一种发光二极管及发光装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117810333A

    公开(公告)日:2024-04-02

    申请号:CN202311317728.2

    申请日:2023-10-11

    摘要: 本申请提供一种发光二极管及发光装置,本申请的发光二极管包括在第一半导体层中掺杂第一N型杂质,该第一N型杂质在距离有源层底面200nm~400nm的范围内具有一浓度为2E17/cm3的A点。上述第一N型杂质为Te,由于Te自身具有良好的高温特性,在高温下其浓度更加稳定,同时由于Te的类金属特性,其原子个数比较大,迁移率低。基于上述原因,第一半导体层中掺杂Te能够有效抑制第一半导体层中的掺杂物向有源层的迁移,提升有源层的晶体质量,同时还可保证第一半导体层向有源层提供充足的电子,从而保证了发光二极管的发光亮度。

    一种发光二极管及制作方法

    公开(公告)号:CN113875032B

    公开(公告)日:2023-03-24

    申请号:CN202180003015.1

    申请日:2021-06-24

    IPC分类号: H01L33/44 H01L33/22 H01L33/00

    摘要: 本发明公开一种发光二极管及制作方法,所述发光二极管包括:衬底,具有相对的第一表面和第二表面;半导体外延叠层,包含层叠于所述衬底的第一表面之上的第一导电类型半导体层、有源层和第二导电类型半导体层;侧壁,形成于所述半导体外延叠层的边缘,所述侧壁具有粗化结构,所述粗化结构包括凸起;其特征在于:还包含蚀刻阻挡层,位于所述半导体外延叠层远离衬底的上表面。所述蚀刻阻挡层,可防止侧壁粗化过程中蚀刻液对半导体外延叠层上表面的蚀刻,提升半导体发光二极管的外观良率,提升发光二极管的光电性能。

    发光二极管
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107492586A

    公开(公告)日:2017-12-19

    申请号:CN201710647048.5

    申请日:2017-08-01

    IPC分类号: H01L33/04 H01L33/32 H01L33/10

    摘要: 本发明公开了一种发光二极管,其可增加正向有效的光输出和/或通过组合式DBR结构将斜入射光最大效果反射。根据本发明的一个实施例,发光二极管,包括发光外延叠层,其具有相对的第一表面和第二表面,包含N型限制层、有源层和P型限制层,其中第一表面为出光面,所述外延叠层的下表面设为组合式DBR结构,其由N组DBR子层组合成,所述N组DBR子层从邻近有源层的第一对DBR子层起算,每组DBR子层的中心反射波长为分别为λ,λ+λ0,λ+2λ0……λ+(N-1)*λ0,其中λ为所述有源层的发光波长,(N-1)*λ0为有源层斜入射产生的最大蓝移量,λ0>0。

    一种发光二极管及发光装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117525231A

    公开(公告)日:2024-02-06

    申请号:CN202311437001.8

    申请日:2023-10-31

    IPC分类号: H01L33/14 H01L33/02

    摘要: 本申请提供了一种发光二极管及发光装置,包括:半导体外延叠层,包括依次堆叠的第一半导体层、有源层和第二半导体层;其中,第二半导体层包括电流扩展层,所述电流扩展层自第一半导体层至第二半导体层方向包括包含第一p型杂质的第一掺杂层、包含所述第一p型杂质和第二p型杂质的第二掺杂层、包含所述第二p型杂质的第三掺杂层;第一掺杂层中第一p型杂质的浓度小于等于第二掺杂层中第一p型杂质的浓度;第三掺杂层中第二p型杂质的浓度大于第二掺杂层中第二p型杂质的浓度。本申请通过在电流扩展层中掺杂两种不同p型杂质以及设置两种不同p型杂质的掺杂浓度,以提升发光二极管的电流扩展能力,降低发光二极管的内阻,提升发光二极管的亮度。

    一种发光二极管及制作方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116154077A

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN202310121738.2

    申请日:2021-06-24

    IPC分类号: H01L33/44 H01L33/22 H01L33/00

    摘要: 本发明公开一种发光二极管及制作方法,所述发光二极管包括:衬底,具有相对的第一表面和第二表面;半导体外延叠层,包含层叠于所述衬底的第一表面之上的第一导电类型半导体层、有源层和第二导电类型半导体层;侧壁,形成于所述半导体外延叠层的边缘,所述侧壁具有粗化结构,所述粗化结构包括凸起;其特征在于:还包含蚀刻阻挡层,位于所述半导体外延叠层远离衬底的上表面。所述蚀刻阻挡层,可防止侧壁粗化过程中蚀刻液对半导体外延叠层上表面的蚀刻,提升半导体发光二极管的外观良率,提升发光二极管的光电性能。

    发光二极管
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107492586B

    公开(公告)日:2019-10-25

    申请号:CN201710647048.5

    申请日:2017-08-01

    IPC分类号: H01L33/04 H01L33/32 H01L33/10

    摘要: 本发明公开了一种发光二极管,其可增加正向有效的光输出和/或通过组合式DBR结构将斜入射光最大效果反射。根据本发明的一个实施例,发光二极管,包括发光外延叠层,其具有相对的第一表面和第二表面,包含N型限制层、有源层和P型限制层,其中第一表面为出光面,所述外延叠层的下表面设为组合式DBR结构,其由N组DBR子层组合成,所述N组DBR子层从邻近有源层的第一对DBR子层起算,每组DBR子层的中心反射波长为分别为λ,λ+λ0,λ+2λ0……λ+(N‑1)*λ0,其中λ为所述有源层的发光波长,(N‑1)*λ0为有源层斜入射产生的最大蓝移量,λ0>0。

    一种发光二极管及制作方法

    公开(公告)号:CN113875032A

    公开(公告)日:2021-12-31

    申请号:CN202180003015.1

    申请日:2021-06-24

    IPC分类号: H01L33/44 H01L33/22 H01L33/00

    摘要: 本发明公开一种发光二极管及制作方法,所述发光二极管包括:衬底,具有相对的第一表面和第二表面;半导体外延叠层,包含层叠于所述衬底的第一表面之上的第一导电类型半导体层、有源层和第二导电类型半导体层;侧壁,形成于所述半导体外延叠层的边缘,所述侧壁具有粗化结构,所述粗化结构包括凸起;其特征在于:还包含蚀刻阻挡层,位于所述半导体外延叠层远离衬底的上表面。所述蚀刻阻挡层,可防止侧壁粗化过程中蚀刻液对半导体外延叠层上表面的蚀刻,提升半导体发光二极管的外观良率,提升发光二极管的光电性能。

    一种黄绿光发光二极管
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108110101B

    公开(公告)日:2020-03-27

    申请号:CN201711247866.2

    申请日:2017-12-01

    IPC分类号: H01L33/06 H01L33/12 H01L33/30

    摘要: 本发明公开了一种黄绿光发光二极管,包括第一类型半导体层、有源层和第二类型半导体导,其特征在于:所述有源层依次包含第一量子阱、第二量子阱、应变补偿层和第三量子阱,其中所述第一量子阱结构为无应变量子阱,所述第二、第三量子阱为应变量子阱。本发明采用无应变量子阱和大应变的量子阱组合,采取了应变补偿措施防止出现晶格弛豫,减少了Al的组分使得器件可靠性更强,同时提高量子阱对载流子的限制作用提高内量子效率。

    一种黄绿光发光二极管
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108110101A

    公开(公告)日:2018-06-01

    申请号:CN201711247866.2

    申请日:2017-12-01

    IPC分类号: H01L33/06 H01L33/12 H01L33/30

    摘要: 本发明公开了一种黄绿光发光二极管,包括第一类型半导体层、有源层和第二类型半导体导,其特征在于:所述有源层依次包含第一量子阱、第二量子阱、应变补偿层和第三量子阱,其中所述第一量子阱结构为无应变量子阱,所述第二、第三量子阱为应变量子阱。本发明采用无应变量子阱和大应变的量子阱组合,采取了应变补偿措施防止出现晶格弛豫,减少了Al的组分使得器件可靠性更强,同时提高量子阱对载流子的限制作用提高内量子效率。