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公开(公告)号：CN112395820A
公开(公告)日：2021-02-23
申请号：CN202010222985.8
申请日：2020-03-26
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G06F30/392 , G06F30/398 , G06F115/06
Abstract: 本公开描述用于确定性方法的系统、方法以及装置，确定性方法包括接收具有若干层的半导体装置的初始布局。识别与第一层相关联的第一设计规则的违例。设计规则编译包括与每一层相关联的多个设计规则。基于多个设计规则来生成多个衍生层。每一衍生层包括半导体装置的一个或多个层，其中对一个层的物理移动影响另一层。指定与多个层中的第二层相关联的禁区。生成具有与初始布局不同地定向的多个层的新布局，使得没有层在禁区内突出。
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