公开(公告)号：CN117286450A

公开(公告)日：2023-12-26

申请号：CN202311278867.9

申请日：2023-09-28

申请人： 台州学院 ,  温岭工联工量刃具科技服务有限公司

发明人： 张平 ,  俞健健 ,  应普友 ,  吴建波 ,  杨涛 ,  林长红 ,  弗拉基米尔·列夫琴科

IPC分类号： C23C14/06 ,  C23C14/32 ,  C23C14/35 ,  C23C14/16 ,  D05B55/00

摘要： 本发明涉及润滑涂层技术领域，具体涉及一种AlTiN‑WS2低摩擦系数耐磨涂层及其制备方法。具体技术方案为：一种AlTiN‑WS2低摩擦系数耐磨涂层的制备方法，包括以下步骤：(1)将预处理的基体利用钛离子弧靶进行钛离子清洗；(2)利用多弧离子镀在基体上沉积钛过渡层；(3)打开AlTi合金离子弧靶沉积AlTiN涂层；(4)打开高功率脉冲磁控溅射分别制备Ti层和WS2层。通过利用多弧离子镀预先沉积AlTiN硬质层，然后在此基础上利用HiPIMS沉积WS2固体润滑层，制备出具有低摩擦系数的耐磨涂层。

公开(公告)号：CN117265477A

公开(公告)日：2023-12-22

申请号：CN202311277314.1

申请日：2023-09-28

申请人： 台州学院

发明人： 张平 ,  俞健健 ,  应普友 ,  吴建波 ,  杨涛 ,  林长红 ,  弗拉基米尔·列夫琴科

IPC分类号： C23C14/06 ,  C23C14/35 ,  C23C14/16 ,  C23C14/18

摘要： 本发明提供了一种WS2固体润滑薄膜的HiPIMS制备方法，属于金属材料表面改性用固体润滑薄膜技术领域。本发明提供的制备方法包括以下步骤：(1)在WS2靶表面沉积金属导电薄膜；(2)利用磁场溅射掉WS2靶表面有效溅射区域的金属导电薄膜；(3)利用步骤(2)所得WS2靶通过高功率脉冲磁控溅射技术制备WS2固体润滑薄膜。该方法可以实现WS2靶的稳定起辉，利用HiPIMS沉积能量高的特点，制备出高致密度、耐磨性能优异的WS2薄膜。