玻璃板切割装置及方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103708714B

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201310738691.0

    申请日:2013-12-27

    IPC分类号: C03B33/02

    摘要: 本发明的实施例提供一种玻璃板切割装置及方法,玻璃板可用作液晶显示器件等的玻璃母板,尤其涉及液晶显示技术领域,用来解决现有技术中不能顺利去除零切割边设计显示面板产生的残材以及分离下来的残材不能够及时的从切割基台流进玻璃收集箱而造成基台堵塞的问题。本发明公开的玻璃板切割装置包括切割单元、供给单元和喷射单元,所述方法首先利用切割单元对所述玻璃板周边残材进行切割,再利用供给单元所提供的高压冲击流体,在不使用硬件接触玻璃板,同时也不会损伤玻璃板边缘的前提下,利用高压冲击流体使玻璃板膨胀并与周边切割残材进行分离,然后利用冲击流体的冲力作用去除与玻璃板分离的周边切割残材。

    隔垫物检测装置及方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103698917B

    公开(公告)日:2016-04-06

    申请号:CN201310736246.0

    申请日:2013-12-26

    IPC分类号: G02F1/13

    摘要: 本发明公开了一种隔垫物检测装置及方法。该方法包括:产生透过带有隔垫物的基板的X射线,接收透过基板的X射线并形成灰度图像;利用灰度图像测量隔垫物的高度。本发明采用X射线成像原理对彩膜基板上的隔垫物进行检测,利用X射线荧光转换装置产生可见光并生成灰度图像,对灰度图像进行识别处理,能准确测量隔垫物的高度,并且可以检测隔垫物的内部及连接状态。

    隔垫物检测装置及方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103698917A

    公开(公告)日:2014-04-02

    申请号:CN201310736246.0

    申请日:2013-12-26

    IPC分类号: G02F1/13

    摘要: 本发明公开了一种隔垫物检测装置及方法。该方法包括:产生透过带有隔垫物的基板的X射线,接收透过基板的X射线并形成灰度图像;利用灰度图像测量隔垫物的高度。本发明采用X射线成像原理对彩膜基板上的隔垫物进行检测,利用X射线荧光转换装置产生可见光并生成灰度图像,对灰度图像进行识别处理,能准确测量隔垫物的高度,并且可以检测隔垫物的内部及连接状态。

    玻璃板切割装置及方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103708714A

    公开(公告)日:2014-04-09

    申请号:CN201310738691.0

    申请日:2013-12-27

    IPC分类号: C03B33/02

    摘要: 本发明的实施例提供一种玻璃板切割装置及方法,玻璃板可用作液晶显示器件等的玻璃母板,尤其涉及液晶显示技术领域,用来解决现有技术中不能顺利去除零切割边设计显示面板产生的残材以及分离下来的残材不能够及时的从切割基台流进玻璃收集箱而造成基台堵塞的问题。本发明公开的玻璃板切割装置包括切割单元、供给单元和喷射单元,所述方法首先利用切割单元对所述玻璃板周边残材进行切割,再利用供给单元所提供的高压冲击流体,在不使用硬件接触玻璃板,同时也不会损伤玻璃板边缘的前提下,利用高压冲击流体使玻璃板膨胀并与周边切割残材进行分离,然后利用冲击流体的冲力作用去除与玻璃板分离的周边切割残材。

    真空对盒装置
    9.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204256329U

    公开(公告)日:2015-04-08

    申请号:CN201420818581.5

    申请日:2014-12-22

    IPC分类号: G02F1/1333 B25J19/00

    摘要: 本实用新型提供一种真空对盒装置。该真空对盒装置包括上机台和下机台,还包括:设置于上机台且平行排列的多个第一压盒单元,包括朝向下机台的第一端面,且每一第一压盒单元对应待对盒上基板的一个子区域设置;设置于下机台且平行排列的多个第二压盒单元,包括朝向上机台的第二端面,且每一第二压盒单元对应待对盒下基板的一个子区域设置;调节机构,用于调节第一压盒单元,使各个第一端面组合形成为与上基板相对应的形状;以及调节第二压盒单元,使各个第二端面组合形成与下基板相对应的形状。该真空对盒装置能够对盒多种曲度的基板,且压盒单元的端面形状与待压盒基板的形状匹配,与待对盒基板贴合,能够保证对盒质量及对盒的精确度。

    一种湿法刻蚀排气系统及湿法刻蚀装置

    公开(公告)号:CN106876304A

    公开(公告)日:2017-06-20

    申请号:CN201710104091.7

    申请日:2017-02-24

    IPC分类号: H01L21/67

    摘要: 本发明公开了一种湿法刻蚀排气系统及湿法刻蚀装置,涉及湿法刻蚀技术领域,解决了现有湿法刻蚀设备的腔体的抽换气系统调节能力有限,无法在保证湿法刻蚀工艺需求的情况下,保证腔体内的压力平衡,从而导致挥发性酸性气体以及反应副产物气体泄漏到腔体外部,对技术人员造成伤害,对环境造成污染的技术问题。该湿法刻蚀排气系统包括:抽换气管道和罩在湿法刻蚀设备的腔体的腔门上的真空罩体;其中,抽换气管道与所述腔体相连,真空罩体与所述抽换气管道相连;抽换气管道通过第一阀控单元与腔体连通,抽换气管道通过第二阀控单元与所述真空罩体连通。本发明应用于湿法刻蚀。