公开(公告)号：CN113946074B

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN202010696740.9

申请日：2020-07-17

申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 张春旭 ,  张云天 ,  姜晓婷 ,  杨海鹏 ,  戴珂

IPC分类号： G02F1/1339 ,  G02F1/1362

摘要： 提供一种显示面板和显示装置。该显示面板包括相对设置的第一基板和第二基板。第一基板包括多个隔垫物。第二基板包括：第二衬底；设置在第二衬底上的多条栅线和多条数据线，栅线沿行方向设置，数据线沿列方向设置；和多个子像素，多条栅线和多条数据线包围形成多个子像素，每一个子像素包括透光区。隔垫物在第二衬底上的正投影邻近子像素的透光区在第二衬底上的正投影，隔垫物在第二衬底上的正投影与数据线在第二衬底上的正投影间隔设置；数据线具有主体部和弯折部，弯折部在第二衬底上的正投影相对于主体部在第二衬底上的正投影朝远离隔垫物在第二衬底上的正投影的方向弯折。

公开(公告)号：CN113260912A

公开(公告)日：2021-08-13

申请号：CN201980002624.8

申请日：2019-11-28

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥京东方显示技术有限公司

发明人： 杜悦 ,  张云天 ,  江亮亮 ,  郭磊 ,  戴珂 ,  刘家庆

IPC分类号： G02F1/1347

摘要： 本公开提供了一种阵列基板、调光液晶面板及显示面板。阵列基板包括：具有多个狭缝结构的第一透明电极层，第一透明电极层包括面积相等的多个畴，所述多个畴包括至少两类畴，所述至少两类畴呈马赛克状排布，其中，位于同一类所述畴的所述狭缝结构的延伸方向相同，位于不同类所述畴的所述狭缝结构的延伸方向不同；沿行向延伸的多根栅线以及沿列向延伸的多根数据线，所述多根栅线与所述多根数据线交叉界定出呈阵列状排布的多个调光区，每个所述调光区与所述第一透明电极层的至少两类畴相交叠。

公开(公告)号：CN109658855B

公开(公告)日：2021-03-23

申请号：CN201910073005.X

申请日：2019-01-25

申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 张春旭 ,  戴珂 ,  吴忠厚 ,  江鹏 ,  张云天 ,  邓亚飞

IPC分类号： G09G3/00 ,  G02F1/1362

摘要： 本发明提供一种阵列基板、显示模组及其测试方法、显示面板，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的显示模组难以(尤其在PPI较高时)设置测试区的问题。本发明的阵列基板包括多个用于连接驱动单元的连接区，以及多个用于连接测试头的测试区；每个连接区中设有多个连接端，每个连接端连接引线；每个测试区中设有多个测试端，任意两连接区中测试端的数量和排布方式均相同；测试区分为独立测试区和共享测试区；每个独立测试区对应一个连接区，其中所有测试端均与其对应的连接区中的连接端电连接；每个共享测试区对应多个连接区，其中有多个测试端分别与其所对应的多个连接区中的连接端电连接。

公开(公告)号：CN112447760A

公开(公告)日：2021-03-05

申请号：CN201910798360.3

申请日：2019-08-27

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥京东方显示技术有限公司

发明人： 张云天 ,  江鹏 ,  戴珂 ,  刘金刚 ,  韩丽辉 ,  吴忠厚 ,  张春旭 ,  李萌萌

IPC分类号： H01L27/12 ,  H01L23/552 ,  H01L21/77 ,  G02F1/1362

摘要： 本发明提供了一种阵列基板及其制备方法、液晶显示面板及显示装置，涉及显示技术领域，能够提高显示装置的显示效果。其中的阵列基板，包括：衬底、设置于衬底上的薄膜晶体管以及数据线；薄膜晶体管包括依次设置于衬底上的有源层图案、源极和漏极；数据线与源极、漏极同层同材料。阵列基板还包括设置于数据线靠近衬底一侧的保留图案和第一遮光图案，保留图案位于第一遮光图案与数据线之间；保留图案、第一遮光图案与数据线一一对应，且沿衬底厚度方向，第一遮光图案的正投影覆盖保留图案的正投影，保留图案的正投影与数据线的正投影重叠；其中，保留图案与有源层图案同层同材料。

公开(公告)号：CN110392186A

公开(公告)日：2019-10-29

申请号：CN201810331972.7

申请日：2018-04-13

申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 张云天 ,  张振宇 ,  吴忠厚 ,  张春旭

IPC分类号： H04N5/225 ,  H04N5/217 ,  G02B27/28

摘要： 一种减少雾霾影响的成像装置及成像方法。该成像装置包括偏振片阵列、感光元件阵列和处理器。偏振片阵列被配置为在不同偏振方向上对入射光线进行检偏以输出检偏光线，入射光线包括非偏振光部分和由雾霾成分产生的偏振光部分；感光元件阵列被配置为采集检偏光线的光强图像；以及处理器被配置为对检偏光线的光强图像进行处理，以将偏振光部分从检偏光线的光强图像中去除，并获取非偏振光部分的光强图像。该成像装置及其成像方法在成像时可以减少雾霾成分的影响，从而提高目标物体与环境的对比度，实现图像增强。

公开(公告)号：CN109445163A

公开(公告)日：2019-03-08

申请号：CN201910007924.7

申请日：2019-01-04

申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 张云天 ,  江鹏 ,  戴珂 ,  杨海鹏 ,  吴忠厚 ,  张春旭 ,  邓亚飞 ,  许晨 ,  李萌萌

IPC分类号： G02F1/1333 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/13357 ,  G02F1/1362

摘要： 本发明实施例提供了一种显示基板以及包括该显示基板的显示面板和显示设备。该显示基板包括衬底基板，衬底基板的显示区域内具有至少一个4行6列的子像素阵列。所述子像素阵列中的第一行子像素依次分别为蓝、红、绿、红、蓝、绿，第二行子像素依次分别为红、绿、蓝、蓝、绿、红，第三行子像素依次分别为绿、红、蓝、红、蓝、绿，第四行子像素依次分别为红、绿、蓝、绿、蓝、红。

公开(公告)号：CN114938678A

公开(公告)日：2022-08-23

申请号：CN202080003218.6

申请日：2020-12-04

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥京东方显示技术有限公司

发明人： 周茂秀 ,  程敏 ,  张云天 ,  戴珂 ,  杨海鹏 ,  姜晓婷 ,  张春旭 ,  田丽 ,  李萌萌

IPC分类号： G09G3/3266 ,  G09G3/32

摘要： 本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及电子设备。该显示面板包括：Q行在列方向上依次排布的第一扫描线组；M列在行方向上依次排布的第二扫描线组；至少一个栅极驱动电路，位于第Q行第一扫描线组远离第Q‑1行第一扫描线组的一侧，且每个所述栅极驱动电路包括Q列级联的移位寄存器单元组；其中，第q级移位寄存器单元组通过至少一列所述第二扫描线组与第q行第一扫描线组连接；其中，M≥Q＞1，1≤q≤Q，且M、N、Q、q均为正整数。

公开(公告)号：CN114114763A

公开(公告)日：2022-03-01

申请号：CN202010878350.3

申请日：2020-08-27

申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 张云天 ,  周茂秀 ,  杨海鹏 ,  戴珂 ,  李萌萌 ,  廖燕平 ,  郭磊

IPC分类号： G02F1/1343 ,  G02F1/1362 ,  G02F1/1368 ,  G02F1/1339

摘要： 本公开实施例提供一种显示基板，包括基底，设置在基底上的多条第一扫描线、多条第二扫描线、多条数据线、多个公共电极和多个像素电极；第二扫描线与数据线相互平行，第二扫描线、公共电极、像素电极不同层；公共电极位于第二扫描线和数据线远离基底的一侧，且位于像素电极靠近基底的一侧；数据线与第二扫描线中，其中一者在基底上的正投影位于相邻像素电极之间的间隔区，另一者在基底上的正投影与像素电极在基底上的正投影有交叠。

公开(公告)号：CN110392186B

公开(公告)日：2021-10-01

申请号：CN201810331972.7

申请日：2018-04-13

申请人： 合肥京东方显示技术有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 张云天 ,  张振宇 ,  吴忠厚 ,  张春旭

IPC分类号： H04N5/225 ,  H04N5/217 ,  G02B27/28

摘要： 一种减少雾霾影响的成像装置及成像方法。该成像装置包括偏振片阵列、感光元件阵列和处理器。偏振片阵列被配置为在不同偏振方向上对入射光线进行检偏以输出检偏光线，入射光线包括非偏振光部分和由雾霾成分产生的偏振光部分；感光元件阵列被配置为采集检偏光线的光强图像；以及处理器被配置为对检偏光线的光强图像进行处理，以将偏振光部分从检偏光线的光强图像中去除，并获取非偏振光部分的光强图像。该成像装置及其成像方法在成像时可以减少雾霾成分的影响，从而提高目标物体与环境的对比度，实现图像增强。

公开(公告)号：CN112083610A

公开(公告)日：2020-12-15

申请号：CN201910510106.9

申请日：2019-06-13

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥京东方显示技术有限公司

发明人： 吴忠厚 ,  张春旭 ,  戴珂 ,  江鹏 ,  刘金刚 ,  韩丽辉 ,  张云天

IPC分类号： G02F1/1362 ,  G02F1/1368 ,  G02F1/1333

摘要： 本发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，显示基板，包括位于衬底基板上层叠设置的半导体图形和第一导电图形，所述第一导电图形在所述衬底基板上的第一正投影落入所述半导体图形在所述衬底基板上的第二正投影内，所述显示基板还包括：与所述第一导电图形电连接的第二导电图形，所述第二正投影与所述显示基板的显示电极在所述衬底基板上的第四正投影之间的距离大于所述第二导电图形在所述衬底基板上的第三正投影与所述第四正投影之间的距离。本发明的技术方案能够改善显示装置的显示效果。