光学膜及其制备方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118475641A

    公开(公告)日:2024-08-09

    申请号:CN202280086181.7

    申请日:2022-04-27

    Inventor: 朴晓准 郑鹤基

    Abstract: 本发明涉及一种光学膜及其制备方法,所述光学膜包含聚合物树脂,所述聚合物树脂包含酰亚胺重复单元和酰胺重复单元,相对于所述酰亚胺重复单元和所述酰胺重复单元,所述酰胺重复单元以至少80%的比例被包含。

    透明电极
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102160123B

    公开(公告)日:2013-03-27

    申请号:CN200980136236.5

    申请日:2009-09-22

    Abstract: 本发明公开了一种透明电极,包括:聚酰亚胺膜,所述聚酰亚胺膜具有50.0ppm/℃或更小的平均线性热膨胀系数和15或更小的黄度,所述平均线性热膨胀系数是基于50~100μm的膜厚度在温度50~250℃通过热机械分析测得的;以及电极层,该电极层包括导电材料和具有50.0ppm/℃或更小的平均线性热膨胀系数和15或更小的黄度的聚酰亚胺树脂,所述平均线性热膨胀系数是基于50~100μm的膜厚度在温度50~250℃通过热机械分析测得的。所述透明电极的优点在于因为它具有良好的耐热性,所以尽管当包括所述透明电极的装置过热时,也不会发生短路,并且所述透明电极的优点还在于它是透明的并且具有高导电性。

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