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公开(公告)号：CN101426639B
公开(公告)日：2012-11-14
申请号：CN200580018708.9
申请日：2005-06-07
申请人： 奈米系统股份有限公司
发明人： J·A·怀特佛德 , R·部鲁尔 , M·布勒堤 , 陈建 , K·C·克鲁登 , 段镶锋 , W·P·弗里曼 , D·希尔德 , F·利昂 , 刘超 , A·麦瑟 , K·S·闵 , J·W·帕斯 , E·西尔
IPC分类号： B31B15/02
摘要： 本发明提供了用来制备离散的涂覆纳米结构的配体组合物，以及涂覆纳米结构本身和包含它们的器件。还提供了在纳米结构上形成后沉积壳和对纳米结构进行可逆改性的方法。本发明的配体和涂覆的纳米结构特别适用于密堆积的纳米结构组合物，这种组合物能改善量子约束和/或减少纳米结构之间的交叉干扰。
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公开(公告)号：CN101512754B
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN200780028495.7
申请日：2007-07-27
申请人： 奈米系统股份有限公司
IPC分类号： H01L21/82 , H01L27/10 , H01L29/739
CPC分类号： H01L21/28008 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , H01L21/28229 , H01L21/28273 , H01L21/3105 , Y10S977/774 , Y10S977/782 , Y10S977/845 , Y10S977/855 , Y10S977/89 , Y10S977/891
摘要： 提供了一种用来形成纳米结构阵列或对其进行图案化的方法。所述方法包括在包含纳米结构缔合基团的涂层上形成阵列，在旋涂电介质中形成阵列，沉积纳米结构之后进行溶剂退火，使用光刻胶进行图案化，以及/或者使用促进阵列形成的器件。还提供了用来形成纳米结构阵列的相关的器件，其为包括纳米结构阵列的器件(例如存储器件)。还提供了保护纳米结构，使其免于在高温处理过程中熔合的方法。
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公开(公告)号：CN102054527A
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN201010503565.3
申请日：2005-06-07
申请人： 奈米系统股份有限公司
发明人： J·A·怀特佛德 , R·部鲁尔 , M·布勒堤 , 陈建 , K·C·克鲁登 , 段镶锋 , W·P·弗里曼 , D·希尔德 , F·利昂 , 刘超 , A·麦瑟 , K·S·闵 , J·W·帕斯 , E·西尔
CPC分类号： C09C1/3081 , B82Y30/00 , C01P2004/16 , C01P2004/45 , C01P2004/54 , C01P2004/64 , C01P2006/10 , C01P2006/40 , C01P2006/60 , C09C3/006 , C09C3/063 , C09C3/12 , H01G4/14 , Y10S977/773 , Y10T428/2982 , Y10T428/2989 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993 , Y10T428/2995 , Y10T428/2996 , Y10T428/2998
摘要： 提供了用来制备离散的涂覆纳米结构的配体组合物，以及涂覆纳米结构本身和包含它们的器件。还提供了在纳米结构上形成后沉积壳和对纳米结构进行可逆改性的方法。本发明的配体和涂覆的纳米结构特别适用于密堆积的纳米结构组合物，这种组合物能改善量子约束和/或减少纳米结构之间的交叉干扰。
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公开(公告)号：CN101512754A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200780028495.7
申请日：2007-07-27
申请人： 奈米系统股份有限公司
IPC分类号： H01L21/82 , H01L27/10 , H01L29/739
CPC分类号： H01L21/28008 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , H01L21/28229 , H01L21/28273 , H01L21/3105 , Y10S977/774 , Y10S977/782 , Y10S977/845 , Y10S977/855 , Y10S977/89 , Y10S977/891
摘要： 提供了一种用来形成纳米结构阵列或对其进行图案化的方法。所述方法包括在包含纳米结构缔合基团的涂层上形成阵列，在旋涂电介质中形成阵列，沉积纳米结构之后进行溶剂退火，使用光刻胶进行图案化，以及/或者使用促进阵列形成的器件。还提供了用来形成纳米结构阵列的相关的器件，其为包括纳米结构阵列的器件(例如存储器件)。还提供了保护纳米结构，使其免于在高温处理过程中熔合的方法。
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公开(公告)号：CN101426639A
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：CN200580018708.9
申请日：2005-06-07
申请人： 奈米系统股份有限公司
发明人： J·A·怀特佛德 , R·部鲁尔 , M·布勒堤 , 陈建 , K·C·克鲁登 , 段镶锋 , W·P·弗里曼 , D·希尔德 , F·利昂 , 刘超 , A·麦瑟 , K·S·闵 , J·W·帕斯 , E·西尔
IPC分类号： B31B15/02
摘要： 提供了用来制备离散的涂覆纳米结构的配体组合物，以及涂覆纳米结构本身和包含它们的器件。还提供了在纳米结构上形成后沉积壳和对纳米结构进行可逆改性的方法。本发明的配体和涂覆的纳米结构特别适用于密堆积的纳米结构组合物，这种组合物能改善量子约束和/或减少纳米结构之间的交叉干扰。
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