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公开(公告)号：CN119828429A
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202510233029.2
申请日：2025-02-28
Applicant: 合肥工业大学
Abstract: 本发明涉及中心对称光栅组件、倾斜角测量方法及倾斜消除方法。该基于中心对称光栅组件的倾斜角测量方法获取第一光栅与第二光栅所形成的至少一个象限内的莫尔条纹，获取该莫尔条纹在象限的两对角线方向的频率分量，通过频率分量计算得到条纹与原始的光栅方向的夹角，通过夹角计算第一光栅与第二光栅之间的倾斜角。在该方案中通过对光栅倾斜后得到的莫尔条纹的频率或者其所等效的相位变化的分解处理可以提取到其正交分量，并基于该正交分量得到相应的莫尔条纹的夹角，进一步可以通过莫尔条纹的倾斜角得到最终的两光栅之间的倾斜角。从而可根据所得的倾斜角对光刻时的掩模与晶圆之间的角度进行校正。
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公开(公告)号：CN119828428A
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202510178520.X
申请日：2025-02-18
Applicant: 合肥工业大学
IPC: G03F9/00
Abstract: 本申请涉及一种用于光刻对准的光栅标记及其对准方法，其中，该标记包括：晶圆对准标记和掩膜对准标记。该方法包括：分别在晶圆和掩膜上刻蚀晶圆对准标记和掩膜对准标记；通过对准光源同时照射晶圆标记和掩膜标记，其衍射光干涉生成正方形莫尔条纹图；利用计算机对莫尔条纹图外轮廓进行预处理，以实现粗对准；通过2D‑FFT提取莫尔条纹的相位信息，并采用强度方程解包裹算法计算绝对相位；根据莫尔条纹的相位差计算晶圆与掩膜之间的实际错位量；将该错位量输入位移台实现反馈调整，直至实现高精度对准。本发明通过单组中心对称标记以及其对准方法即可实现光刻对准中多自由度的精对准，大幅减少晶圆有效面积的占用，显著提高光刻效率和对准精度。
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公开(公告)号：CN117593284A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202311672747.7
申请日：2023-12-07
Applicant: 合肥工业大学
Abstract: 本发明公开了一种快速傅里叶变换和窗口傅里叶滤波联合相位提取算法。其特征在于，针对宽频谱单帧干涉条纹图，使用FFT将其转换到频域中，滤除零频和噪声并保留包含相位信息的正一级频谱，利用逆FFT转换到空域中；随后对其进行WFF处理，通过设置合适的阈值，滤除正一级频谱附近的噪声，再使用逆窗口傅里叶变换(IWFT)转换到空域中，利用反正切函数提取包裹相位，随后使用加权最小二乘法对包裹相位进行解包裹处理，获得真实的连续相位。本发明与传统的FFT和WFF相比，结合了两种算法的各自优点：FFT可以精确滤除零频和其他无关项，WFF可以设置合适的阈值滤除噪声。
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公开(公告)号：CN119556540A
公开(公告)日：2025-03-04
申请号：CN202411880716.5
申请日：2024-12-19
Applicant: 合肥工业大学
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明涉及光刻技术领域，具体涉及一种双光栅对准标记、对准方法。本发明的双光栅对准标记包括：第一标记组、第二标记组。第一标记组设置在晶圆上，其包括1个圆光栅A1、2个长光栅B1～B2。第二标记组设置在掩膜上，其包括：1个圆光栅A2、2个长光栅B3～B4。本发明提供了一种双光栅对准标记，一方面利用圆光栅实现粗对准，利用垂直设置的长光栅分别进行X方向、Y方向的精对准，另一方面基于长光栅未对准时形成的倾斜条形莫尔条纹计算出偏差角Δθ，从而对晶圆进行调整使其能与掩膜实现完全对准、并有效提高两者的对准精度。本发明解决了现有仅采用圆光栅作为对准标记时不能消除角位移造成的误差的问题。
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公开(公告)号：CN114964063B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202210351970.0
申请日：2022-04-02
Applicant: 合肥工业大学
Abstract: 本发明公开了一种测量大型工件两侧轴孔外端面与轴线垂直偏差的装置与方法，该装置包括变焦光管及两个辅助测量工装，变焦光管具有激光投射聚焦和自准直测量两种模式，辅助测量工装包括旋转轴、定心探测器、平面反射镜、四维调整基座及径跳端跳测微头，辅助测量工装的作用是把轴孔及端面测量元素传递到旋转轴的定心探测器及平面反射镜上，便于实现光学测量，选取两侧轴孔中心连线作为测量基准，用定心探测器接收变焦光管投射激光光斑，把测量基准转移到光管光轴上，最后，通过光学自准直方法同时测量两轴孔端面与基准光轴的垂直偏差。该方法测量基准选取符合轴系实际应用，测量精度高，在位测量，操作方便，效率高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117788292B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202410100291.5
申请日：2024-01-24
Applicant: 合肥工业大学
IPC: G06T3/4053 , G06V10/80 , G06T5/50 , G06N3/0464 , G06N3/08
Abstract: 本发明公开了一种基于亚像素位移的序列图像超分辨率重建系统，包括：1.上位机处理模块：用于发送位移指令和采集指令，并接收采集的序列图像；2.成像模块：作为系统的成像核心，用于采集图像；3.微位移模块：接收位移指令，驱动成像模块中的图像传感器按照预设位置进行精确微调；4.网络构建模块：通过训练数据构建并优化基于亚像素位移的序列图像超分辨率网络；5.超分辨率模块：利用训练好的网络处理采集的序列图像，生成放大M倍的高分辨率图像。本发明通过精确的硬件控制提供具有固定亚像素位移的序列图像和深度学习图像处理技术，从而显著提升图像分辨率，为医学成像、遥感探测、精密测量等多种领域提供更高质量的图像解决方案。
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公开(公告)号：CN119828424A
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202510254405.6
申请日：2025-03-05
Applicant: 合肥工业大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请涉及一种掩膜与晶圆的调平方法，其中，该方法包括：用光源垂直照射位于掩膜表面的调平光栅，生成正方形莫尔条纹图；在右侧的区域的下侧部分中确定第一观测区，通过提取第一观测区的莫尔条纹相位计算出条纹旋转角度和实际条纹频率；计算出晶圆在空间中相对于掩膜分别发生横截面倾斜和纵截面倾斜时的角度偏移量；根据测量的角度偏移量进行反馈调节。通过测量正方形莫尔条纹图中第一观测区的相位变化，然后再通过公式转化即可精确计算出晶圆在空间中相对于掩膜分别发生横截面倾斜和纵截面倾斜时的偏移量，解决了现有的掩模与晶圆的调平方法无法通过单点测量实现多界面倾斜角的高精度检测的问题，提高了测量效率和测量精度。
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公开(公告)号：CN119251203A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202411428583.8
申请日：2024-10-14
Applicant: 合肥工业大学
Abstract: 本发明公开了一种基于2D‑Hamming自卷积窗的高精度条纹相位提取方法，包括：1：条纹图的离散化采集；2：构建具有更优频谱泄漏抑制性能的2D‑Hamming自卷积窗；3：采用2D‑Hamming自卷积窗加权条纹图；4：执行2D‑FFT以获得条纹图的频谱；5：利用带通滤波器选择正一级频谱；6：通过IFT得到正一级频谱的时域分布；7：提取条纹图的包裹相位；8：使用快速强度传输方程解包裹算法获得绝对相位。本发明针对条纹图像在离散化采样、异步采样以及非整周期截断过程中所引发的频谱泄漏问题，利用2D‑Hamming自卷积窗的加权特性，有效抑制了频谱泄漏误差，从而实现了高精度的相位提取。
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公开(公告)号：CN118732426A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410745901.7
申请日：2024-06-11
Applicant: 合肥工业大学
Abstract: 本发明公开了一种基于双频莫尔条纹查表的大范围光刻对准方法，涉及半导体集成电路制造技术领域，并包括：1在晶圆和掩膜上制作由四层线光栅组成的复合对准标记；2通过准直光源照射重叠的晶圆和掩膜标记，形成双频莫尔条纹；3通过二维FFT提取双频莫尔条纹的包裹相位，并利用快速强度传输方程解包裹算法得到连续相位；4根据相位差分别计算上部和下部光栅标记的错位信息；5根据线光栅周期生成差值表；6将错位值输入差值表中，查表并计算晶圆和掩膜的实际错位，反馈调整直至完全对准。本发明可以实现大量程纳米级的光刻对准。
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公开(公告)号：CN118820734A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410885267.7
申请日：2024-07-03
Applicant: 合肥工业大学
IPC: G06F18/21 , G06F18/214 , G06N3/0442 , G06N3/047 , G06N3/084
Abstract: 本发明公开了一种小样本动态系统的测量建模方法，包括以下步骤：步骤1、获取小样本动态系统输入、输出数据，进行归一化处理得到数据集；步骤2、将数据集划分为训练集和测试集；步骤3、生成GMENet网络，采用训练集对生成的GMENet网络进行多次训练，得到小样本动态系统测量模型；步骤4、将步骤2得到的测试集输入至步骤3得到的小样本动态系统测量模型，由小样本动态系统测量模型输出测量预测结果。本发明提将强大的建模能力和量化不确定度能力应用到小样本动态系统的测量中，补充了小样本动态系统测量的建模和不确定度的技术空缺。
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