公开(公告)号：CN104556660A

公开(公告)日：2015-04-29

申请号：CN201510046200.5

申请日：2015-01-29

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 井杨坤 ,  张玉 ,  洪良

IPC分类号： C03B33/037

CPC分类号： Y02P40/57

摘要： 本发明提供一种支撑柱的高度调节装置，其包括第一驱动机构和高度检测机构，其中，第一驱动机构用于驱动所述支撑柱作升降运动；高度检测机构用于实时检测所述支撑柱的高度。本发明提供的支撑柱的高度调节装置，其可以精确地调节支撑柱的高度，从而可以避免在使用切割机对玻璃进行切割时，往往造成切割机的刀轮与支撑柱发生干涉的问题。

公开(公告)号：CN104483774B

公开(公告)日：2017-07-21

申请号：CN201410810290.6

申请日：2014-12-22

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 井杨坤 ,  吴卫民 ,  洪良 ,  李桂

IPC分类号： G02F1/1333 ,  B25J19/00

CPC分类号： G02F1/1303 ,  B30B1/38 ,  B30B15/06 ,  B30B15/065 ,  B30B15/067 ,  B32B37/0046 ,  B32B37/10 ,  B32B38/1841 ,  B32B38/1858 ,  B32B38/1866 ,  B32B2457/20 ,  G02F2001/133354

摘要： 本发明提供一种真空对盒装置及对盒方法。该真空对盒装置包括上机台和下机台，还包括：设置于上机台且平行排列的多个第一压盒单元，包括朝向下机台的第一端面，且每一第一压盒单元对应待对盒上基板的一个子区域设置；设置于下机台且平行排列的多个第二压盒单元，包括朝向上机台的第二端面，且每一第二压盒单元对应待对盒下基板的一个子区域设置；调节机构，用于调节第一压盒单元，使各个第一端面组合形成为与上基板相对应的形状；以及调节第二压盒单元，使各个第二端面组合形成与下基板相对应的形状。该真空对盒装置能够对盒多种曲度的基板，且压盒单元的端面形状与待压盒基板的形状匹配，与待对盒基板贴合，能够保证对盒质量及对盒的精确度。

公开(公告)号：CN104556660B

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：CN201510046200.5

申请日：2015-01-29

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 井杨坤 ,  张玉 ,  洪良

IPC分类号： C03B33/037

CPC分类号： Y02P40/57

摘要： 本发明提供一种支撑柱的高度调节装置，其包括第一驱动机构和高度检测机构，其中，第一驱动机构用于驱动所述支撑柱作升降运动；高度检测机构用于实时检测所述支撑柱的高度。本发明提供的支撑柱的高度调节装置，其可以精确地调节支撑柱的高度，从而可以避免在使用切割机对玻璃进行切割时，往往造成切割机的刀轮与支撑柱发生干涉的问题。

公开(公告)号：CN104483774A

公开(公告)日：2015-04-01

申请号：CN201410810290.6

申请日：2014-12-22

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 井杨坤 ,  吴卫民 ,  洪良 ,  李桂

IPC分类号： G02F1/1333 ,  B25J19/00

CPC分类号： G02F1/1303 ,  B30B1/38 ,  B30B15/06 ,  B30B15/065 ,  B30B15/067 ,  B32B37/0046 ,  B32B37/10 ,  B32B38/1841 ,  B32B38/1858 ,  B32B38/1866 ,  B32B2457/20 ,  G02F2001/133354

摘要： 本发明提供一种真空对盒装置及对盒方法。该真空对盒装置包括上机台和下机台，还包括：设置于上机台且平行排列的多个第一压盒单元，包括朝向下机台的第一端面，且每一第一压盒单元对应待对盒上基板的一个子区域设置；设置于下机台且平行排列的多个第二压盒单元，包括朝向上机台的第二端面，且每一第二压盒单元对应待对盒下基板的一个子区域设置；调节机构，用于调节第一压盒单元，使各个第一端面组合形成为与上基板相对应的形状；以及调节第二压盒单元，使各个第二端面组合形成与下基板相对应的形状。该真空对盒装置能够对盒多种曲度的基板，且压盒单元的端面形状与待压盒基板的形状匹配，与待对盒基板贴合，能够保证对盒质量及对盒的精确度。

公开(公告)号：CN204256329U

公开(公告)日：2015-04-08

申请号：CN201420818581.5

申请日：2014-12-22

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 井杨坤 ,  吴卫民 ,  洪良 ,  李桂

IPC分类号： G02F1/1333 ,  B25J19/00

摘要： 本实用新型提供一种真空对盒装置。该真空对盒装置包括上机台和下机台，还包括：设置于上机台且平行排列的多个第一压盒单元，包括朝向下机台的第一端面，且每一第一压盒单元对应待对盒上基板的一个子区域设置；设置于下机台且平行排列的多个第二压盒单元，包括朝向上机台的第二端面，且每一第二压盒单元对应待对盒下基板的一个子区域设置；调节机构，用于调节第一压盒单元，使各个第一端面组合形成为与上基板相对应的形状；以及调节第二压盒单元，使各个第二端面组合形成与下基板相对应的形状。该真空对盒装置能够对盒多种曲度的基板，且压盒单元的端面形状与待压盒基板的形状匹配，与待对盒基板贴合，能够保证对盒质量及对盒的精确度。

公开(公告)号：CN110129722A

公开(公告)日：2019-08-16

申请号：CN201910544833.7

申请日：2019-06-21

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  成都京东方光电科技有限公司

发明人： 杨博文 ,  张文畅 ,  万宝红 ,  张忠忠 ,  洪良 ,  陈铖

IPC分类号： C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H01L51/56

摘要： 本申请提供了一种掩膜板组件及其制备方法。该掩膜板组件包括：框架和至少两个第一掩膜条；各第一掩膜条设置于框架的两个相对边框之间；每个第一掩膜条相对于参照位置的偏移量均在目标偏移范围内。本申请实施例中的每个第一掩膜条的偏移量均在目标偏移范围内，在框架产生类平等四边形形变的情况下，所形成的掩膜板组件的整体形变减小，以减小或抵挡掉框架形变的影响，应用本申请实施例提供的掩膜板组件，可提高蒸镀单元的PPA，提升掩膜板组件的使用效果和产品良率。