铜箔处理设备
    1.
    实用新型

    公开(公告)号:CN221971702U

    公开(公告)日:2024-11-08

    申请号:CN202323491179.9

    申请日:2023-12-20

    IPC分类号: C25D1/04 C25D3/38

    摘要: 本申请公开了一种铜箔处理设备,涉及铜箔技术领域,包括底座、铜箔表处理机台、第一工作平台和第二工作平台,所述铜箔表处理机台设置在所述底座上,所述第一工作平台和所述第二工作平台相对设置,且分别位于所述铜箔表处理机台的两侧,所述铜箔处理机台还包括通道机构,所述通道机构设置在所述底座上,用于连接所述第一工作平各和所述第二工作平台;本申请通过以上设计,能够对生产进行及时检查,且提高安全性。

    工作液循环系统及表面处理设备
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118345486A

    公开(公告)日:2024-07-16

    申请号:CN202410381140.1

    申请日:2024-03-29

    摘要: 本申请属于铜箔制造设备领域,具体涉及一种工作液循环系统及表面处理设备,工作液循环系统包括表处理槽、连接装置、进液装置和分流装置,连接装置的排液口与表处理槽的进液口连接;进液装置与连接装置的进液口连接,用于通入工作液到连接装置中;分流装置包括第一储罐,第一储罐的进液口与表处理槽的排液口连接,第一储罐的排液口用于连接废液存储装置或废液处理装置,进液装置通入连接装置的工作液的流量与第一储罐的排液口排放工作液的流量相等。补充工作液和排放工作液的速度相等,与工作液定期补充的方案相比,工作液中溶质的浓度可以保持稳定,进液装置补充的工作液中溶质的浓度可保持不变,降低了补充工作液的工作量及难度。

    溶铜装置以及制备电解铜箔的添料方法

    公开(公告)号:CN117552056A

    公开(公告)日:2024-02-13

    申请号:CN202310217887.9

    申请日:2023-02-28

    IPC分类号: C25D1/04 C25D3/38

    摘要: 本申请公开了一种溶铜装置以及制备电解铜箔的添料方法,涉及电解铜箔领域,所述溶铜装置包括溶铜罐和吊起装置,所述吊起装置设置在所述溶铜罐的一侧,用于添加铜料,所述吊起装置包括吊起组件和配合组件,所述吊起组件设置在所述配合组件的一侧,与所述配合组件可活动连接,所述配合组件控制所述吊起组件将铜料运送至所述溶铜罐的正上方,使所述铜料的底面与所述溶铜罐的罐口距离第一高度;本申请通过以上设计,溶铜反应均匀,且提高铜料利用率。

    洗箔水的回收再利用系统及方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117550671A

    公开(公告)日:2024-02-13

    申请号:CN202310281246.X

    申请日:2023-03-21

    IPC分类号: C02F1/26 C02F103/16

    摘要: 本申请属于铜箔技术领域,具体涉及一种洗箔水的回收再利用系统及方法,回收再利用系统包括萃取模块和反萃取模块,萃取模块中的至少两个萃取单元的萃取油相出口通过管道与总萃取油相出口连通,萃取单元的萃取水相出口与相邻下级萃取单元的第一入口连通,最后一级萃取单元的萃取水相出口为所述总萃取水相出口;反萃取模块中的第二入口与总萃取油相出口连通,反萃取液入口向反萃取模块中加入反萃取液,反萃取水相出口与铜箔电解液系统连通。本申请方案通过利用多次萃取和反萃取能够更好地去除水相中的铜离子,能够将洗箔水中的铜离子较大部分进行回收,提高铜离子的回收利用率。

    溶铜设备
    6.
    发明公开
    溶铜设备 审中-实审

    公开(公告)号:CN117089897A

    公开(公告)日:2023-11-21

    申请号:CN202211680427.1

    申请日:2022-12-27

    IPC分类号: C25D1/04

    摘要: 本申请公开了一种溶铜设备,涉及铜箔生产领域,能够避免在溶铜过程中出现溶铜效率下降的问题,所述溶铜设备包括罐体、盖板和至少一个顶杆,所述罐体用于容纳铜线卷料,所述盖板与所述罐体配合连接,且所述盖板朝向所述罐体的内部的一侧设有多个喷淋孔;所述顶杆固定在所述盖板中朝向所述罐体内部的一侧,与所述喷淋孔避让设置;其中,所述顶杆中远离所述盖板的一端,与所述盖板之间的最大距离,大于所述罐体内铜线卷料与所述盖板之间的距离。

    铜箔生产材料的数据管理方法及数据管理系统和存储介质

    公开(公告)号:CN116167700A

    公开(公告)日:2023-05-26

    申请号:CN202310092173.X

    申请日:2023-01-30

    发明人: 张洪 尹卫华

    IPC分类号: G06Q10/0875 G06Q50/04

    摘要: 本申请公开了一种铜箔生产材料的数据管理方法及数据管理系统和存储介质。其中,数据管理方法包括:当侦测到登录操作时,获取用户信息;基于用户信息生成与用户信息相匹配的操作界面;当确定用户为采购员时,生成铜箔生产材料的采购信息录入表格;获取采购员在采购信息录入表格的录入内容,并基于获取的录入内容生成铜箔生产材料的检验单;根据检验单对铜箔生产材料进行检测,确定铜箔生产材料的检验数据并将检验数据存入数据库;将铜箔生产材料的检验数据与设定的检验标准进行比较,得到铜箔生产材料的比较结果,并将比较结果与匹配的采购信息存入数据库。

    铜箔的制作方法及铜箔
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118422291A

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202410685286.5

    申请日:2024-05-29

    IPC分类号: C25D7/06 C25D5/34

    摘要: 本申请属于电解铜箔技术领域,具体涉及一种铜箔的制作方法及铜箔,铜箔的制作方法包括:制备铜箔并对铜箔进行前置表面处理,所述前置表面处理包括粗化、固化、灰化和钝化;制备混合硅烷醇,所述混合硅烷醇包括至少一种硅烷偶联剂,将所述混合硅烷醇与十二烷基三甲基氯化铵的水溶液混合,得到硅醇溶液;将所述硅醇溶液涂覆在进行所述前置表面处理之后的所述铜箔的表面。采用至少一种硅烷偶联剂和十二烷基三甲基氯化铵制备的硅醇溶液处理铜箔,与仅采用硅烷偶联剂处理铜箔的技术方案相比,可以提高铜箔的抗剥离强度、抗氧化性能、耐高温以及耐腐蚀性能。

    铜箔废水处理装置和电解铜箔生产系统

    公开(公告)号:CN118026444A

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202410227126.6

    申请日:2024-02-28

    发明人: 谢文宾 尹卫华

    摘要: 本申请公开了一种铜箔废水处理装置和电解铜箔生产系统,每个反应系统中均包括反应罐、萃取罐和回收罐,萃取罐设置有萃取剂和反萃取剂,相邻两个反应系统中的萃取剂种类不同;当铜箔废水进入到反应罐内,负压装置控制反应罐内的气压到达第一预设气压,萃取剂进入到反应罐内,与铜箔废水混合;当铜箔废水与萃取剂混合后,负压装置控制反应罐内的气压达到第二预设气压,混合后的铜箔废水通进入到萃取罐内,反萃取剂与混合后的铜箔废水混合得到待提取的金属离子,回收罐回收待提取的金属离子;反应罐将未混合的铜箔废水通入下一个反应系统的反应罐中进行反应。以对铜箔废水进行循环处理,提取铜箔废水中不同种类的金属离子。

    硫酸铜晶体回收装置及方法

    公开(公告)号:CN114990645B

    公开(公告)日:2024-04-16

    申请号:CN202210771737.8

    申请日:2022-06-30

    IPC分类号: C25D1/04 C25D21/06 C25D21/18

    摘要: 本申请涉及电解铜箔技术领域,特别涉及一种硫酸铜晶体回收装置及方法,硫酸铜晶体回收装置用于与生箔机组连接,其包括第一槽体,第一槽体与生箔机组连通,第一槽体用于容纳溶液,溶液包括生箔机组排出的硫酸铜晶体和硫酸铜电解液,以及,用于溶解硫酸铜晶体和硫酸铜电解液的溶解液,其中,硫酸铜晶体不包含有机物;泵体,与第一槽体连通,泵体用于将溶液引出;换热装置,与泵体连通,换热装置用于对溶液加热溶解;过滤装置,过滤装置与换热装置连通,过滤装置用于对溶解后的溶液进行过滤,过滤装置与第一槽体可选择地连通;以及第二槽体,与生箔机组连通,且第二槽体与过滤装置可选择地连通。本申请实现了带油污的硫酸铜晶体的循环回收和利用。