公开(公告)号：CN103608892A

公开(公告)日：2014-02-26

申请号：CN201280020919.6

申请日：2012-04-25

Applicant: 塞勒姆电子与微波工业应用研究公司

Inventor： 阿德里安·格朗德芒格 ,  让-玛丽·雅各米诺 ,  玛丽莱娜·拉多尤 ,  路易斯·拉特拉斯

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H05B6/6447 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32201 ,  H01J37/32229 ,  H01J37/32266 ,  H01J37/32302 ,  H01J37/32311 ,  H01J37/32678 ,  H05B6/664 ,  H05B6/74

Abstract: 本发明涉及一种负载微波处理设备，包括至少一个应用装置（30）;至少一个固态类型的在微波范围内的发生器（4），该发生器通过用于引导电磁波的装置（5）连接到至少一个应用装置（30）;至少一个频率调整系统（40），该频率调整系统设计用于调整所述对应的发生器（4）产生的电磁波的频率;所述或每个应用装置（30）的测量系统（31），该测量系统设计用于测量由该应用装置（30）发射的反射功率PR（i）;自动控制装置（6），该自动控制装置连接至所述或每个频率调整系统（40）和每个测量系统（31），从而根据该发射的功率控制对电磁波频率f（i）的调整,进而调整反射功率PR（i）和/或调整发射功率PT（i）。

公开(公告)号：CN101978778B

公开(公告)日：2014-01-08

申请号：CN200980109909.8

申请日：2009-03-19

Applicant: 塞勒姆电子与微波工业应用研究公司

Inventor： 安德烈·格朗热 ,  让-玛丽·雅各米诺 ,  阿德里安·格朗德芒格

IPC: B01J19/12 ,  H05B6/70

CPC classification number: H05B6/70 ,  B01J19/126 ,  B01J2219/1215 ,  B01J2219/1227 ,  B01J2219/1254 ,  B01J2219/1269 ,  B01J2219/1293 ,  H05B6/806

Abstract: 本发明涉及一种用于利用电磁辐射处理反应介质的设备，包括电磁辐射发生器(1)、包含所述反应介质的反应器(2)、以及用于将由发生器(1)产生的电磁辐射传递到包含在所述反应器(2)中的反应介质的装置(3)，所述装置(3)包括用来传递所述发生器(1)的电磁辐射的波导(4)以及被配置以使得由波导(4)所传递的电磁能量传送到反应介质的连接装置(5)，本发明的特征在于，所述波导(4)包括特别是基本上为“U”形的弯曲区段(40)，形成所述波导(4)的返回回路，并且该处理装置包括使得发生器(1)与反应器(2)隔离的分离壁(92)，所述反应器(2)与波导(4)的弯曲区段(40)连接，并且所述弯曲区段(40)至少部分地在分离壁(92)的与所述发生器(1)相对的一侧(90)延伸。本发明适用于涉及对反应介质热处理的设备的领域，特别是通过微波辐射。

公开(公告)号：CN103608892B

公开(公告)日：2018-02-06

申请号：CN201280020919.6

申请日：2012-04-25

Applicant: 塞勒姆电子与微波工业应用研究公司

Inventor： 阿德里安·格朗德芒格 ,  让-玛丽·雅各米诺 ,  玛丽莱娜·拉多尤 ,  路易斯·拉特拉斯

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H05B6/6447 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32201 ,  H01J37/32229 ,  H01J37/32266 ,  H01J37/32302 ,  H01J37/32311 ,  H01J37/32678 ,  H05B6/664 ,  H05B6/74

Abstract: 本发明涉及一种负载微波处理设备，包括至少一个应用装置（30）;至少一个固态类型的在微波范围内的发生器（4），该发生器通过用于引导电磁波的装置（5）连接到至少一个应用装置（30）;至少一个频率调整系统（40），该频率调整系统设计用于调整所述对应的发生器（4）产生的电磁波的频率;所述或每个应用装置（30）的测量系统（31），该测量系统设计用于测量由该应用装置（30）发射的反射功率PR（i）;自动控制装置（6），该自动控制装置连接至所述或每个频率调整系统（40）和每个测量系统（31），从而根据该发射的功率控制对电磁波频率f（i）的调整,进而调整反射功率PR（i）和/或调整发射功率PT（i）。

公开(公告)号：CN101978778A

公开(公告)日：2011-02-16

申请号：CN200980109909.8

申请日：2009-03-19

Applicant: 塞勒姆电子与微波工业应用研究公司

Inventor： 安德烈·格朗热 ,  让-玛丽·雅各米诺 ,  阿德里安·格朗德芒格

IPC: H05B6/70

CPC classification number: H05B6/70 ,  B01J19/126 ,  B01J2219/1215 ,  B01J2219/1227 ,  B01J2219/1254 ,  B01J2219/1269 ,  B01J2219/1293 ,  H05B6/806

Abstract: 本发明涉及一种用于利用电磁辐射处理反应介质的设备，包括电磁辐射发生器(1)、包含所述反应介质的反应器(2)、以及用于将由发生器(1)产生的电磁辐射传递到包含在所述反应器(2)中的反应介质的装置(3)，所述装置(3)包括用来传递所述发生器(1)的电磁辐射的波导(4)以及被配置以使得由波导(4)所传递的电磁能量传送到反应介质的连接装置(5)，本发明的特征在于，所述波导(4)包括特别是基本上为“U”形的弯曲区段(40)，形成所述波导(4)的返回回路，并且该处理装置包括使得发生器(1)与反应器(2)隔离的分离壁(92)，所述反应器(2)与波导(4)的弯曲区段(40)连接，并且所述弯曲区段(40)至少部分地在分离壁(92)的与所述发生器(1)相对的一侧(90)延伸。本发明适用于涉及对反应介质热处理的设备的领域，特别是通过微波辐射。