29C64/112 , B29C64/20 , B29C64/386 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y50/00
Abstract: 本实用新型公开了一种基于3D打印技术的掩膜制作装置,包括:控制板、热床、喷嘴、步进电机、打印耗材和计算机;所述计算机与控制板连接,所述热床、喷嘴、步进电机均与控制板连接;所述步进电机与喷嘴连接;所述喷嘴与打印耗材连接。具有简化了掩膜制作流程和提高了工作效率等优点。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
-
-
-
-
-