公开(公告)号：CN107850851B

公开(公告)日：2021-03-30

申请号：CN201680039893.8

申请日：2016-07-07

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： U.丁格 ,  M.霍尔兹 ,  U.比尔

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08

Abstract: 提出光刻设备(100)，其包括：产生具有特定重复频率(f1)的辐射的辐射源(106A)；在所述光刻设备(100)中引导所述辐射的光学部件(200)；位移所述光学部件(200)的致动器装置；以及测量装置(230)。在此，测量装置(230)配置为通过具有特定测量信号频率(f2)的测量信号(S2)来确定所述光学部件(200)的位置，所述测量信号频率(f2)不等于所述重复频率(f1)且不等于所述重复频率(f1)的整数倍。因此，测量装置对于电流脉冲是不灵敏的，该电流脉冲由于辐射源的使用波长(例如0.1nm至30nm)，由从光刻设备中的光学部件的表面或者从等离子体之中释放的电荷载流子来产生。进一步，提供操作光刻设备的方法。

公开(公告)号：CN110291462A

公开(公告)日：2019-09-27

申请号：CN201780085276.6

申请日：2017-02-01

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： M.霍尔兹 ,  U.比尔

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种系统(100)，其具有：产生辐射的辐射源(106A)；在系统(100)中引导辐射的多个光学元件(110、112、114、116、118)；N1个阵列(210-260)，其中N1≥1，其中N1个阵列(210-260)中的每一个包括至少一个致动器/传感器装置(311-31N、321-32N、331-33N、341-34N、351-35N、361-36N)，其与光学元件(110、112、114、116、118)之一配对；驱动N1个阵列(210-260)的N2个局部驱动单元(410、420、430、440、450、460)，其中N2≥2；以及驱动N2个局部驱动单元(410、420、430、440、450、460)的N3个中央驱动单元(510、520)，其中N3≥1。因此，防止热点并且热分布是协调且优化的。此外提供了致动器/传感器装置的冗余致动可能性，所述致动可能性增加了在故障的事情中系统的可用性。

公开(公告)号：CN107407801B

公开(公告)日：2021-03-05

申请号：CN201680018216.8

申请日：2016-03-16

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： J.霍恩 ,  S.图尔克 ,  O.诺德曼 ,  U.比尔

IPC: G02B26/08

Abstract: 一种多反射镜阵列，包括含多个被动电衰减装置(39)的可调反射镜元件(19)，用于衰减反射镜元件(19)的可调位置的不规则。

公开(公告)号：CN107407801A

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：CN201680018216.8

申请日：2016-03-16

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： J.霍恩 ,  S.图尔克 ,  O.诺德曼 ,  U.比尔

IPC: G02B26/08

Abstract: 一种多反射镜阵列，包括含多个被动电衰减装置(39)的可调反射镜元件(19)，用于衰减反射镜元件(19)的可调位置的不规则。

公开(公告)号：CN107850851A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201680039893.8

申请日：2016-07-07

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： U.丁格 ,  M.霍尔兹 ,  U.比尔

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08

CPC classification number: G03F7/70575 ,  G02B26/0833 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70116 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/7085

Abstract: 提出光刻设备(100)，其包括：产生具有特定重复频率(f1)的辐射的辐射源(106A)；在所述光刻设备(100)中引导所述辐射的光学部件(200)；位移所述光学部件(200)的致动器装置(210)；以及测量装置(230)。在此，测量装置(230)配置为通过具有特定测量信号频率(f2)的测量信号(S2)来确定所述光学部件(200)的位置，所述测量信号频率(f2)不等于所述重复频率(f1)且不等于所述重复频率(f1)的整数倍。因此，测量装置对于电流脉冲是不灵敏的，该电流脉冲由于辐射源的使用波长(例如0.1nm至30nm)，由从光刻设备中的光学部件的表面或者从等离子体之中释放的电荷载流子来产生。进一步，提供操作光刻设备的方法。

公开(公告)号：CN110291462B

公开(公告)日：2021-07-20

申请号：CN201780085276.6

申请日：2017-02-01

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： M.霍尔兹 ,  U.比尔

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种系统(100)，其具有：产生辐射的辐射源(106A)；在系统(100)中引导辐射的多个光学元件(110、112、114、116、118)；N1个阵列(210‑260)，其中N1≥1，其中N1个阵列(210‑260)中的每一个包括至少一个致动器/传感器装置(311‑31N、321‑32N、331‑33N、341‑34N、351‑35N、361‑36N)，其与光学元件(110、112、114、116、118)之一配对；驱动N1个阵列(210‑260)的N2个局部驱动单元(410、420、430、440、450、460)，其中N2≥2；以及驱动N2个局部驱动单元(410、420、430、440、450、460)的N3个中央驱动单元(510、520)，其中N3≥1。因此，防止热点并且热分布是协调且优化的。此外提供了致动器/传感器装置的冗余致动可能性，所述致动可能性增加了在故障的事情中系统的可用性。

公开(公告)号：CN107924139B

公开(公告)日：2020-06-09

申请号：CN201680049606.1

申请日：2016-08-19

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： U.比尔 ,  M.霍尔兹 ,  J.霍恩

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08 ,  G01D5/24

Abstract: 一种传感器布置(1)，用于检测在光刻系统中的光学元件的位置，其中传感器布置(1)包括：第一电容传感器装置(2)，其具有借助第一激励信号(Vex1)可以检测的位置相关可变的第一传感器电容(CCS1)；第二电容传感器装置(3)，其具有借助第二激励信号(Vex2)可以检测的位置相关可变的第二传感器电容(CCS2)；以及控制装置(8)，其配置为产生第一激励信号和第二激励信号(Vex1、Vex2)，以这样的方式，在与第一传感器装置(2)关联的寄生电容上存在的电荷至少部分地使用与第二传感器装置(3)关联的寄生电容上存在的电荷经由在第一激励信号路径和/或第二激励信号路径外侧的信号路径来补偿。传感器布置可以有利地用于光刻系统中，并且使能传感器元件和制动器的高读取与致动频率。

公开(公告)号：CN107924139A

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201680049606.1

申请日：2016-08-19

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： U.比尔 ,  M.霍尔兹 ,  J.霍恩

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08 ,  G01D5/24

Abstract: 一种传感器布置(1)，用于检测在光刻系统中的光学元件的位置，其中传感器布置(1)包括：第一电容传感器装置(2)，其具有借助第一激励信号(Vex1)可以检测的位置相关可变的第一传感器电容(CCS1)；第二电容传感器装置(3)，其具有借助第二激励信号(Vex2)可以检测的位置相关可变的第二传感器电容(CCS2)；以及控制装置(8)，其配置为产生第一激励信号和第二激励信号(Vex1、Vex2)，以这样的方式，在与第一传感器装置(2)关联的寄生电容上存在的电荷至少部分地使用与第二传感器装置(3)关联的寄生电容上存在的电荷经由在第一激励信号路径和/或第二激励信号路径外侧的信号路径来补偿。传感器布置可以有利地用于光刻系统中，并且使能传感器元件和制动器的高读取与致动频率。