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公开(公告)号:CN118621316A
公开(公告)日:2024-09-10
申请号:CN202411107729.9
申请日:2024-08-13
摘要: 本发明公开了一种高导电硬质涂层材料及其制备方法和应用。本发明的制备方法包括以下步骤:(1)对硬脆涂层进行加工,诱导硬脆涂层产生更多的裂纹;(2)将导电材料填充或富集在硬脆涂层的裂纹位置,得到所述高导电硬质涂层材料。本发明克服现有技术中尽量避免涂层材料产生的裂缝的技术偏见,通过机械手段,从物理角度,诱导硬脆涂层产生密集的网状微裂纹后,将铜、银等高导电性材料填充至裂纹间,一方面,在不影响涂层本身硬度的同时,大大提高了涂层表面的导电性;另一方面高导电性填充材料的填充对涂层裂纹起到了修复作用,在不影响涂层本身硬度的同时,还会提升涂层的使用寿命和表面耐磨性能等。
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公开(公告)号:CN118621316B
公开(公告)日:2024-10-22
申请号:CN202411107729.9
申请日:2024-08-13
摘要: 本发明公开了一种高导电硬质涂层材料及其制备方法和应用。本发明的制备方法包括以下步骤:(1)对硬脆涂层进行加工,诱导硬脆涂层产生更多的裂纹;(2)将导电材料填充或富集在硬脆涂层的裂纹位置,得到所述高导电硬质涂层材料。本发明克服现有技术中尽量避免涂层材料产生的裂缝的技术偏见,通过机械手段,从物理角度,诱导硬脆涂层产生密集的网状微裂纹后,将铜、银等高导电性材料填充至裂纹间,一方面,在不影响涂层本身硬度的同时,大大提高了涂层表面的导电性;另一方面高导电性填充材料的填充对涂层裂纹起到了修复作用,在不影响涂层本身硬度的同时,还会提升涂层的使用寿命和表面耐磨性能等。
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公开(公告)号:CN118563314A
公开(公告)日:2024-08-30
申请号:CN202411036448.9
申请日:2024-07-31
摘要: 本发明公开了一种铜基体‑钼复合涂层导电耐磨材料及其制备方法。本发明的制备方法包括在铜基体表面通过激光熔覆制备钼涂层,得到铜基体‑钼涂层材料;将铜基体‑钼涂层材料包埋于复合粉末中,在保护性气氛下,焙烧,得到铜基体‑钼复合涂层材料;所述复合粉末包括NaF、Al2O3和Si‑C‑S‑Al四元合金粉;激光熔覆中的激光采用红蓝光复合激光。本发明采用激光熔覆和包埋渗相结合的方法,制备出高硬度、高耐磨、高导电以及高抗氧化性能等综合性能高的涂层,为铜表面高性能涂层技术提供了新的思路,解决了在铜合金表面增材钼涂层并克服钼的抗氧化性能差的技术问题。
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公开(公告)号:CN118563314B
公开(公告)日:2024-10-08
申请号:CN202411036448.9
申请日:2024-07-31
摘要: 本发明公开了一种铜基体‑钼复合涂层导电耐磨材料及其制备方法。本发明的制备方法包括在铜基体表面通过激光熔覆制备钼涂层,得到铜基体‑钼涂层材料;将铜基体‑钼涂层材料包埋于复合粉末中,在保护性气氛下,焙烧,得到铜基体‑钼复合涂层材料;所述复合粉末包括NaF、Al2O3和Si‑C‑S‑Al四元合金粉;激光熔覆中的激光采用红蓝光复合激光。本发明采用激光熔覆和包埋渗相结合的方法,制备出高硬度、高耐磨、高导电以及高抗氧化性能等综合性能高的涂层,为铜表面高性能涂层技术提供了新的思路,解决了在铜合金表面增材钼涂层并克服钼的抗氧化性能差的技术问题。
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公开(公告)号:CN118756137A
公开(公告)日:2024-10-11
申请号:CN202411241839.4
申请日:2024-09-05
IPC分类号: C23C24/10 , B22F9/04 , C22C32/00 , C22C30/00 , C01B21/064
摘要: 本发明公开了一种金属基‑耐磨自润滑涂层材料及制备方法和应用。本发明的方法,包括以下步骤:步骤(1)制备耐磨自润滑粉末;所述耐磨自润滑粉末为对立方氮化硼粉末进行真空加热预处理后的粉末;步骤(2)制备涂层材料:将所述耐磨自润滑粉末和合金粉末混合均匀,干燥,得到涂层材料;步骤(3)将涂层材料设置在基体材料表面,采用激光熔覆的方式在基体材料制备出金属基‑耐磨自润滑涂层材料。本发明采用高温预处理的方式使cBN颗粒表面转化为hBN,生成不同比例的cBN+hBN粉末(耐磨自润滑粉末);上述粉末具有耐磨减摩一体化的特点。通过加入这种粉末可以实现硬度和减摩性能都比较好的涂层材料的制备。
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公开(公告)号:CN116791082A
公开(公告)日:2023-09-22
申请号:CN202311078833.5
申请日:2023-08-25
IPC分类号: C23C24/10
摘要: 本发明公开了一种制镍熔覆层的方法及覆盖镍熔覆层的铜基体。本发明的方法包括以下步骤:(1)将激光头设置在待熔覆的基体表面;所述基体选自铜或铜合金;(2)向待熔覆的基体表面输送镍粉;(3)激光头向待熔覆的基体表面先发射短波长激光束,然后发射红外激光束,在基体表面得到镍熔覆层。本发明的制备方法,解决了铜合金表面传统激光熔覆无法避免的红外激光高反射率的问题,弥补了现阶段在铜合金表面较高激光功率的红外激光照射或较低激光功率光如蓝光激光照射下,熔池、涂层成形的不稳定性,克服了铜合金表面在现有技术下的涂层成形困难的问题。
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公开(公告)号:CN116791082B
公开(公告)日:2024-03-22
申请号:CN202311078833.5
申请日:2023-08-25
IPC分类号: C23C24/10
摘要: 本发明公开了一种制镍熔覆层的方法及覆盖镍熔覆层的铜基体。本发明的方法包括以下步骤:(1)将激光头设置在待熔覆的基体表面;所述基体选自铜或铜合金;(2)向待熔覆的基体表面输送镍粉;(3)激光头向待熔覆的基体表面先发射短波长激光束,然后发射红外激光束,在基体表面得到镍熔覆层。本发明的制备方法,解决了铜合金表面传统激光熔覆无法避免的红外激光高反射率的问题,弥补了现阶段在铜合金表面较高激光功率的红外激光照射或较低激光功率光如蓝光激光照射下,熔池、涂层成形的不稳定性,克服了铜合金表面在现有技术下的涂层成形困难的问题。
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公开(公告)号:CN117328059A
公开(公告)日:2024-01-02
申请号:CN202311224637.4
申请日:2023-09-21
IPC分类号: C23C24/10
摘要: 本发明公开了一种采用蓝光激光制备铜合金熔覆层的方法及制备的铜合金。本发明的方法包括以下步骤:将激光头放置在铜合金表面;向待熔覆铜合金表面输送铜合金粉末;通过激光头向待熔覆铜合金表面发射蓝光激光束,按照预定路径扫描,在铜合金基体表面得到铜合金熔覆层。由于铜合金对红外激光有极高的反射率,导致采用红外激光进行铜合金表面熔覆难度极大,必须对铜合金进行表面处理才能降低其对红外激光的反射率,但无法根本上解决铜合金表面成形难的问题,鉴于铜合金对蓝光激光的高吸收率,本发明采用圆形光斑蓝光激光作为能量源,既可以解决铜合金对红外激光反射率高的问题,又可以减少铜合金基体的表面处理工序。
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公开(公告)号:CN221639534U
公开(公告)日:2024-09-03
申请号:CN202420111630.5
申请日:2024-01-16
摘要: 本实用新型提供了一种激光熔覆装置,包括提供涂层材料的送粉器、将涂层材料熔覆至加工工件上的激光发射装置、为熔覆至加工工件上的涂层材料提供能量的超声振动装置和带动加工工件和超声振动装置进行移动的移动组件,送粉器和激光发射装置位于加工工件的上方,超声振动装置对应加工工件设置,移动组件对应激光发射装置设置,加工工件和超声振动装置在移动组件的带动下对应激光发射装置移动,移动组件包括导轨和对应导轨设置的滑块,滑块上设有承载板,加工工件和超声振动装置位于承载板上。本实用新型采用移动组件实现加工工件的快速移动,并且结合超声振动装置对涂层材料的作用,可以均化熔覆层组成、细化晶粒从而提升涂层性能。
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