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公开(公告)号：CN113977396B
公开(公告)日：2022-11-18
申请号：CN202111249295.2
申请日：2021-10-26
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明公开了一种用于金属构筑成形的自动打磨清洁系统及方法，所述系统包括吊运模块、转运模块、自动打磨模块、自动清洁模块、控制模块和龙门式三轴运动平台；所述自动打磨模块和自动清洁模块分别安装在第一Z轴和第二Z轴上。本发明采用龙门式三轴运动平台，实现了金属构筑成形工程化应用中基材块连接表面打磨清洁工艺的自动化和集成化，可显著提高基材块表面质量和加工效率，保证基材构筑效果。本发明采用的转运平车可以同时搭载多块基材块进行处理，这大大增加了基材块打磨清洁的工作效率。本发明采用一种可变角度的自动打磨装置，可以根据基材块的不同材质和加工要求，调节打磨角度，以达到不同的表面质量，适用范围广。
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公开(公告)号：CN115124927A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202210838534.6
申请日：2022-07-18
申请人： 大连理工大学
IPC分类号： C09G1/02
摘要： 一种碳化硅晶体的绿色化学机械抛光液，是一种绿色、高效、高质量碳化硅晶体化学机械抛光液，包括过氧化氢、氧化铝、碳酸氢钠、分散剂和去离子水，用于液对碳化硅晶体进行化学机械抛光。其中过氧化氢的浓度为20wt％～30wt％，氧化铝浓度为3wt％～8wt％，过氧化氢与碳酸氢钠的摩尔比为5～20，分散剂的浓度为0.5wt‰～5wt‰，其余为去离子水。使用该抛光液抛光碳化硅晶体后，以132nm/h的材料去除率能够获得表面粗糙度为0.081nm的超光滑的表面。此外，该抛光液区别于其他含有强酸、强碱和重金属离子的传统抛光液，包含的各种成分及反应产物均对环境无污染，能够解决工业生产过程中抛光废液处理难和处理费用贵的问题，降低生产成本，有利于大规模工业生产。
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公开(公告)号：CN112157561B
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202010822565.3
申请日：2020-08-14
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明公开了一种具有盘面在位测量与修整功能的抛光机，包括底座、主轴、抛光盘、支撑单元、进给单元、测量单元、修整单元和计算机；所述的进给单元、测量单元与修整单元分别安装在支撑单元上。本发明支持双工位同时抛光加工。进给单元在加工过程中可带动工件沿复杂轨迹运动，从而提高工件与抛光盘接触的均匀性，进而提高抛光精度。测量单元可在位测量抛光盘表面的面形、对抛光机的加工稳定性进行评价，从而指导抛光盘表面的修整或更换。修整单元可以在位修整抛光盘表面，使其面形精度提升，进而保证抛光机的加工精度。本发明实现抛光盘面形的在位修整，使抛光机始终保持良好的加工状态，进而保证工件的面形精度与表面质量、降低废品率。
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公开(公告)号：CN113070537A
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN202110360284.5
申请日：2021-04-02
申请人： 大连理工大学
摘要： 一种3D打印的中空循环辅助电极结构，属于电解加工技术领域，其结构为二级阶梯圆柱型结构，内部设有中空的流道结构。流道结构包括八条“斜入射”结构的入口流道、一条出口流道和环形隔板，入口流道出口处与出口流道连通；入口流道作为电解液入口，电解液从二级阶梯圆柱型结构大径端流入，在小径端经过被加工面流入出口流道，由出口流道流出。使用时，电极结构紧贴待加工表面，被加工工件作为阳极与电源正极相连，设于出口流道处的阴极结构与电源负极相连。本发明应用于电解加工高精度的小孔，作为电解加工小孔的辅助电极，通过改善结构使得被加工区域的电解液流速更为均匀，能够得到更优秀的小孔表面质量；可提高小孔加工精度，长时间可靠工作。
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公开(公告)号：CN109238218B
公开(公告)日：2019-12-27
申请号：CN201811095740.2
申请日：2018-09-19
申请人： 大连理工大学
IPC分类号： G01B21/30
摘要： 本发明公开了一种大型抛光机抛光盘的平面度检测装置及其工作方法，所述的装置包括基座、气体静压轴承单元、摆臂、距离传感器、抛光盘、液压转台和工控机，所述的抛光盘安装在液压转台上，所述的气体静压轴承单元和液压转台并列固定在基座上，所述的摆臂两端分别与气体静压主轴和距离传感器相连接。本发明使用气体静压主轴带动摆臂完成抛光机抛光盘的平面度测量，旋转运动精度可达0.1μm，与传统液压平台相比旋转运动精度提高至少50％；本发明可获得与普通龙门式测量装置相当的刚度但不过分占用抛光盘上方空间，便于抛光盘装卸；本发明使用在位测量的方式，节省了对抛光盘进行拆卸与安装的人力与时间成本。
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公开(公告)号：CN110358454A
公开(公告)日：2019-10-22
申请号：CN201910658529.5
申请日：2019-07-20
申请人： 大连理工大学
IPC分类号： C09G1/02
摘要： 一种通用化学机械抛光液，属于超硬材料超精密加工领域，其成分包含氧化锆磨料、硅酸钠分析纯试剂、去离子水。室温下，将磨料氧化锆、硅酸钠、分别加入去离子水中，超声设备中震荡5分钟得到化学机械抛光液。所述抛光液中，氧化锆浓度为0.05～0.09g/ml，粒径为0.05～0.2μm，所述的硅酸钠浓度为0.05～0.12g/ml。该化学机械抛光液具有通用性，能够用于抛光蓝宝石晶体，石英、金刚石、硅片、钨合金材料。相较于传统抛光液，晶体表面粗糙度降低，无损伤缺陷。且该新型抛光液的成本低廉，无需特殊工艺合成，并且所有组分均不会造成环境污染。
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公开(公告)号：CN109680326A
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：CN201910040154.6
申请日：2019-01-16
申请人： 大连理工大学
IPC分类号： C25F3/06
摘要： 本发明属于电化学辅助加工领域，提供一种基于高铬合金电化学脱合金的加工预处理方法。包括以下步骤：对高铬合金电化学脱合金预处理，将高铬合金工件浸泡入电解液中进行电化学脱合金处理，处理过程采用三电极电化学体系。再机械加工去除预处理层。本发明基于Cr、Fe元素在碱性溶液中特殊反应机制，在碱性条件中电化学极化将促进合金表面Fe元素的溶解去除并抑制Cr元素的溶解去除，进而实现脱合金化，表面形成疏松多孔结构；再利用铣削、磨削等机械加工方法去除脱合金预处理层。本发明加工效率高、切削力小、可减少刀具磨损，适用于高铬合金超精密加工。
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公开(公告)号：CN104445998B
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201410690682.3
申请日：2014-11-25
申请人： 大连理工大学
IPC分类号： C03C21/00
摘要： 本发明提供了一种实时调控脆性材料脆塑转变厚度的方法，属于材料表面改性工艺技术领域。采用具有不同成分和活性粒子浓度的等离子体，对脆性材料的表面进行实时的可选择性的改性。将等离子体喷向脆性材料，活性粒子附着于材料表面，降低晶体内聚力和表面张力。活性粒子渗入材料表面的微裂纹内，促进晶格间隙和内部裂纹进一步扩展，促使内部位错向表面移动，使得表面更易于变形。等离子体不断渗入材料表面，改善材料表面的性能，以达到改善脆性材料表面塑性和脆塑转变厚度的目的。
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公开(公告)号：CN105965392A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201610487544.4
申请日：2016-06-28
申请人： 大连理工大学
IPC分类号： B24B53/02 , B24B53/12 , B24B53/017
CPC分类号： B24B53/02 , B24B53/017 , B24B53/12
摘要： 本发明属于金刚石砂轮修整领域，提供一种粗磨粒金刚石端面砂轮的修整方法。该修整方法包括：1)制备W‑Mo‑Cr合金材料作为修整工具；2)将修整工具安装在主轴上；将粗磨粒金刚石端面砂轮安装在夹具上，粗磨粒金刚石端面砂轮与修整工具接触；夹具一侧与弹簧加载装置固定连接，弹簧加载装置用于给粗磨粒金刚石端面砂轮施加压力；弹簧加载装置下部与十字导轨连接安装完成；3)调试装置；4)设定压力和主轴转速，缓慢加载压力和主轴转速，当压力和主轴转速达到设定值时，进行电镀金刚石端面砂轮的修整。本发明采用干磨修整的方式，更容易积聚热量，快速改善粗磨粒金刚石端面砂轮表面磨粒等高性的目的，提高金刚石磨粒的修整效率。
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