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公开(公告)号：CN114055257B
公开(公告)日：2022-11-18
申请号：CN202111396877.3
申请日：2021-11-23
Applicant: 大连理工大学 , 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明提供一种受控磁场复杂曲面化学机械抛光装备，包括主轴系统，磁场系统，抛光槽和数控系统。抛光时，抛光槽内填充化学抛光液和磁性磨料，抛光过程中可以通过精确控制电磁线圈的供电形式来控制抛光槽内部的电磁场，进而控制抛光槽内磁性磨料的运动轨迹与运动形态，结合主轴的转速和偏转角度的变化以及主轴的轴向超声振动作用，使得磁性磨料能到达曲面零件的任何表面，能以较强的均匀的机械磨削作用力去除复杂曲面零件表面由化学抛光液形成的软化膜，该装备能适用于抛光不同类型不同材质的复杂曲面零件，通用性强，抛光后复杂曲面零件表面一致性好，表面质量高。
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公开(公告)号：CN114055257A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202111396877.3
申请日：2021-11-23
Applicant: 大连理工大学 , 中国兵器科学研究院宁波分院
Abstract: 本发明提供一种受控磁场复杂曲面化学机械抛光装备，包括主轴系统，磁场系统，抛光槽和数控系统。抛光时，抛光槽内填充化学抛光液和磁性磨料，抛光过程中可以通过精确控制电磁线圈的供电形式来控制抛光槽内部的电磁场，进而控制抛光槽内磁性磨料的运动轨迹与运动形态，结合主轴的转速和偏转角度的变化以及主轴的轴向超声振动作用，使得磁性磨料能到达曲面零件的任何表面，能以较强的均匀的机械磨削作用力去除复杂曲面零件表面由化学抛光液形成的软化膜，该装备能适用于抛光不同类型不同材质的复杂曲面零件，通用性强，抛光后复杂曲面零件表面一致性好，表面质量高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114247897A
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202111574093.5
申请日：2021-12-21
Applicant: 大连理工大学
IPC: B22F10/28 , B22F10/32 , B22F10/80 , B22F1/12 , C22C21/02 , B29C64/118 , B29C64/386 , B63B3/14 , B63B73/50 , B33Y10/00 , B33Y40/00 , B33Y50/00 , B33Y70/10 , B33Y80/00
Abstract: 本发明提供一种海上航行装置复合结构及其增材制造方法，所述海上航行装置复合结构为通过构建海上航行装置的三维模型，在三维模型转换的可识别的数据命令基础上，利用电弧增材制造技术和熔融沉积成型技术制备的所得结构，该结构包括海上航行装置基体、海上航行装置内层和海上航行装置外层。本发明方法实现了重量轻、强度高、抗冲击、韧性和防腐性能强的海上航行装置制备。
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公开(公告)号：CN115365995B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202210908550.8
申请日：2022-07-29
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明提供一种大尺寸石英坩埚非圆曲面化学机械磨抛一体化装备，包括：坩埚固定吸盘夹具、磨抛盘、浮动主轴、法兰盘、主轴旋转系统、主轴组件、主轴上下移动系统、机架、操作系统、抛光液滴加系统。本发明设计的装备通过坩埚固定吸盘夹具保证坩埚的定位精度，通过主轴旋转和上下移动实现磨抛盘进行上下和旋转运动，实现了对坩埚内壁同时进行的高精度打磨和抛光，同时通过液压伸缩模块调整磨抛轮和坩埚内壁之间的挤压作用力，配合超声辅助，实现了坩埚内壁尤其是大尺寸坩埚非圆曲面内壁的高质高效化学机械磨抛。
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公开(公告)号：CN114247897B
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202111574093.5
申请日：2021-12-21
Applicant: 大连理工大学
IPC: B22F10/28 , B22F10/32 , B22F10/80 , B22F1/12 , C22C21/02 , B29C64/118 , B29C64/386 , B63B3/14 , B63B73/50 , B33Y10/00 , B33Y40/00 , B33Y50/00 , B33Y70/10 , B33Y80/00
Abstract: 本发明提供一种海上航行装置复合结构及其增材制造方法，所述海上航行装置复合结构为通过构建海上航行装置的三维模型，在三维模型转换的可识别的数据命令基础上，利用电弧增材制造技术和熔融沉积成型技术制备的所得结构，该结构包括海上航行装置基体、海上航行装置内层和海上航行装置外层。本发明方法实现了重量轻、强度高、抗冲击、韧性和防腐性能强的海上航行装置制备。
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公开(公告)号：CN114232016A
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN202111540090.X
申请日：2021-12-15
Applicant: 大连理工大学
IPC: C25B11/042 , B24B1/00 , B24B7/00
Abstract: 本发明提供一种块体铜表面微结构及其精确研磨制备方法与应用，采用固结不同粒径碳化硅磨粒砂纸和去离子水为机械研磨液的机械研磨方法，实现块体铜表面微腔体结构的精确制备。将研磨方法获得的具有微腔体结构的铜表面经后处理制备成二氧化碳电催化体系中的负极活性材料，实现在CO2电催化体系中的高效应用。本发明方法具有操作简单，大量制备的特点，获得表面均匀微腔体结构的铜负极材料表现出优异的电化学性能，为机械研磨微纳表面工程在电化学中的应用提供了新的思路，具有巨大的应用潜力。
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公开(公告)号：CN115365995A
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202210908550.8
申请日：2022-07-29
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明提供一种大尺寸石英坩埚非圆曲面化学机械磨抛一体化装备，包括：坩埚固定吸盘夹具、磨抛盘、浮动主轴、法兰盘、主轴旋转系统、主轴组件、主轴上下移动系统、机架、操作系统、抛光液滴加系统。本发明设计的装备通过坩埚固定吸盘夹具保证坩埚的定位精度，通过主轴旋转和上下移动实现磨抛盘进行上下和旋转运动，实现了对坩埚内壁同时进行的高精度打磨和抛光，同时通过液压伸缩模块调整磨抛轮和坩埚内壁之间的挤压作用力，配合超声辅助，实现了坩埚内壁尤其是大尺寸坩埚非圆曲面内壁的高质高效化学机械磨抛。
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