扫描检查系统和扫描检查方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118091776A

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN202410225429.4

    申请日:2019-01-04

    IPC分类号: G01V5/22

    摘要: 本发明涉及一种扫描检查系统和扫描检查方法,其中扫描检查系统,包括:检测装置,用于检测被检物(2;2′)的防护属性;扫描装置(1),可动地设置,用于在运动的过程中发射扫描射线以对所述被检物(2;2′)进行扫描检查,其具有至少两个工作模式,每个所述工作模式对应的扫描射线的剂量与其他所述工作模式对应的扫描射线的剂量不同;和控制装置,用于根据所述检测装置所检测的所述被检物(2;2′)的防护属性调节所述扫描装置(1)的工作模式。本发明可以根据被检物的防护属性实现针对性检查,有效保护需要避让的被检物,同时避免漏检;可以适应倒车以及混编等复杂情况。

    辐射检查系统
    6.
    发明公开
    辐射检查系统 审中-实审

    公开(公告)号:CN117784265A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202311835696.5

    申请日:2023-12-28

    IPC分类号: G01V5/22 G01N23/04

    摘要: 本公开涉及一种辐射检查系统,用于对被检对象(101)进行扫描检查,辐射检查系统包括:第一光源(1),包括沿高度方向(z)间隔设置的多个子光源(11),多个子光源(11)被配置为独立发出射线束;透射探测器组件(2),与第一光源(1)沿第一方向(x)相对间隔设置形成检查通道(3),检查通道(3)用于供被检对象(101)通过且沿第二方向(y)延伸,透射探测器组件(2)被配置为接收第一光源(1)的透射光束;和准直器(4),位于第一光源(1)和透射探测器组件(2)之间且靠近第一光源(1)所在侧,准直器(4)设有沿高度方向(z)设置的多个准直口(41),多个准直口(41)被配置为限制多个子光源(11)发出光束的形状。