公开(公告)号：CN114798655A

公开(公告)日：2022-07-29

申请号：CN202210042721.3

申请日：2022-01-14

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 张钧凯 ,  江育昇 ,  刘育德 ,  杨基 ,  黄清俊 ,  郑博中

IPC: B08B13/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本申请提供一种极紫外光源、辐射源及其装置，极紫外光源包括模块容器及洗涤系统。洗涤系统在模块容器中可以包括多个槽。多个槽可以包括第一槽及第二槽。模块容器中第二槽可能低于第一槽。第二槽的单位体积大于第一槽的单位体积。

公开(公告)号：CN114698216A

公开(公告)日：2022-07-01

申请号：CN202210089458.3

申请日：2022-01-25

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 张钧凯 ,  江育昇 ,  刘育德 ,  杨基 ,  黄清俊 ,  郑博中

IPC: H05G2/00 ,  G03F7/20

Abstract: 一种极紫外源、改善不对称沉积的方法、及辐射源，控制系统包含数个压力感测器，每个压力感测器侦测数个动态气锁喷嘴控制区的相应动态气锁分嘴控制区中的压力。每个动态气锁喷嘴控制区包含一或多个动态气锁喷嘴。此控制系统包含数个质量流动控制器。数个质量流动控制器的每个质量流动控制器控制数个动态气锁喷嘴控制区的相应动态气锁跟嘴控制区中的流速。此控制系统包含控制器，以根据数个动态气锁喷嘴控制区的动态气锁控制区中的数个压力感测器所侦测的压力，选择性地使数个质量流动控制器的一或多个质量流动控制器调整数个动态气锁喷嘴控制区的一或多个动态气锁控制区中的流速。

公开(公告)号：CN114698216B

公开(公告)日：2025-04-18

申请号：CN202210089458.3

申请日：2022-01-25

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 张钧凯 ,  江育昇 ,  刘育德 ,  杨基 ,  黄清俊 ,  郑博中

IPC: H05G2/00 ,  G03F7/20

Abstract: 一种极紫外源、改善不对称沉积的方法、及辐射源，控制系统包含数个压力感测器，每个压力感测器侦测数个动态气锁喷嘴控制区的相应动态气锁分嘴控制区中的压力。每个动态气锁喷嘴控制区包含一或多个动态气锁喷嘴。此控制系统包含数个质量流动控制器。数个质量流动控制器的每个质量流动控制器控制数个动态气锁喷嘴控制区的相应动态气锁跟嘴控制区中的流速。此控制系统包含控制器，以根据数个动态气锁喷嘴控制区的动态气锁控制区中的数个压力感测器所侦测的压力，选择性地使数个质量流动控制器的一或多个质量流动控制器调整数个动态气锁喷嘴控制区的一或多个动态气锁控制区中的流速。

公开(公告)号：CN114798655B

公开(公告)日：2024-05-03

申请号：CN202210042721.3

申请日：2022-01-14

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 张钧凯 ,  江育昇 ,  刘育德 ,  杨基 ,  黄清俊 ,  郑博中

IPC: B08B13/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本申请提供一种极紫外光源、辐射源及其装置，极紫外光源包括模块容器及洗涤系统。洗涤系统在模块容器中可以包括多个槽。多个槽可以包括第一槽及第二槽。模块容器中第二槽可能低于第一槽。第二槽的单位体积大于第一槽的单位体积。