制备单层高厚度高导热石墨烯导热膜的设备及方法

    公开(公告)号:CN116354722B

    公开(公告)日:2024-06-25

    申请号:CN202310306798.1

    申请日:2023-03-27

    IPC分类号: C01B32/184

    摘要: 本发明公开了一种制备单层高厚度高导热石墨烯导热膜的设备及方法,该设备包括:浆料存储罐;加热辊;供料机构,其包括通过管道与所述浆料存储罐并联连通的下进料槽、上进料槽和供料喷枪;风刀组件;剥离刮刀;第一布料辊;以及第二布料辊。本发明具备下进料槽加料、上进料槽加料和供料喷枪无接触喷料三种供料方式,能使得氧化石墨烯片在基材上层层生长来制备石墨烯导热膜,采用机械的方式使石墨烯片层之间定向排列,制备出导热性能优异的石墨烯导热膜;本发明即使在较低固含量时(低于2%),也可通过下进料槽加料或上进料槽与供料喷枪组合的方式进行供料,配合“热辊+热风”的烘干方式,从而同样能够制备高厚度高性能的石墨烯导热膜。

    制备单层高厚度高导热石墨烯导热膜的设备及方法

    公开(公告)号:CN116354722A

    公开(公告)日:2023-06-30

    申请号:CN202310306798.1

    申请日:2023-03-27

    IPC分类号: C04B35/52 C04B35/622

    摘要: 本发明公开了一种制备单层高厚度高导热石墨烯导热膜的设备及方法,该设备包括:浆料存储罐;加热辊;供料机构,其包括通过管道与所述浆料存储罐并联连通的下进料槽、上进料槽和供料喷枪;风刀组件;剥离刮刀;第一布料辊;以及第二布料辊。本发明具备下进料槽加料、上进料槽加料和供料喷枪无接触喷料三种供料方式,能使得氧化石墨烯片在基材上层层生长来制备石墨烯导热膜,采用机械的方式使石墨烯片层之间定向排列,制备出导热性能优异的石墨烯导热膜;本发明即使在较低固含量时(低于2%),也可通过下进料槽加料或上进料槽与供料喷枪组合的方式进行供料,配合“热辊+热风”的烘干方式,从而同样能够制备高厚度高性能的石墨烯导热膜。

    复合铜材料的电沉积方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116949536A

    公开(公告)日:2023-10-27

    申请号:CN202310279847.7

    申请日:2023-03-22

    发明人: 金闯 胡浩 田振宇

    IPC分类号: C25D15/00 C25D5/18

    摘要: 本发明公开了一种复合铜材料的电沉积方法,包括以下步骤:将硼酸、氨基磺酸铜和氯化铜,将三者混合置于容器中;称氧化石墨烯薄片放入容器,加入蒸馏水超声搅拌,获得氧化石墨烯溶液,后将基础电沉积液倒入搅拌好的氧化石墨烯溶液中进行混合超声搅拌形成复合电沉积液;将制备好的复合电沉积液倒入反应釜中持续搅拌,添加表面活性剂;固定电沉积夹具,设定试验温度,待温度稳定后通入事先冷却好的二氧化碳气体;采用位于反应釜内的阳极铜板和阴极铜板之间接通电源开启复合电沉积。本发明获得的复合铜材料石墨烯含量高且分布均匀,电沉积层致密,提高了铜材的硬度和耐磨性。

    石墨烯导电分散液的制备方法、负极浆料及负极极片

    公开(公告)号:CN117524588A

    公开(公告)日:2024-02-06

    申请号:CN202311624311.0

    申请日:2023-11-30

    IPC分类号: H01B13/00 H01M4/62 H01M4/13

    摘要: 本发明公开了一种石墨烯导电分散液的制备方法、负极浆料及负极极片,该方法包括以下步骤:S1、将石墨类碳材料、CMC及分散助剂分散在水中形成原料分散液;S2、将原料分散液加入高压反应釜中,对高压反应釜进行升温并泵入二氧化碳气体,使高压反应釜内的二氧化碳气体达到超临界状态,保持超临界状态进行反应;S3、反应结束后冷却,取出高压反应釜内的产物,即得所述石墨烯导电分散液。本发明采用CMC及分散助剂用于辅助石墨烯的超临界剥离,制备得到的导电石墨烯分散液无需进一步分离即可直接用于负极浆料的制备,减少了分离步骤降低成本,而且更加契合负极浆料的应用。

    高性能挠性覆铜板及其制备方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116887505A

    公开(公告)日:2023-10-13

    申请号:CN202310818278.9

    申请日:2023-07-05

    发明人: 金闯 田振宇 胡浩

    摘要: 本发明公开了一种高性能挠性覆铜板及其制备方法,该挠性覆铜板包括基材层和附着在所述基材层的两侧的两铜板层,所述铜板层从靠近所述基材层的内侧向外侧依次包括磁控溅射镀铜层、电镀铜层以及保护层。本发明提供的制备方法工艺简单,效率高,损耗低;制得的新型挠性覆铜板,重量轻、抗拉强度和延展性较好、成本低,并能满足铜箔的性能要求。本发明中,采用真空磁控溅射工艺形成金属铜磁控溅射镀层,厚度均匀,结构致密,力学性能优异;采用水电镀工艺生长形成金属铜水相电镀镀层,表面均匀涂覆,有利于改善翘曲等问题;采用阳极氧化工艺形成保护层,在物理隔绝氧气的同时,通过量子隧穿效应起到导电作用,实现高效能传输。

    薄膜烘干设备
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN218973125U

    公开(公告)日:2023-05-05

    申请号:CN202320189422.2

    申请日:2023-02-13

    IPC分类号: F26B13/04 F26B13/10 F26B21/00

    摘要: 本实用新型公开一种薄膜烘干设备,包括:底板,其特征在于:底板顶面固定连接有支架,在支架内壁的前、后两端分别设置有一转辊,支架内壁固定连接有一个上挡板、下挡板,此上挡板、下挡板相对侧的端面均开设有若干个第一通孔、第二通孔,第二通孔分布在第一通孔的左、右两侧,且第二通孔的截面面积大于第一通孔的截面面积,位于支架的外侧设置有一支撑架,该支撑架的顶部固定安装有一抽风机、加热箱,抽风机的出风端与加热箱的进风端连通,加热箱的出风端通过第一热风管、第二热风管分别与上挡板、下挡板内部连通。本实用新型改善了薄膜正、反面受热的均匀性,也提高了烘干效率,还减少了上、下热风对冲导致对冲处温度上升过快的现象。