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公开(公告)号：CN106708322B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN201710004840.9
申请日：2017-01-04
申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G06F3/041
摘要： 本公开的实施例提供一种触摸面板、触摸显示装置及触摸面板的制备方法。该触摸面板包括：彼此相对设置的第一基板和第二基板；形成在第一基板上的第一消影层；形成在所述第一消影层上的触摸电极层；以及形成在所述第二基板上的第二消影层。所述第一基板的形成有所述第一消影层和所述触摸电极层的一侧面对所述第二基板的形成有所述第二消影层的一侧。根据本公开实施例的触摸面板将第一消影层和第二消影层分别形成在不同的基板上，可以避免对第二消影层进行蚀刻，从而避免因消影层的过刻带来的消影效果降低。
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公开(公告)号：CN108431742B
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201680001561.0
申请日：2016-11-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G06F3/041
摘要： 本申请公开了一种触控基板，其包括：衬底基板(BS)；位于衬底基板(BS)上在触控基板的黑矩阵区(BA)中的黑矩阵层(BML)；以及位于黑矩阵层(BML)的远离衬底基板(BS)的一侧在触控基板的触控电极区(TEA)中的触控电极层(TEL)。触控电极区(TEA)与黑矩阵区(BA)部分重叠，从而形成重叠区(OA)。触控电极层(TEL)包括至少部分位于重叠区(OA)中的多个触控电极块(TE)。至少部分位于重叠区(OA)中的触控电极块(TE)通过第一间隙(G1)与相邻的触控电极块(TE)分隔开。位于第一间隙(G1)的靠近衬底基板(BS)的一侧的区域的至少一部分中的黑矩阵层(BML)厚度相对于黑矩阵层(BML)的其余部分的厚度有所减小。
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公开(公告)号：CN108241452B
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN201810006680.6
申请日：2018-01-03
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G06F3/041
摘要： 本发明公开了一种立体触摸基板及其制备方法、立体触摸显示面板。立体触摸基板包括底部以及相邻的第一侧部和第二侧部，所述第一侧部和第二侧部由与所述底部一体结构的基板弯折形成，且在弯折状态下，所述第一侧部和第二侧部交叠连接。该立体触摸基板，通过将第一侧部和第二侧部交叠连接，从而可以将相邻侧部上的触摸电极电连接起来，使得相邻的侧部上均具有触摸功能，有利于实现具有四个侧部且四个侧部上均具有触摸功能的立体触摸显示面板。本发明还公开了该立体触摸基板的制备方法和包括该立体触摸基板的立体触摸显示面板。
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公开(公告)号：CN107193415B
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN201710351900.4
申请日：2017-05-18
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
摘要： 本发明实施例提供一种OLED触控显示基板及其制备方法、触控显示装置，涉及显示技术领域，可降低OLED触控显示基板的厚度。包括第一电极层、第二电极层以及设置在第一电极层和第二电极层之间的有机层；第一电极层为透明电极；还包括设置在第一电极层远离有机层一侧的触控层和设置在触控层与第一电极层之间的第一绝缘层，触控层包括沿第一方向排布的多个第一触控电极和沿第二方向排布的多个第二触控电极；第一触控电极包括直接连接的多个第一子触控电极，第二触控电极包括间隔排布的多个第二子触控电极；第一保护层覆盖第一触控电极和第二触控电极；设置在第一保护层上且位于第一触控电极和第二触控电极交叉位置处的架桥，架桥将相邻第二子触控电极连通。
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公开(公告)号：CN107482039B
公开(公告)日：2020-07-24
申请号：CN201710657760.3
申请日：2017-08-03
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
摘要： 本发明实施例提供一种柔性触控母板及制备方法、柔性触控基板、触控面板，涉及显示技术领域，可降低方阻同时改善膜层应力问题，避免出现鼓泡不良，提高产品良率。该制备方法包括对形成在柔性薄膜上的第一透明导电层进行图案化处理，形成第一、第二电极；第一透明导电层由多次沉积的多层第一透明导电膜构成；沉积的第一层第一透明导电膜的厚度为15～45nm，且多层第一透明导电膜的总厚度为120～200nm。
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公开(公告)号：CN106354299B
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201610683036.3
申请日：2016-08-17
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G06F3/041
摘要： 本发明实施例提供一种触控基板及其制备方法、触控显示装置，涉及显示技术领域，可释放位于遮光区域的虚拟电极上的静电，相对现有技术降低生产成本。触控基板划分为触控区域和包围触控区域的遮光区域，遮光区域内设置有遮光图案，触控基板包括交叉且相互绝缘的第一触控电极和第二触控电极、以及设置在由第一触控电极和第二触控电极所限定区域的虚拟电极，虚拟电极与第一触控电极和第二触控电极之间分别具有间隙；第一触控电极、第二触控电极和虚拟电极均与遮光图案接触，相邻虚拟电极位于遮光区域的部分通过第一架桥连接，第一架桥与第一触控电极和第二触控电极之间绝缘；遮光区域内设置有第一地线，第一地线与通过第一架桥连接的虚拟电极电连接。
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公开(公告)号：CN109643199A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201780000447.0
申请日：2017-06-15
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G06F3/044
摘要： 本申请公开了一种触摸基板。所述触摸基板包括衬底基板(1)和在所述衬底基板(1)上的包括多个第一网状电极(20)的第一网状电极层(2)。所述多个第一网状电极(20)实质上沿着第一方向布置。所述多个第一网状电极(20)中的每一个实质上沿着第二方向延伸。所述多个第一网状电极(20)中的每一个包括具有Z字形轮廓的多个第一部分(200)，所述多个第一部分(200)中的每一个的中线(m’)是Z字形线。
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公开(公告)号：CN106527816B
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201611093958.5
申请日：2016-12-01
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
摘要： 本发明实施例提供一种触控基板及其制备方法、触控显示装置，涉及触控技术领域，可提高触控显示装置的抗静电能力。该触控基板包括：衬底基板，且所述衬底基板划分为触控区域和包围所述触控区域的遮光区域，在所述衬底基板的遮光区域内设置有第一地线，所述第一地线包括露出于所述触控基板表面的第一接线端，在所述遮光区域内还设置有与所述第一地线不同层的第二地线；所述第二地线包括露出于所述触控基板表面的第二接线端；其中，所述第一接线端和所述第二接线端沿垂直于所述衬底基板的方向不重叠。用于提高抗静电能力。
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公开(公告)号：CN109300880A
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：CN201811126866.1
申请日：2018-09-26
申请人： 合肥鑫晟光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L23/64
摘要： 本发明的实施例提供一种传感器中电容结构的制备方法、传感器，涉及传感器技术领域，可不采用光刻刻蚀工艺形成传感器中的电容结构。一种传感器中电容结构的制备方法，包括：在基底上通过打印或印刷工艺形成图案化的底部电极；通过涂覆工艺形成图案化的牺牲层；沿第一方向，所述牺牲层跨越所述底部电极，且在所述牺牲层与所述底部电极重叠的区域，二者接触；通过涂覆工艺形成图案化的顶部电极；沿所述第一方向，所述顶部电极跨越所述牺牲层，且在所述顶部电极与所述牺牲层重叠的区域，二者部分接触；将形成有所述底部电极、所述牺牲层和所述顶部电极的基底置于溶液中，去除所述牺牲层。
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公开(公告)号：CN109143637A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201710457046.X
申请日：2017-06-16
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/1333 , G02F1/1343 , H01L27/32 , G06F3/041
摘要： 一种面板的制造方法、面板及显示装置。该面板的制造方法包括在衬底基板上通过构图工艺形成第一导电层，所述第一导电层包括设置在所述衬底基板非工作区域中的多条第一导电走线和设置在所述衬底基板工作区域中的多个电极图案；在所述多条第一导电走线上形成多条金属走线，所述金属走线每条包括靠近所述衬底基板工作区域的边缘的连接端。该面板的制造方法可改善金属走线的刻蚀效果及提高金属走线的刻蚀效率，同时不增加工序和掩膜数量，还可节约制程成本和掩膜成本。
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