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公开(公告)号：CN110449676B
公开(公告)日：2020-08-25
申请号：CN201910717399.8
申请日：2019-08-05
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明提供一种基于NaOH电解液电解磨削高铬合金的加工预处理方法，属于电化学辅助加工领域。采用恒电位极化方法对高铬合金表面进行电化学处理，以高铬合金工件为工作电极，Ag/AgCl电极为参比电极，铂网电极为辅助电极，采用浓度为1M的NaOH作为电解液，5V电位下处理15～45s，在高铬合金表面形成10～17μm厚的氧化层。再机械加工去除阳极氧化层，达到最终加工要求。本发明经过简单的电化学反应在高铬合金表面能够快速形成疏松多孔的加工预处理氧化层，且氧化层厚度可控，有效提高后续加工过程中加工效率、降低加工力以及减少刀具磨损。
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公开(公告)号：CN110449676A
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201910717399.8
申请日：2019-08-05
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明提供一种基于NaOH电解液电解磨削高铬合金的加工预处理方法，属于电化学辅助加工领域。采用恒电位极化方法对高铬合金表面进行电化学处理，以高铬合金工件为工作电极，Ag/AgCl电极为参比电极，铂网电极为辅助电极，采用浓度为1M的NaOH作为电解液，5V电位下处理15～45s，在高铬合金表面形成10～17μm厚的氧化层。再机械加工去除阳极氧化层，达到最终加工要求。本发明经过简单的电化学反应在高铬合金表面能够快速形成疏松多孔的加工预处理氧化层，且氧化层厚度可控，有效提高后续加工过程中加工效率、降低加工力以及减少刀具磨损。
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公开(公告)号：CN112157561B
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202010822565.3
申请日：2020-08-14
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明公开了一种具有盘面在位测量与修整功能的抛光机，包括底座、主轴、抛光盘、支撑单元、进给单元、测量单元、修整单元和计算机；所述的进给单元、测量单元与修整单元分别安装在支撑单元上。本发明支持双工位同时抛光加工。进给单元在加工过程中可带动工件沿复杂轨迹运动，从而提高工件与抛光盘接触的均匀性，进而提高抛光精度。测量单元可在位测量抛光盘表面的面形、对抛光机的加工稳定性进行评价，从而指导抛光盘表面的修整或更换。修整单元可以在位修整抛光盘表面，使其面形精度提升，进而保证抛光机的加工精度。本发明实现抛光盘面形的在位修整，使抛光机始终保持良好的加工状态，进而保证工件的面形精度与表面质量、降低废品率。
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公开(公告)号：CN112157561A
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN202010822565.3
申请日：2020-08-14
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明公开了一种具有盘面在位测量与修整功能的抛光机，包括底座、主轴、抛光盘、支撑单元、进给单元、测量单元、修整单元和计算机；所述的进给单元、测量单元与修整单元分别安装在支撑单元上。本发明支持双工位同时抛光加工。进给单元在加工过程中可带动工件沿复杂轨迹运动，从而提高工件与抛光盘接触的均匀性，进而提高抛光精度。测量单元可在位测量抛光盘表面的面形、对抛光机的加工稳定性进行评价，从而指导抛光盘表面的修整或更换。修整单元可以在位修整抛光盘表面，使其面形精度提升，进而保证抛光机的加工精度。本发明实现抛光盘面形的在位修整，使抛光机始终保持良好的加工状态，进而保证工件的面形精度与表面质量、降低废品率。
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