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公开(公告)号：CN106672660B
公开(公告)日：2019-08-30
申请号：CN201710138160.6
申请日：2017-03-09
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： B65G69/00
摘要： 本公开提供一种掩膜版装载装置及显示面板制备系统，该掩膜版装载装置包括开口、托架、第一驱动组件，门板和第二驱动组件，开口位于一隔离面上；托架用于承载掩膜版；第一驱动组件与所述托架连接，用于驱动所述托架相对所述隔离面往复移动，以带动所述掩膜版从所述开口穿出或缩回；门板与所述隔离面平行设置且面积不小于所述开口；第二驱动组件用于驱动所述门板相对于所述开口往复平移，以遮蔽所述开口或露出所述开口。
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公开(公告)号：CN110098201A
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201910410880.2
申请日：2019-05-16
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本申请公开了一种晶体管器件及其制造方法、显示基板、显示装置，属于半导体技术领域。晶体管器件(01)包括：衬底基板(011)，以及位于衬底基板(011)上的第一晶体管(012)和第二晶体管(013)。第一晶体管(012)包括第一有源层(0121)，第二晶体管(013)包括第二栅极(0132)，第一有源层(0121)与第二栅极(0132)位于同层。本申请简化了晶体管器件的制作工艺，提高了生产效率。
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公开(公告)号：CN102866576A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201210308956.9
申请日：2012-08-27
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种掩膜板组及应用掩膜板组确定对位精度范围的方法，方法步骤如下：通过曝光将第一掩膜板上的至少一个第一标记转移至显示基板上需要对位的第一层上形成至少一个第一对位标记；通过曝光将至少一个第二掩膜板的第二标记转移到显示基板上需要对位的当前层形成与第一对位标记相对应的第二对位标记，第二对位标记包括一正方形；根据第二对位标记的正方形与第一对位标记的正方形和多个形状相同但大小不同的图案的位置确定当前光刻的对位精度范围。通过本发明，在无法建立测量坐标系或测量工具无法准确测量的情况下，可以确定光刻对位精度的范围，进一步还可以对光刻对位精度是否符合标准进行确定。
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公开(公告)号：CN108666325A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：CN201810509994.8
申请日：2018-05-24
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明涉及显示技术领域，公开了一种TFT基板的制备方法、TFT基板及显示装置，该制备方法包括：在基底上形成金属导电膜层；在金属导电膜层上形成疏水绝缘膜层；在疏水绝缘膜层上涂覆光刻胶涂层，并采用曝光工艺对光刻胶涂层进行图案化处理以形成图案化的光刻胶层；对疏水绝缘膜层进行刻蚀以形成图案化的疏水绝缘层；采用铜刻蚀液对金属导电膜层进行刻蚀以形成图案化的金属电极层。上述制备方法中，在金属导电膜层上形成有疏水绝缘膜层，光刻胶涂层与疏水绝缘膜层之间黏附性较好，在后续金属导电膜层刻蚀时，避免了刻蚀液横向钻刻而造成光刻胶层脱落，进而有利于提高TFT基板的制备良率。
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公开(公告)号：CN102866576B
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201210308956.9
申请日：2012-08-27
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种掩膜板组及应用掩膜板组确定对位精度范围的方法，方法步骤如下：通过曝光将第一掩膜板上的至少一个第一标记转移至显示基板上需要对位的第一层上形成至少一个第一对位标记；通过曝光将至少一个第二掩膜板的第二标记转移到显示基板上需要对位的当前层形成与第一对位标记相对应的第二对位标记，第二对位标记包括一正方形；根据第二对位标记的正方形与第一对位标记的正方形和多个形状相同但大小不同的图案的位置确定当前光刻的对位精度范围。通过本发明，在无法建立测量坐标系或测量工具无法准确测量的情况下，可以确定光刻对位精度的范围，进一步还可以对光刻对位精度是否符合标准进行确定。
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公开(公告)号：CN106444110B
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN201611032498.5
申请日：2016-11-17
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/13
摘要： 本发明涉及一种基板支撑杆，包括：外支撑杆，其为一表面开口的盒体结构；内支撑杆，容置于外支撑杆内，具有用于支撑基板的支撑面；用于控制内支撑杆做升降运动以使得内支撑杆在第一状态和第二状态之间变化的升降结构，升降结构包括一穿过外支撑杆的底部以支撑内支撑杆的连接杆；防静电液涂覆结构，用于在内支撑杆位于第一状态时，在内支撑杆上涂覆防静电液；其中，第一状态为内支撑杆完全位于外支撑杆内部，第二状态为内支撑杆的支撑面与外支撑杆的具有开口的表面平齐。本发明还涉及一种涂覆防静电液的方法。实现防静电液的自动涂覆，防止涂覆防静电液时对基板等的污染、且避免人身危害。
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公开(公告)号：CN106672660A
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201710138160.6
申请日：2017-03-09
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： B65G69/00
摘要： 本公开提供一种掩膜版装载装置及显示面板制备系统，该掩膜版装载装置包括开口、托架、第一驱动组件，门板和第二驱动组件，开口位于一隔离面上；托架用于承载掩膜版；第一驱动组件与所述托架连接，用于驱动所述托架相对所述隔离面往复移动，以带动所述掩膜版从所述开口穿出或缩回；门板与所述隔离面平行设置且面积不小于所述开口；第二驱动组件用于驱动所述门板相对于所述开口往复平移，以遮蔽所述开口或露出所述开口。
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公开(公告)号：CN106444110A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201611032498.5
申请日：2016-11-17
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/13
CPC分类号： H01L21/67742 , H01L21/67751 , G02F1/1303
摘要： 本发明涉及一种基板支撑杆，包括：外支撑杆，其为一表面开口的盒体结构；内支撑杆，容置于外支撑杆内，具有用于支撑基板的支撑面；用于控制内支撑杆做升降运动以使得内支撑杆在第一状态和第二状态之间变化的升降结构，升降结构包括一穿过外支撑杆的底部以支撑内支撑杆的连接杆；防静电液涂覆结构，用于在内支撑杆位于第一状态时，在内支撑杆上涂覆防静电液；其中，第一状态为内支撑杆完全位于外支撑杆内部，第二状态为内支撑杆的支撑面与外支撑杆的具有开口的表面平齐。本发明还涉及一种涂覆防静电液的方法。实现防静电液的自动涂覆，防止涂覆防静电液时对基板等的污染、且避免人身危害。
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公开(公告)号：CN105867065A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201610460937.6
申请日：2016-06-22
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
发明人： 张玉虎
摘要： 本发明公开了一种掩膜板及其制备方法、接触孔的制备方法，以实现提高制备阶梯状的接触孔时精度，从而提高产品良率。所述掩膜板的制备方法，包括：在透明基板上分别形成包括第一图案的第一膜层和包括第二图案的第二膜层，使所述第一膜层仅保留所述第一图案之外的部分，且所述第一图案暴露所述透明基板，以及使所述第二膜层仅保留第二图案，所述第二图案在所述透明基板上的垂直投影落于所述第一图案范围内；其中，所述第一膜层具有第一透光率，所述第二膜层具有与所述第一透光率不相等的第二透光率。
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公开(公告)号：CN106527042B
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201710011050.3
申请日：2017-01-06
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明涉及显示技术领域，公开一种掩膜版及其制备方法，掩膜版包括前板，前板包括衬底以及形成于衬底上的掩模图形，还包括与前板相对设置的后板，后板与前板之间通过密封胶密封且固定连接，后板包括玻璃基板以及形成在玻璃基板上的间隙物，间隙物设置在后板上与前板相对的表面，且沿后板上与掩模图形周边相对的位置均匀设置，用于支撑前板；间隙物设置在掩模图形的周边以支撑前板能够减少外物对掩模图形的污染，保护掩模图形，延长掩膜版的使用时间，同时，方便清洗，在清洗过程中减少对掩模图形的损伤，减少了重复性不良，提高产品品质以及掩膜版维修所带来的损失，故能够保护掩模图形，方便清洗，减少重复性不良，提高产品良率，降低成本。
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