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公开(公告)号:CN119301726A
公开(公告)日:2025-01-10
申请号:CN202380043601.8
申请日:2023-05-05
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
IPC: H01J37/20 , H01J37/28 , H01J37/305
Abstract: 一种获得晶片的测量部位的一序列相互平行的多个剖面图像的方法,该方法包括以下步骤:1a)以一重合配置提供聚焦离子束(FIB)柱和带电粒子束(CPB)成像柱,在该重合配置中,该FIB柱的FIB光轴和该CPB成像柱的CPB光轴在晶片表面重合,并且该FIB光轴和该CPB光轴之间形成配置角度GFE;1b)在该重合配置中,使用该FIB柱去除该晶片的测量部位的剖面表面层,以形成可用于成像的新剖面;1c)在沿着该CPB成像柱的轴的方向上缩短该CPB成像柱与该晶片表面之间的工作距离;1d)在缩短的该工作距离处且因此不在该重合配置中,以该CPB成像柱对该晶片的该测量部位处的该新剖面进行成像;1e)在沿着该CPB成像柱的轴的方向上增加该CPB成像柱与该晶片表面之间的该工作距离,直到达成该重合配置。