基板的支撑装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101307436B

    公开(公告)日:2010-09-15

    申请号:CN200810128964.9

    申请日:2008-06-23

    IPC分类号: C23C16/458

    摘要: 本发明公开了一种基板的支撑装置,包含:四个第一支撑座支撑基板的第一空白区与第二空白区其中之一,至少一个第二支撑座支撑基板的第一空白区其中之一,一座体设置第一支撑座及第二支撑座,经由第一支撑座与第二支撑座的特定设置,藉此避免基板受损或破片,以及避免在化学气相沉积(CVD)制程中基板的面板区产生色差等问题,更可以直接对应到不同尺寸的面板设计,而不需变更支撑座的位置。

    等离子体处理装置及其上电极板

    公开(公告)号:CN101296554A

    公开(公告)日:2008-10-29

    申请号:CN200810125200.4

    申请日:2008-06-19

    摘要: 本发明涉及一种等离子体处理装置及其上电极板,该上电极板安装于腔体内,腔体设置有托板,上电极板包含:第一表面;第二表面,对应第一表面;至少一个气体扩散孔,由第一表面延伸至第二表面,用以导入制程气体;及至少一个定位孔,位于第一表面而未延伸至第二表面,用以锁入锁固元件而定位于托板。本发明以锁固元件将上电极板定位于托板,防止上电极在长期使用的情况下产生弯曲的问题,并将上电极板的定位孔以封孔设计(定位孔位于第一表面上而未延伸至第二表面)或设置封孔块,以此避免制程气体中的离子累积于上电极的锁固元件处而造成产品产生色差,以此提升产品的质量与合格率。

    等离子体处理装置及其上电极板

    公开(公告)号:CN101296554B

    公开(公告)日:2011-01-26

    申请号:CN200810125200.4

    申请日:2008-06-19

    摘要: 本发明涉及一种等离子体处理装置及其上电极板,该上电极板安装于腔体内,腔体设置有托板,上电极板包含:第一表面;第二表面,对应第一表面;至少一个气体扩散孔,由第一表面延伸至第二表面,用以导入制程气体;及至少一个定位孔,位于第一表面而未延伸至第二表面,用以锁入锁固元件而定位于托板。本发明以锁固元件将上电极板定位于托板,防止上电极在长期使用的情况下产生弯曲的问题,并将上电极板的定位孔以封孔设计(定位孔位于第一表面上而未延伸至第二表面)或设置封孔块,以此避免制程气体中的离子累积于上电极的锁固元件处而造成产品产生色差,以此提升产品的质量与合格率。

    基板的支撑装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101307436A

    公开(公告)日:2008-11-19

    申请号:CN200810128964.9

    申请日:2008-06-23

    IPC分类号: C23C16/458

    摘要: 本发明公开了一种基板的支撑装置,包含:四个第一支撑座支撑基板的第一空白区与第二空白区其中之一,至少一个第二支撑座支撑基板的第一空白区其中之一,一座体设置第一支撑座及第二支撑座,经由第一支撑座与第二支撑座的特定设置,藉此避免基板受损或破片,以及避免在化学气相沉积(CVD)制程中基板的面板区产生色差等问题,更可以直接对应到不同尺寸的面板设计,而不需变更支撑座的位置。