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公开(公告)号：CN111956006B
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202010915660.8
申请日：2020-09-03
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明实施例提供了一种睡眠舱和睡眠舱的枕头调节方法，所述睡眠舱具体包括：底座；舱体，所述舱体固定于所述底座上；枕头，所述枕头设置于所述舱体的底部，所述枕头包括多个升降单元，每个所述升降单元上设置有压力传感器，所述压力传感器用于采集用户的头部作用于所述升降单元的压力；距离检测装置，所述距离检测装置环绕所述舱体的内壁设置，所述距离检测装置用于检测用户与所述舱体的内壁之间的距离；控制模块，所述控制模块分别与每个所述升降单元、所述距离检测装置电连接。本申请实施例中，所述睡眠舱可以预防用户出现扁头、矫正用户的扁头或者按摩用户的头部，提高所述睡眠舱的功能丰富性。
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公开(公告)号：CN107728386B
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN201711025150.8
申请日：2017-10-27
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1337
摘要： 本发明提供一种转印版预处理装置和转印设备。该转印版预处理装置包括相对应设置的主动辊和压动辊，主动辊包括加热层，用于对展设于其上的转印版进行加热，压动辊用于对展设于主动辊上的转印版进行挤压，以提高转印版的浸润性。该转印版预处理装置能在微观上增大转印版网孔层网孔的坡度角，从而在宏观上减小转印液与转印版之间的接触角，提高转印版的延展性以及网孔层的弹性，进而使转印液更易润湿转印版的网孔层，改善转印版的浸润性，有利于转印液在转印版上的铺展，提高转印液的转印效果和转印液转印后形成的膜层的厚度均一性；同时，能够缩短转印版的浸润工序所需的时间，提高转印版预处理装置的稼动率，并使转印版的浸润效果能更持久保持。
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公开(公告)号：CN108227257A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201810117796.7
申请日：2018-02-06
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
发明人： 田维
IPC分类号： G02F1/13
CPC分类号： G02F1/1303
摘要： 本发明提供一种减薄装置及减薄方法，利用承载装置固定显示面板，利用高度调节装置调节显示面板与液体仓内侵蚀液之间的距离，通过使显示面板的第一基板分阶段与侵蚀液接触，逐步减薄第一基板，其中，在第一减薄阶段实现初步减薄，在第二减薄阶段实现快速减薄，在第三减薄阶段实现微减薄，这样第一基板上的缺陷不会过早被侵蚀液完全侵蚀，从而避免缺陷放大，相应的，无需额外进行抛光工序即可消除显示面板表面的凹点、划伤等不良，简化显示面板减薄工序，而且能够避免抛光工序产生的碎屑问题，从而增加产品良率，提高显示效果。
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公开(公告)号：CN108214235A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201810004707.8
申请日：2018-01-03
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
发明人： 田维
IPC分类号： B24B27/00 , B24B41/053 , B24B51/00 , B24B41/06
CPC分类号： B24B27/0076 , B24B41/053 , B24B41/06 , B24B51/00
摘要： 本发明涉及一种抛光装置，包括：抛光盘，包括第一子抛光盘及至少一个第二子抛光盘，每一所述第二子抛光盘与所述第一子抛光盘之间具有第一状态和第二状态；用于驱动所述第一子抛光盘转动的转动机构，与所述第一子抛光盘连接；控制机构，用于控制所述第一子抛光盘与所述第二子抛光盘在所述第一状态和所述第二状态之间切换，在所述第一状态，所述第一子抛光盘与所述第二子抛光盘连接，且所述第一子抛光盘与所述第二子抛光盘的抛光面处于同一平面；在所述第二状态，所述第一子抛光盘与所述第二子抛光盘分离。本发明的有益效果是：通过所述第一子抛光盘与所述第二子抛光盘的连接与分离，调节抛光盘的重量和抛光面面积，适用于不同强度的面板的抛光。
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公开(公告)号：CN106094350A
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201610653710.3
申请日：2016-08-10
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/1337
CPC分类号： B05C1/0813 , B05C1/0808 , G02F1/1303 , G02F1/1337 , G02F1/13378
摘要： 本发明提供一种转印版预处理装置，用于在向基板涂覆取向液之前对转印版进行预处理，所述转印版包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面上设置有阵列排布的凹槽；所述转印版预处理装置包括：辊状的版酮，用于承载所述转印版，所述版酮包括用于与所述转印版的第二表面贴合的承载面；挤压结构，所述挤压结构包括挤压面；所述版酮用于沿所述挤压结构的挤压面滚动，并且，承载有转印版的版酮在滚动过程中，所述转印版的第一表面与所述挤压面接触并相互挤压。相应地，本发明还提供一种转印版预处理方法、取向膜制备系统。本发明能够提高转印版的浸润性。
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公开(公告)号：CN112582569B
公开(公告)日：2022-12-06
申请号：CN202011438605.0
申请日：2020-12-10
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本申请提供了一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置，其中，显示基板包括开孔区域、围绕开孔区域的边缘区域以及围绕边缘区域的显示区域，边缘区域的显示基板包括：衬底基板，以及设置在衬底基板一侧的平坦层；设置在平坦层背离衬底基板一侧的隔离墙和有机功能层，有机功能层在隔离墙的侧面断开；其中，隔离墙的材料包括发生膨胀形变和交联反应的光致形变材料。本申请技术方案，通过隔离墙将有机功能层在隔离墙的两侧隔断，从而将水汽和氧气通过有机功能层向显示区域传输的通道隔断，防止产生黑斑不良，提升产品良率和可靠性。由于隔离墙的材料包括发生膨胀形变和交联反应的光致形变材料，因此能够确保隔离墙形状的可控性以及稳定性。
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公开(公告)号：CN112582569A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN202011438605.0
申请日：2020-12-10
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本申请提供了一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置，其中，显示基板包括开孔区域、围绕开孔区域的边缘区域以及围绕边缘区域的显示区域，边缘区域的显示基板包括：衬底基板，以及设置在衬底基板一侧的平坦层；设置在平坦层背离衬底基板一侧的隔离墙和有机功能层，有机功能层在隔离墙的侧面断开；其中，隔离墙的材料包括发生膨胀形变和交联反应的光致形变材料。本申请技术方案，通过隔离墙将有机功能层在隔离墙的两侧隔断，从而将水汽和氧气通过有机功能层向显示区域传输的通道隔断，防止产生黑斑不良，提升产品良率和可靠性。由于隔离墙的材料包括发生膨胀形变和交联反应的光致形变材料，因此能够确保隔离墙形状的可控性以及稳定性。
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公开(公告)号：CN109463866A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201811271537.6
申请日：2018-10-29
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明的目的在于提供一种伞具，所述伞具包括：伞杆，包括手柄端及与所述手柄端相对的顶端；伞面，包括第一伞布及第二伞布；伞面收纳腔，位于所述伞杆的所述顶端；伞面驱动结构，与所述第一伞布和所述第二伞布连接，用于驱动所述伞面，以使所述第一伞布和所述第二伞布均收拢于所述伞面收纳腔内，或者，所述第一伞布和所述第二伞布中的至少一个伸出所述伞面收纳腔外并被撑开；及，用于控制所述伞面驱动结构的工作状态的控制器，所述控制器位于所述伞杆的所述手柄端。本发明的伞具通过设置两种伞布，且两种伞布可在不使用时收纳起来，使用时根据天气情况将其中一种伞布撑开，既可作为遮阳伞，又可作为遮雨伞，功能丰富，使用方便。
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公开(公告)号：CN108666325A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：CN201810509994.8
申请日：2018-05-24
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明涉及显示技术领域，公开了一种TFT基板的制备方法、TFT基板及显示装置，该制备方法包括：在基底上形成金属导电膜层；在金属导电膜层上形成疏水绝缘膜层；在疏水绝缘膜层上涂覆光刻胶涂层，并采用曝光工艺对光刻胶涂层进行图案化处理以形成图案化的光刻胶层；对疏水绝缘膜层进行刻蚀以形成图案化的疏水绝缘层；采用铜刻蚀液对金属导电膜层进行刻蚀以形成图案化的金属电极层。上述制备方法中，在金属导电膜层上形成有疏水绝缘膜层，光刻胶涂层与疏水绝缘膜层之间黏附性较好，在后续金属导电膜层刻蚀时，避免了刻蚀液横向钻刻而造成光刻胶层脱落，进而有利于提高TFT基板的制备良率。
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公开(公告)号：CN106044232B
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201610596444.5
申请日：2016-07-26
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： B65G49/06
摘要： 本发明公开了一种取片装置，包括多个沿第一方向间隔设置的主支撑条，多个所述主支撑条能够共同承载基片，其中，所述取片装置还包括多个沿第二方向间隔设置的副支撑条，所述第一方向和所述第二方向之间存在夹角，所述取片装置能够在第一工作状态和第二工作状态之间切换，其中：在所述第一工作状态下，多个所述主支撑条和多个所述副支撑条互相交叉设置，以使得多个所述副支撑条和多个所述主支撑条能够共同承载所述基片；在所述第二工作状态下，所述副支撑条与所述主支撑条平行。本发明提供的取片装置通过设置副支撑条，增加了所述取片装置的承载面的面积，从而解决了现有技术中只有主支撑条承载基片时造成的基片出现下垂量的问题。
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