光刻方法以及光刻系统
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110658681A

    公开(公告)日:2020-01-07

    申请号:CN201910220084.2

    申请日:2019-03-22

    Inventor: 廖啟宏 郑威昌

    Abstract: 一种光刻方法以及光刻系统,光刻方法包含:经由距形成于第一晶圆上的第一目标层第一距离的喷嘴将第一液体涂布至第一目标层上;撷取第一目标层上的第一液体的影像;在撷取第一液体的影像之后图案化第一目标层;比较第一液体的经撷取的影像与第一参考影像以产生第一比较结果;依据第一比较结果,定位喷嘴及第二晶圆以使得喷嘴距离第二晶圆上的第二目标层第二距离;经由距离第二目标层第二距离的喷嘴将第二液体涂布至形成于第二晶圆上的第二目标层上;以及在涂布第二液体之后图案化第二目标层。

    基板传送系统及方法
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109693908B

    公开(公告)日:2021-12-07

    申请号:CN201710995150.4

    申请日:2017-10-23

    Inventor: 郑威昌 廖启宏

    Abstract: 本公开提供一种基板传送系统,包括皮带、滚轮、基板传送组件、位置感测器、及驱动机构。滚轮配置用以带动皮带滚动。基板传送组件连接皮带并用以传送基板。位置感测器配置用以检测皮带在滚轮的轮轴方向上的位置。驱动机构配置用以驱动滚轮沿着轮轴方向移动,使得皮带保持在轮轴方向上的一既定位置范围内。本公开提供的基板传送系统可以延长皮带的使用寿命及降低皮带突然断裂的机会(亦即,提高基板传送系统的信赖度及可利用性),降低基板的报废率,并提高各制程的良率。

    温度控制装置及用于形成光刻胶层的方法

    公开(公告)号:CN110098135B

    公开(公告)日:2022-11-15

    申请号:CN201810224649.X

    申请日:2018-03-19

    Inventor: 廖启宏 郑威昌

    Abstract: 一种温度控制装置包括台板、流体源、冷却器、第一管道及第二管道。所述流体源供应流体。所述冷却器耦合到所述流体源,以将所述流体源中的所述流体冷却到冷却温度。所述第一管道包括与所述流体源流体连通的第一入口、第一出口及将所述流体从所述冷却温度加热到第一加热温度的第一加热器。经过所述第一加热器加热的所述流体通过所述第一出口分配到所述台板上。所述第二管道包括与所述流体源流体连通的第二入口、第二出口及将所述流体从所述冷却温度加热到第二加热温度的第二加热器,所述第二加热温度不同于所述第一加热温度。经过所述第二加热器加热的所述流体通过所述第二出口分配到所述台板上。

    光刻方法以及光刻系统
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110658681B

    公开(公告)日:2022-10-11

    申请号:CN201910220084.2

    申请日:2019-03-22

    Inventor: 廖啟宏 郑威昌

    Abstract: 一种光刻方法以及光刻系统,光刻方法包含:经由距形成于第一晶圆上的第一目标层第一距离的喷嘴将第一液体涂布至第一目标层上;撷取第一目标层上的第一液体的影像;在撷取第一液体的影像之后图案化第一目标层;比较第一液体的经撷取的影像与第一参考影像以产生第一比较结果;依据第一比较结果,定位喷嘴及第二晶圆以使得喷嘴距离第二晶圆上的第二目标层第二距离;经由距离第二目标层第二距离的喷嘴将第二液体涂布至形成于第二晶圆上的第二目标层上;以及在涂布第二液体之后图案化第二目标层。

    基板传送系统及方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109693908A

    公开(公告)日:2019-04-30

    申请号:CN201710995150.4

    申请日:2017-10-23

    Inventor: 郑威昌 廖启宏

    Abstract: 本公开提供一种基板传送系统,包括皮带、滚轮、基板传送组件、位置感测器、及驱动机构。滚轮配置用以带动皮带滚动。基板传送组件连接皮带并用以传送基板。位置感测器配置用以检测皮带在滚轮的轮轴方向上的位置。驱动机构配置用以驱动滚轮沿着轮轴方向移动,使得皮带保持在轮轴方向上的一既定位置范围内。本公开提供的基板传送系统可以延长皮带的使用寿命及降低皮带突然断裂的机会(亦即,提高基板传送系统的信赖度及可利用性),降低基板的报废率,并提高各制程的良率。

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