一种柔性铜铟镓硒太阳电池的碱金属掺杂系统及碱金属掺杂方法

    公开(公告)号:CN118630088A

    公开(公告)日:2024-09-10

    申请号:CN202310224767.1

    申请日:2023-03-09

    Abstract: 本公开涉及一种柔性铜铟镓硒太阳电池的碱金属掺杂系统及碱金属掺杂方法,所述碱金属掺杂系统包括碱金属前掺杂区,吸收层沉积区,碱金属后掺杂区和热处理区;所述碱金属前掺杂区包括第一碱金属蒸发源和第一碱金属蒸发速率测量装置;所述碱金属后掺杂区包括第二碱金属蒸发源、碱金属后掺杂测量单元,第一硒蒸发源和第一硒热阴极离子规;所述碱金属后掺杂测量单元包括伸缩装置和第二碱金属蒸发速率测量装置。本公开的系统实现了对碱金属和硒的测量和监控,解决了碱金属快速扩散形成缺陷的问题和常规离子规检测时受环境影响而误判及长时间运行受硒蒸气腐蚀导致测试精度降低的难题,降低热处理的时间,同时为碱金属后掺杂提供更灵活和稳健的测控环境。

    检测装置及检测方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117538306A

    公开(公告)日:2024-02-09

    申请号:CN202210918658.5

    申请日:2022-08-01

    Abstract: 本公开涉及一种检测装置及检测方法,检测装置包括:输送线体,用于输送待测基片;检测机构,包括光谱仪、阳极组件以及阴极组件,阳极组件包括气体流路和具有反应腔的阳极金属端子,气体流路与反应腔连通,以用于向反应腔内填充工艺气体或者将反应腔抽真空,阳极金属端子的第一端设置有封闭反应腔的透光部,与第一端相对的第二端具有与反应腔连通的开口,阳极组件连接于光谱仪且透光部位于光谱仪的检测口和反应腔之间,阴极组件包括电连接的阴极金属端子和电源;以及驱动机构,用于驱动阳极金属端子及阴极金属端子分别朝向或远离位于检测区域的待测基片移动。该检测装置能够实现在线检测待测基片中各元素的光谱强度/含量随时间/深度的变化。

    柔性电池片的印刷装置及方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117465121A

    公开(公告)日:2024-01-30

    申请号:CN202210861713.1

    申请日:2022-07-20

    Abstract: 本公开涉及一种柔性电池片的印刷装置及方法,该印刷装置包括:输送线;托盘机构,可移动地设于输送线,具有吸附状态和非吸附状态,在吸附状态,托盘机构吸附置于其上的柔性电池片;在非吸附状态,柔性电池片能够放置于托盘机构或者由托盘机构移除;位置检测机构,设于印刷工位,用于检测托盘机构的位置和柔性电池片在托盘机构上的相对位置;以及印刷机构,与位置检测机构通信连接,用于根据位置检测机构检测的托盘机构的位置和柔性电池片在托盘机构的相对位置移动,并在柔性电池片上完成丝网印刷。本公开的柔性电池片的印刷装置,能够实现柔性电池片在印刷过程中的稳定传递,且能够实现精确定位并实现丝网印刷,保障丝网印刷质量。

    硒源加热裂解装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117551984A

    公开(公告)日:2024-02-13

    申请号:CN202210938962.6

    申请日:2022-08-05

    Abstract: 本公开涉及一种硒源加热裂解装置,包括:加热单元,包括盒体、坩埚和第一加热组件,盒体包括密闭的空腔以及与空腔连通的至少一个喷口,坩埚设于所述空腔中,第一加热组件设于盒体,用于在第一预设温度将坩埚中的硒料加热成硒蒸气;以及裂解单元,包括裂解管以及设于裂解管周向的第二加热组件,裂解管的一端与喷口连通,第二加热组件用于在第二预设温度对流经裂解管的硒蒸气进行裂解,其中,所述第二预设温度高于所述第一预设温度。通过上述技术方案,该硒源加热裂解装置用以至少部分解决硒反应时的活性不高、硒消耗量大、硒蒸气控制不稳定而影响薄膜结晶质量和电学特性的技术问题。

    真空镀膜系统及真空镀膜方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117551977A

    公开(公告)日:2024-02-13

    申请号:CN202210940330.3

    申请日:2022-08-05

    Abstract: 本公开涉及一种真空镀膜系统及真空镀膜方法,系统包括:真空腔体,设置于真空腔体内部用于带动基片移动的传送装置,以及设置于真空腔体内部用于加热基片的加热器;真空腔体内还设置有沿基片移动方向的多个蒸发镀膜腔室,以及与每个蒸发镀膜腔室配合的镀膜检测组件,蒸发镀膜腔室内设置有蒸发源;控制器,控制器用于至少根据目标镀膜检测组件检测得到的目标镀膜信息,确定与目标镀膜检测组件配合的目标蒸发镀膜腔室的目标镀膜结果,并基于目标镀膜结果对目标蒸发镀膜腔室的蒸发源进行控制,目标镀膜检测组件为真空腔体内的任一个镀膜检测组件。采用本公开的系统,可以对镀膜工艺起到更加细致的控制,使得控制更加灵活准确。

Patent Agency Ranking