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公开(公告)号:CN101784954B
公开(公告)日:2015-03-25
申请号:CN200880104142.5
申请日:2008-05-06
申请人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人: 马库斯·豪夫 , 乌尔里克·舍恩霍夫 , 帕亚姆·泰耶巴蒂 , 迈克尔·蒂尔 , 蒂尔曼·海尔 , 奥利·弗吕格 , 阿里夫·卡齐 , 亚历山大·索尔霍弗 , 格哈德·福赫特 , 约琴·韦伯 , 托拉尔夫·格鲁纳 , 阿克赛尔·戈纳迈耶 , 德克·赫尔韦格
CPC分类号: G02B7/008 , G02B7/1815 , G02B26/06 , G02B27/0025 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70825 , G03F7/70891
摘要: 本发明涉及具有热致动器的光学校正装置(208、600),该热致动器影响光学校正装置(208、600)中的热分布。光学校正装置(208、600)由至少两个传输热的能力不同的局部元件(201、202、604)构建。此外,本发明涉及影响光学元件(208)中的温度分布的方法。
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公开(公告)号:CN101548240B
公开(公告)日:2014-09-17
申请号:CN200780044525.3
申请日:2007-11-27
申请人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人: 斯蒂芬·泽尔特 , 彼得·迈耶 , 吉多·利姆巴赫 , 弗朗兹·索格 , 阿明·舍帕克 , 乌尔里克·韦伯 , 乌尔里克·洛林 , 德克·赫尔韦格 , 詹斯·库格勒 , 伯恩哈德·盖尔里奇 , 斯蒂芬·亨巴彻 , 伯恩哈德·格珀特 , 阿克赛尔·戈纳迈耶
CPC分类号: G02B7/004 , G02B27/0068 , G03F7/70191 , G03F7/70258 , G03F7/70308 , G03F7/70825
摘要: 本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光设备,包括用于减小像差的至少一个操纵器(14),其中操纵器(14)包括至少一个光学元件(8),该至少一个光学元件(8)由至少一个驱动器(13)操纵,并且其中该操纵器(14)连同驱动器(13)一起以可替换的方式形成。
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