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公开(公告)号：CN109976578B
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN201910222324.2
申请日：2019-03-22
申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G06F3/041
摘要： 本发明提供了一种触控基板及其制作方法、触控显示装置，属于触控技术领域。其中，触控基板，包括：衬底基板；位于所述衬底基板的触控区域、采用纳米银制作的触控电极，所述触控电极包括沿第一方向排布的第一触控电极和沿第二方向排布的第二触控电极，所述第一方向与所述第二方向相交；位于所述触控电极远离所述衬底基板一侧的第一绝缘层；位于所述第一绝缘层上的触控电极架桥，所述触控电极架桥通过贯穿所述第一绝缘层的第一过孔连接相邻的所述第一触控电极和/或所述第二触控电极，所述触控电极架桥所适用的刻蚀液与纳米银所适用的刻蚀液不同。本发明的技术方案能够利用纳米银和光刻工艺实现柔性触控基板。
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公开(公告)号：CN107221497B
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：CN201710632725.6
申请日：2017-07-28
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： H01L21/3213
摘要： 本发明公开了一种导线的制造方法和显示面板，属于显示技术领域。所述方法包括：在衬底结构上形成过渡层，在形成有过渡层的衬底结构上形成金属层，在形成有金属层的衬底结构上形成第一光刻胶图案，以第一光刻胶图案为掩膜对金属层进行刻蚀，形成金属导线，以第一光刻胶图案为掩膜对过渡层进行刻蚀，形成过渡线，过渡线和金属导线构成导线。本发明通过以第一光刻胶图案作为金属层和过渡层的掩膜进行两次刻蚀，形成导线。解决了相关技术中以金属导线作为掩膜刻蚀过渡层时，刻蚀液可能损伤金属导线的问题，达到了保护金属导线的效果。
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公开(公告)号：CN108845701B
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN201810688757.2
申请日：2018-06-28
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G06F3/041
摘要： 本发明提供了一种触控面板及其制作方法、显示装置，属于触控技术领域。触控面板的制作方法，包括：形成第一导电层，第一导电层的厚度小于待形成的触控电极的厚度，待形成的触控电极包括第一触控电极和第二触控电极；对第一导电层进行构图；在第一触控电极和第二触控电极的预设交叉位置处形成绝缘图形，第一导电层的图形对应绝缘图形的区域包括两个相隔预设距离的刻蚀区和位于两个刻蚀区之间的非刻蚀区；形成第二导电层，第二导电层与第一导电层的厚度之和等于待形成的触控电极的厚度；对已形成的导电层进行构图，形成第一触控电极和第二触控电极。本发明能够降低触控面板的生产成本。
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公开(公告)号：CN109917968A
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：CN201910242256.6
申请日：2019-03-28
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G06F3/041 , G02F1/1333 , H01B5/14
摘要： 本发明实施例提供一种导电结构、触控结构及触控显示装置，涉及显示技术领域，相对于现有技术，可以降低导电网格的反射率。本发明实施例提供一种导电结构，包括层叠设置的透明的调制层、黑化层和导电层；所述调制层与所述黑化层接触；所述调制层的折射率为1.8～2.5，所述黑化层的吸光系数为1.0～2.0，所述导电层的材料为金属或合金；在所述黑化层设置在所述导电层和所述调制层之间的情况下，所述调制层的厚度范围为20nm～100nm，所述黑化层的厚度范围为30nm～200nm；在所述调制层设置在所述黑化层和所述导电层之间的情况下，所述调制层的厚度范围为20nm～55nm，所述黑化层的厚度范围为10nm～30nm。
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公开(公告)号：CN109002211A
公开(公告)日：2018-12-14
申请号：CN201810779123.8
申请日：2018-07-16
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G06F3/041
摘要： 本发明涉及显示技术领域，公开一种触摸屏及其制备方法、显示面板、显示装置；触摸屏包括：位于基板上的触控电极，触控电极包括第一电极和第二电极，第一电极包括多个第一电极块；位于基板上，用于电连接相邻第一电极块的多个桥接结构，每个桥接结构包括：至少两个金属桥接点；依次覆盖在至少两个金属桥接点上的电极连接桥和第一保护层，电极连接桥具有与金属桥接点一一对应的过孔，第一保护层在基板上的正投影图案与电极连接桥在基板上的正投影图案形状相同；每个电极连接桥两端的两个第一电极块分别贯穿第一保护层和电极连接桥上的过孔、并分别与金属桥接点电连接。上述触摸屏在制备过程中，可以减少一道掩膜板，从而降低触摸屏制备成本。
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公开(公告)号：CN108255349A
公开(公告)日：2018-07-06
申请号：CN201810095500.6
申请日：2018-01-31
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G06F3/041
摘要： 本发明属于显示技术领域，具体涉及一种显示基板和显示装置。该显示基板开设有功能孔，形成所述功能孔的叠层结构包括遮光层和半透层，还包括消影层，所述消影层位于所述遮光层和所述半透层之间，且所述消影层至少覆盖所述功能孔的开孔区域。该显示基板通过在功能孔位置增设消影层，增加功能孔位置半透油墨或者遮光材料L值，减小功能孔位置网印半透层与遮光层之间色差，同时在功能孔边缘区域，保护层外扩遮光层的设计，减小功能孔边缘半透油墨厚度，增加功能孔边缘半透油墨或者补黑油墨L值，从而减小遮光层与半透油墨或者遮光材料色差，达到功能孔开孔与孔周边外观一体色效果。
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公开(公告)号：CN107861656A
公开(公告)日：2018-03-30
申请号：CN201711091720.3
申请日：2017-11-08
申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G06F3/041
CPC分类号： G06F3/0412 , G06F2203/04103
摘要： 本公开涉及显示领域，提供了一种触摸屏的制造方法及显示装置，触摸屏的制造方法包括：提供一基板，所述基板包括显示区和位于所述显示区周围的非显示区；在所述基板上依次形成第一透明导电层和金属膜层；在所述金属膜层上形成第一光阻图案层，所述第一光阻图案层的图案对应所述非显示区的金属走线图案；蚀刻所述金属膜层以在所述非显示区形成所述金属走线；对位于基板上的透明导电层进行蚀刻以在所述显示区形成第一透明导电图案；在所述第一透明导电图案和所述金属走线上形成保护层；在所述显示区的所述保护层上形成第二透明导电层。该方法提高了金属膜层的线宽极限、金属膜层与其它膜层结构的稳定性和附着力，并且减少了加工工艺，节省了制造成本。
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公开(公告)号：CN107221497A
公开(公告)日：2017-09-29
申请号：CN201710632725.6
申请日：2017-07-28
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： H01L21/3213
CPC分类号： H01L21/32139
摘要： 本发明公开了一种导线的制造方法和显示面板，属于显示技术领域。所述方法包括：在衬底结构上形成过渡层，在形成有过渡层的衬底结构上形成金属层，在形成有金属层的衬底结构上形成第一光刻胶图案，以第一光刻胶图案为掩膜对金属层进行刻蚀，形成金属导线，以第一光刻胶图案为掩膜对过渡层进行刻蚀，形成过渡线，过渡线和金属导线构成导线。本发明通过以第一光刻胶图案作为金属层和过渡层的掩膜进行两次刻蚀，形成导线。解决了相关技术中以金属导线作为掩膜刻蚀过渡层时，刻蚀液可能损伤金属导线的问题，达到了保护金属导线的效果。
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公开(公告)号：CN110096169B
公开(公告)日：2021-01-22
申请号：CN201810089650.6
申请日：2018-01-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
摘要： 一种触控基板及其制造方法、电子装置，该触控基板包括衬底基板和第一触控电极结构，其中，第一触控电极结构在衬底基板上，且至少远离衬底基板的一侧具有刻蚀阻隔性质。
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公开(公告)号：CN110096169A
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201810089650.6
申请日：2018-01-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
摘要： 一种触控基板及其制造方法、电子装置，该触控基板包括衬底基板和第一触控电极结构，其中，第一触控电极结构在衬底基板上，且至少远离衬底基板的一侧具有刻蚀阻隔性质。
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