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公开(公告)号：CN111644427A
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN202010538177.2
申请日：2020-06-12
申请人： 哈尔滨工业大学
摘要： 一种常压等离子体清洗系统，属于常压等离子体清洗技术领域，具体方案如下：一种常压等离子体清洗系统，包括工作台、固定架、等离子体喷枪、等离子体发生器、移动机构和夹具体，所述固定架设置在工作台上，所述等离子体喷枪安装在固定架上，所述等离子体喷枪通过气管Ⅰ与等离子体发生器连接，所述等离子体发生器通过气管Ⅱ与气源相连，所述移动机构设置在工作台上，所述夹具体安装在移动机构上，所述夹具体位于等离子体喷枪的下方。本发明所设计的等离子体清洗系统简单可靠，灵活度大，速度调节范围广，负载能力强，运动控制简单，能够对各种金属零部件进行清洗，是一款环保经济、高效易操作的常压等离子体清洗系统。
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公开(公告)号：CN115780411A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211389504.8
申请日：2022-11-08
申请人： 哈尔滨工业大学
摘要： 本发明涉及等离子清洗技术领域，提供一种光学件用等离子清洗头和等离子体清洗设备，包括呈中空的等离子体流通组件和安装在等离子体流通组件上的镜框，等离子体流通组件上设有比适于喷射出等离子体的喷射口大且适于弥散出等离子体的出流口，镜框与出流口连通且围绕在出流口外，以及，镜框适于镶嵌光学镜体，以使光学镜体与出流口呈相对设置，有助于提升等离子体从出流口流动至光学镜体的分散性和稳定性，有助于促进光学镜体对等离子体进行能量吸收，有助于提高等离子体对光学镜体进行大面积清洗的强度和效率，摆脱了喷射口对等离子体清洗光学件的性能构成制约的困境。
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公开(公告)号：CN115633438A
公开(公告)日：2023-01-20
申请号：CN202211389505.2
申请日：2022-11-08
申请人： 哈尔滨工业大学
摘要： 本发明涉及等离子体清洗技术领域，提供一种防尖端放电式单极性电极结构和等离子体清洗装置，防尖端放电式单极性电极结构包括无介质阻挡电极组件、绝缘槽体和高压导电组件，无介质阻挡电极组件包括两个去尖端电极，两个去尖端电极相对设置且形成电极空间，两个去尖端电极均内置在绝缘槽体的凹槽中，两个去尖端电极均与高压导电组件电性连接，两个去尖端电极均具备防尖端放电属性，防止在两个去尖端电极附近引发单极电晕，有助于抑制因尖端电极引起的电弧光，电极空间具备扩展放电空间属性，支持在增强电场强度的基础上扩展放电空间，突破了利用绝缘介质阻挡层抑制因尖端电极引起电弧光的束缚，有助于摆脱绝缘介质阻挡层对放电空间构成制约。
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公开(公告)号：CN115625155A
公开(公告)日：2023-01-20
申请号：CN202211389445.4
申请日：2022-11-08
申请人： 哈尔滨工业大学
摘要： 本发明涉及等离子清洗技术领域，提供一种等离子体产生装置及清洗设备，所述等离子体产生装置为内部中空结构，等离子体产生装置适于嵌套在待清洗工件外且与待清洗工件可拆卸式连接，以及，等离子体产生装置适于与待清洗工件合围形成真空室，真空室适于工作气体与等离子体共用，防止等离子体产生装置在产生等离子体过程中与待清洗工件分离，无需等离子体产生装置与待清洗工件发生相对移动，即可促使等离子体对等离子体产生装置和待清洗工件进行大面积清洗，兼顾了待清洗工件在等离子体产生装置中的可拆装性和稳定性，有助于为等离子体扩展清洗面积和降低等离子体大面积清洗待清洗工件的难度。
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