有机晶体管、阵列基板、显示装置及相关制备方法

    公开(公告)号:CN108183165B

    公开(公告)日:2020-05-08

    申请号:CN201810012058.6

    申请日:2018-01-05

    IPC分类号: H01L51/05

    摘要: 本发明公开了一种有机晶体管、阵列基板、显示装置及相关制备方法,属于显示器相关技术领域,所述有机晶体管的制备方法包括:在有机绝缘层上制备光刻胶并显影形成用于容纳有机单晶的限制阱;在所述限制阱中依次加入有机半导体溶液和正交溶剂;通过退火使得所述正交溶剂挥发,诱导有机单晶在所述限制阱中定向生长;清除所述光刻胶并将得到的有机单晶层作为有源层。本申请所述有机晶体管、阵列基板、显示装置及相关制备方法不仅能够提供一种高效可靠的有机单晶层制备方法,而且能够在柔性显示设备中低温制备有机单晶并作为有源层,得到迁移率和稳定性更高的有机晶体管。

    一种阵列基板及其制备方法和显示装置

    公开(公告)号:CN109390358A

    公开(公告)日:2019-02-26

    申请号:CN201811244181.7

    申请日:2018-10-24

    摘要: 本发明提供一种阵列基板及其制备方法和显示装置,其中阵列基板包括衬底基板和形成于所述衬底基板上的薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括透明度低于预设阈值的不透明膜层,所述阵列基板还包括光散射层,所述光散射层形成于所述不透明膜层靠近所述衬底基板的一侧,且所述不透明膜层在所述衬底基板上的正投影的至少一部分与所述光散射层在所述衬底基板上的正投影的至少一部分重合。这样,本发明的阵列基板通过设置光散射层,能够使来自背光源的光发生散射,使原本被不透光膜层所遮挡的光线被散射至其他位置并透过阵列基板,能够提高阵列基板的背光透过率。

    一种阵列基板及其制备方法和显示装置

    公开(公告)号:CN109390358B

    公开(公告)日:2021-10-22

    申请号:CN201811244181.7

    申请日:2018-10-24

    摘要: 本发明提供一种阵列基板及其制备方法和显示装置,其中阵列基板包括衬底基板和形成于所述衬底基板上的薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括透明度低于预设阈值的不透明膜层,所述阵列基板还包括光散射层,所述光散射层形成于所述不透明膜层靠近所述衬底基板的一侧,且所述不透明膜层在所述衬底基板上的正投影的至少一部分与所述光散射层在所述衬底基板上的正投影的至少一部分重合。这样,本发明的阵列基板通过设置光散射层,能够使来自背光源的光发生散射,使原本被不透光膜层所遮挡的光线被散射至其他位置并透过阵列基板,能够提高阵列基板的背光透过率。