公开(公告)号：CN118778373A

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202410763023.1

申请日：2024-06-13

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈名薪 ,  陈梓文 ,  杨基 ,  林耀堂 ,  苏健元

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种微影系统的方法，包含：其在转移光罩组至与基板的区域有关的位置时，通过框架保护光罩组的光罩。该框架有小于聚焦平面的高度，该聚焦平面和选择的粒子大小有关；引导极紫外光辐射至光罩，反射带有光罩图案的辐射至光罩层；根据图案，在光罩层底下生成半导体元件的特征。

公开(公告)号：CN110967940B

公开(公告)日：2024-04-12

申请号：CN201910927816.1

申请日：2019-09-27

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 黄昱智 ,  杨基 ,  许哲彰 ,  陈立锐 ,  郑博中

IPC: G03F7/20

Abstract: 揭露了一种用于极紫外(EUV)辐射源的数据匹配模块控制反馈系统的方法。方法包括获得狭缝整合能量(SLIE)感测器数据及绕射光学元件(DOE)数据。方法通过数据匹配模块执行SLIE感测器数据及DOE数据的时间差的数据匹配，以识别SLIE感测器数据及DOE数据的不匹配集合。方法亦决定不匹配集合的SLIE感测器数据及DOE数据的时间差是否在可接受的范围内。基于此决定，方法自动地验证不匹配集合的可配置数据，使得不匹配集合的SLIE感测器数据对反射率计算有效。

公开(公告)号：CN110967937B

公开(公告)日：2022-05-27

申请号：CN201910924598.6

申请日：2019-09-27

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈思妤 ,  许哲彰 ,  杨基 ,  简上傑 ,  陈立锐 ,  郑博中

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种操作极紫外光产生装置的方法及极紫外辐射产生装置。本揭露的一实施方式提供一种用于产生极紫外(EUV)辐射的源，此辐射源包括围绕低气压环境的腔室。进气口经配置以在腔室中提供清洗气体。将多个排气口提供至腔室，每个排气口具有对应闸阀，闸阀包括对应于将腔室与EUV扫描器分隔的排气口的扫描器闸阀。压力感测器设置在腔室内部并邻近于扫描器闸阀。控制器经配置以基于压力感测器的输出来控制除扫描器闸阀之外的闸阀。如此一来，用于产生极紫外(EUV)辐射的源将可具有较长的寿命。

公开(公告)号：CN109581819A

公开(公告)日：2019-04-05

申请号：CN201811094242.6

申请日：2018-09-19

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 杨基 ,  陈思妤 ,  简上杰 ,  谢劼 ,  傅中其 ,  刘柏村 ,  陈立锐 ,  郑博中

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明实施例提供一种放射源设备。上述放射源设备包括一腔室、一标靶液滴产生器、一排气模块、一测量装置以及一控制器。标靶液滴产生器配置以提供多个标靶液滴至腔室。排气模块配置以根据一第一气体流量而将对应于上述标靶液滴的碎屑抽出上述腔室。测量装置配置以测量在腔室中碎屑的浓度。控制器耦接于测量装置与排气模块，并配置以根据碎屑的所测量的浓度而调整第一气体流量。

公开(公告)号：CN114698216B

公开(公告)日：2025-04-18

申请号：CN202210089458.3

申请日：2022-01-25

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 张钧凯 ,  江育昇 ,  刘育德 ,  杨基 ,  黄清俊 ,  郑博中

IPC: H05G2/00 ,  G03F7/20

Abstract: 一种极紫外源、改善不对称沉积的方法、及辐射源，控制系统包含数个压力感测器，每个压力感测器侦测数个动态气锁喷嘴控制区的相应动态气锁分嘴控制区中的压力。每个动态气锁喷嘴控制区包含一或多个动态气锁喷嘴。此控制系统包含数个质量流动控制器。数个质量流动控制器的每个质量流动控制器控制数个动态气锁喷嘴控制区的相应动态气锁跟嘴控制区中的流速。此控制系统包含控制器，以根据数个动态气锁喷嘴控制区的动态气锁控制区中的数个压力感测器所侦测的压力，选择性地使数个质量流动控制器的一或多个质量流动控制器调整数个动态气锁喷嘴控制区的一或多个动态气锁控制区中的流速。

公开(公告)号：CN114798655B

公开(公告)日：2024-05-03

申请号：CN202210042721.3

申请日：2022-01-14

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 张钧凯 ,  江育昇 ,  刘育德 ,  杨基 ,  黄清俊 ,  郑博中

IPC: B08B13/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本申请提供一种极紫外光源、辐射源及其装置，极紫外光源包括模块容器及洗涤系统。洗涤系统在模块容器中可以包括多个槽。多个槽可以包括第一槽及第二槽。模块容器中第二槽可能低于第一槽。第二槽的单位体积大于第一槽的单位体积。

公开(公告)号：CN115857278A

公开(公告)日：2023-03-28

申请号：CN202210788198.9

申请日：2022-07-04

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 颜炜峻 ,  杨基 ,  余昇刚 ,  简上杰 ,  陈立锐 ,  刘恒信

IPC: G03F7/20

Abstract: 在实施例中，一种方法包括：加热极紫外源的副产物运输环，副产物运输环设置在极紫外源的叶片下方；在加热副产物运输环第一持续时间后，加热叶片；加热叶片后，冷却叶片；在冷却叶片第二持续时间后，冷却副产物运输环。本申请的实施例提供了光刻仪器和方法。

公开(公告)号：CN110967941A

公开(公告)日：2020-04-07

申请号：CN201910927930.4

申请日：2019-09-27

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 赖恩浩 ,  杨基 ,  简上傑 ,  陈立锐 ,  郑博中

IPC: G03F7/20

Abstract: 本案提供一种用于监视流动参数的方法，包括以下步骤：利用来自液滴照明模组的光照射极紫外光刻工具的极紫外光源中的靶液滴。侦测由靶液滴反射及/或散射的光。执行粒子影像测速以监视极紫外光源内部的一或多个流动参数。

公开(公告)号：CN110967940A

公开(公告)日：2020-04-07

申请号：CN201910927816.1

申请日：2019-09-27

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 黄昱智 ,  杨基 ,  许哲彰 ,  陈立锐 ,  郑博中

IPC: G03F7/20

Abstract: 揭露了一种用于极紫外(EUV)辐射源的数据匹配模块控制反馈系统的方法。方法包括获得狭缝整合能量(SLIE)感测器数据及绕射光学元件(DOE)数据。方法通过数据匹配模块执行SLIE感测器数据及DOE数据的时间差的数据匹配，以识别SLIE感测器数据及DOE数据的不匹配集合。方法亦决定不匹配集合的SLIE感测器数据及DOE数据的时间差是否在可接受的范围内。基于此决定，方法自动地验证不匹配集合的可配置数据，使得不匹配集合的SLIE感测器数据对反射率计算有效。

公开(公告)号：CN110967937A

公开(公告)日：2020-04-07

申请号：CN201910924598.6

申请日：2019-09-27

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈思妤 ,  许哲彰 ,  杨基 ,  简上傑 ,  陈立锐 ,  郑博中

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种操作极紫外光产生装置的方法及极紫外辐射产生装置。本揭露的一实施方式提供一种用于产生极紫外(EUV)辐射的源，此辐射源包括围绕低气压环境的腔室。进气口经配置以在腔室中提供清洗气体。将多个排气口提供至腔室，每个排气口具有对应闸阀，闸阀包括对应于将腔室与EUV扫描器分隔的排气口的扫描器闸阀。压力感测器设置在腔室内部并邻近于扫描器闸阀。控制器经配置以基于压力感测器的输出来控制除扫描器闸阀之外的闸阀。如此一来，用于产生极紫外(EUV)辐射的源将可具有较长的寿命。