铁酸钴磁性厚膜的制备方法

    公开(公告)号:CN101567261B

    公开(公告)日:2011-11-16

    申请号:CN200910046943.7

    申请日:2009-03-03

    申请人: 同济大学

    IPC分类号: H01F41/14 H01F1/00

    摘要: 本发明涉及电子材料与器件领域,公开了一种铁酸钴磁性厚膜的制备方法,为将铁酸钴分散在溶剂中制成浓度均匀的悬浮液,然后在恒电场条件下经过电泳沉积制备而成。本发明制得的铁酸钴磁性厚膜具有较高的矫顽磁场和磁饱和强度,可应用于制备厚膜电容,移相器,而且具有设备简单、成本低、成膜快、组分易于控制的特点。

    锆钛酸铅-铁酸钴厚膜的制备方法

    公开(公告)号:CN101514475A

    公开(公告)日:2009-08-26

    申请号:CN200910046944.1

    申请日:2009-03-03

    申请人: 同济大学

    IPC分类号: C25D13/02 H01L43/12 H01L43/10

    摘要: 本发明涉及电子材料与器件领域,公开了一种锆钛酸铅-铁酸钴厚膜的制备方法,该方法的步骤包括:将Pb (Zr0.52Ti0.48)O3粉体和CoFe2O4粉体分散在溶剂中制成浓度均匀的悬浮液,然后在恒电场条件下经过电泳沉积制备而成。本发明制得的锆钛酸铅-铁酸钴厚膜具有良好的电性能和磁性能,可应用于制备厚膜传感器,位移器,具有设备简单,成本低、成膜快、组分易于调整等特点,可大规模制备膜材料。

    铁酸钴磁性厚膜的制备方法

    公开(公告)号:CN101567261A

    公开(公告)日:2009-10-28

    申请号:CN200910046943.7

    申请日:2009-03-03

    申请人: 同济大学

    IPC分类号: H01F41/14 H01F1/00

    摘要: 本发明涉及电子材料与器件领域,公开了一种铁酸钴磁性厚膜的制备方法,为将铁酸钴分散在溶剂中制成浓度均匀的悬浮液,然后在恒电场条件下经过电泳沉积制备而成。本发明制得的铁酸钴磁性厚膜具有较高的矫顽磁场和磁饱和强度,可应用于制备厚膜电容,移相器,而且具有设备简单、成本低、成膜快、组分易于控制的特点。