一种医用空心镁或镁合金植入物及其制备方法

    公开(公告)号:CN115252916A

    公开(公告)日:2022-11-01

    申请号:CN202210874296.4

    申请日:2022-07-22

    IPC分类号: A61L31/08 A61L31/02 A61L31/14

    摘要: 本发明涉及一种医用空心镁或镁合金植入物及其制备方法,包括:S1:获得具有中空结构的镁或镁合金内植物;S2:进行第一次化学转化处理,形成第一涂层;S3:对S2中获得的所述内植物的内表面区域进行堵塞或屏蔽,外表面整体喷涂磷酸钙盐粉末,获得第二涂层;S4:对S3中获得的所述内植物进行第二次化学转化处理,其中S4中所述第二复合溶液的浓度低于S2中所述第一复合溶液的浓度,并且,S4中所述第二次化学转化处理的反应温度、反应时间均低于S2中所述第一次化学转化处理的反应温度、反应时间。采用上述方法获得的医用植入物外表面,以及空心结构对应的内表面皆具有致密层,在治疗时间内的保持结构完整性和力学强度,从而更好地发挥康复效果。

    一种在PEEK材料上形成钛涂层的镀膜工艺

    公开(公告)号:CN116641029A

    公开(公告)日:2023-08-25

    申请号:CN202310631020.8

    申请日:2023-05-31

    摘要: 本发明涉及一种在PEEK材料上形成钛涂层的镀膜工艺,包括:S1、对所述PEEK材料进行电子束增强等离子体清洗改性,采用氩离子轰击PEEK材料表面;S2、对经过S1处理的所述PEEK材料表面进行金属离子轰击,通过离化源产生的带电金属离子通过高负偏压加速轰击所述PEEK材料表面;S3、在经过S2处理的所述PEEK材料表面进行金属沉积,以钛作为靶材,在所述PEEK材料上沉积钛涂层。该工艺可以在医用PEEK材料上获得结合力强、镀层致密、生物相容性金属膜层,沉积的涂层可保持PEEK材料表面低弹性模量匹配的特性以及3D打印PEEK多孔结构,沉积温度控制在100℃以下,不影响材料的力学性能。

    一种钛钽复合植入物及其制备方法

    公开(公告)号:CN116212105A

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202310026061.4

    申请日:2023-01-09

    摘要: 本发明涉及一种钛钽复合植入物及其制备方法,包括以下步骤:对钛或钛合金植入物进行A、B区域分割,定义A区域为钽,定义B区域为钛;对所述B区域进行掩膜覆盖,在所述A区域形成钽层,所述B区域被掩膜覆盖保护,在完成A区域的钽层制备后,对所述掩膜进行清除,得到局部覆盖钽层的植入物;对所述局部覆盖钽层的植入物进行阳极氧化处理,电压为10~160V,温度为10~50℃,时间为30s~300s,得到钛钽复合植入物,所述钛钽复合植入物具有双色膜层,兼具功能效果和功能标识,不仅解决了钛钽复合存在的电偶腐蚀问题,而且可以通过颜色来识别钽功能区域、钛功能区域,拓宽复合植入物材料的应用场景,解决临床痛点,具有广泛的运用前景。

    一种多孔材料的真空镀膜工艺
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117286462A

    公开(公告)日:2023-12-26

    申请号:CN202311272673.8

    申请日:2023-09-28

    摘要: 本发明涉及一种在多孔材料的真空镀膜工艺,特别是3D打印多孔材料、酸蚀材料表面进行真空镀膜的工艺,包括:S1、对所述多孔材料材料进行电子束增强等离子体清洗,采用氩离子轰击多孔材料材料表面;S2、对经过S1处理的所述多孔材料材料表面进行二次溅射金属离子沉积,通过离化源产生的带电金属离子经周期性的溅射‑反溅射镀膜;S3、在经过S2处理的所述多孔材料材料表面进行金属沉积。该工艺可以在医用多孔材料上获得包覆性更强的生物相容性金属膜层,沉积的涂层可保持材料多孔结构、提高覆盖能力,对于多孔金属材料或多孔金属粉末打印材料可大幅降低基体成分的离子析出,具有极好的运用前景。

    一种医用材料钽涂层PVD镀膜工艺
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117210788A

    公开(公告)日:2023-12-12

    申请号:CN202311192968.4

    申请日:2023-09-15

    摘要: 本发明涉及一种医用材料钽涂层PVD镀膜工艺,包括:S1、对所述医用材料进行电子束增强等离子体清洗改性,采用氩离子轰击医用材料表面;S2、对经过S1处理的所述医用材料表面进行金属离子轰击,通过离化源产生的带电金属离子通过高负偏压加速轰击所述医用材料表面;S3、在经过S2处理的所述医用材料表面沉积过渡层和金属膜层,所述过渡层通过反应气体进行梯度沉积,所述金属膜层以钽作为靶材。该工艺可以在医用材料上获得结合力强、镀层致密、生物相容性且具备射线不透性金属膜层,通过梯度反应气体、负偏压、靶电流沉积到医用材料表面形成钽膜层,梯度镀膜降低钽金属堆叠过程产生的应力,增加膜层的可靠性,具有优异的机械性能。

    一种医用材料钽涂层PVD镀膜工艺
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116752108A

    公开(公告)日:2023-09-15

    申请号:CN202310631034.X

    申请日:2023-05-31

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/02 C23C14/20

    摘要: 本发明涉及一种医用材料钽涂层PVD镀膜工艺,包括:S1、对所述医用材料进行电子束增强等离子体清洗改性,采用氩离子轰击医用材料表面;S2、对经过S1处理的所述医用材料表面进行金属离子轰击,通过离化源产生的带电金属离子通过高负偏压加速轰击所述医用材料表面;S3、在经过S2处理的所述医用材料表面沉积过渡层和金属膜层,所述过渡层通过反应气体进行沉积,所述金属膜层以钽作为靶材。该工艺可以在医用材料上获得结合力强、镀层致密、生物相容性金属膜层,通过梯度反应气体、负偏压、靶电流沉积到医用材料表面形成钽膜层,梯度镀膜降低不同金属材料堆叠过程产生的应力,增加膜层的可靠性,具有优异的机械性能。