公开(公告)号：CN100554140C

公开(公告)日：2009-10-28

申请号：CN200610097955.9

申请日：2006-11-23

Applicant: 南京大学

Inventor： 余林蔚 ,  陈坤基 ,  李伟 ,  徐骏 ,  黄信凡 ,  宋捷 ,  李雪飞 ,  马忠元 ,  徐岭

IPC: B82B3/00 ,  C23C16/513

Abstract: 气相自组装生长硅量子环纳米结构的制备方法，首先在等离子体增强化学汽相淀积(PECVD)系统中衬底硅表面分别进行氩气(Ar)等离子体和氢气(H2)等离子体的预处理，在衬底硅表面形成硅纳米环的成核中心；然后，在PECVD系统中原位周期性交替使用大氢稀释硅烷气体(SiH4+H2)和纯氢气(H2)对成核中心进行硅的生长和刻蚀，形成硅量子环纳米结构。对硅衬底表面预处理，形成纳米环结构的成核中心，其密度必须控制在1～3×108/cm2，为以后环结构的生长提供条件；周期性交替使用大氢稀释硅烷气和氢气进行硅生长和刻蚀的方法是：在每个周期当中，使用大氢稀释硅烷在成核中心进行生长，然后以纯氢气进行硅的刻蚀。重复上述淀积和刻蚀5-50个周期。

公开(公告)号：CN1966397A

公开(公告)日：2007-05-23

申请号：CN200610097955.9

申请日：2006-11-23

Applicant: 南京大学

Inventor： 余林蔚 ,  陈坤基 ,  李伟 ,  徐骏 ,  黄信凡 ,  宋捷 ,  李雪飞 ,  马忠元 ,  徐岭

IPC: B82B3/00 ,  C23C16/513

Abstract: 气相自组装生长硅量子环纳米结构的制备方法，首先在等离子体增强化学汽相淀积(PECVD)系统中衬底硅表面分别进行氩气(Ar)等离子体和氢气(H2)等离子体的预处理，在衬底硅表面形成硅纳米环的成核中心；然后，在PECVD系统中原位周期性交替使用大氢稀释硅烷气体(SiH4+H2)和纯氢气(H2)对成核中心进行硅的生长和刻蚀，形成硅量子环纳米结构。对硅衬底表面预处理，形成纳米环结构的成核中心，其密度必须控制在1～3×108/cm2，为以后环结构的生长提供条件；周期性交替使用大氢稀释硅烷气和氢气进行硅生长和刻蚀的方法是：在每个周期当中，使用大氢稀释硅烷在成核中心进行生长，然后以纯氢气进行硅的刻蚀。重复上述淀积和刻蚀5－50个周期。