公开(公告)号：CN119419501A

公开(公告)日：2025-02-11

申请号：CN202411657283.7

申请日：2024-11-19

Applicant: 宁波舜宇奥来技术有限公司

Inventor： 马珂奇 ,  孙飞岳 ,  请求不公布姓名 ,  陈远

IPC: H01Q15/00 ,  H01Q15/14 ,  G02B27/00

Abstract: 本发明提供了一种超表面结构及其的设计方法。超表面结构的设计方法包括如下步骤：确定衬底和衬底上的超表面单元的材料，以及超表面单元的形状；确定超表面单元在第一尺寸范围内的透过率曲线和/或相位响应曲线；判断透过率曲线和/或相位响应曲线中是否存在谐振峰；如果透过率曲线和/或相位响应曲线中存在谐振峰，则调整覆盖层的材料和厚度，以消除谐振峰；如果透过率曲线和/或相位响应曲线中不存在谐振峰，则判定设计方法完成。本发明解决了现有技术中的超表面结构存在相位响应有谐振峰从而影响透过率的问题。

公开(公告)号：CN118897399A

公开(公告)日：2024-11-05

申请号：CN202411116633.9

申请日：2024-08-14

Applicant: 宁波舜宇奥来技术有限公司

Inventor： 马珂奇 ,  宋强 ,  王超 ,  孙飞岳 ,  陈远

IPC: G02B27/00 ,  G03B21/20 ,  G03B21/14

Abstract: 本发明提供了一种超表面元件的设计方法和投影装置。超表面元件的设计方法包括：根据目标投射点阵确定超表面元件的准直相位#imgabs0#和超表面元件的衍射相位#imgabs1#根据准直相位#imgabs2#和衍射相位#imgabs3#得到超表面元件经p偏振光入射时的相位#imgabs4#和超表面元件经s偏振光入射时的相位#imgabs5#中的一者，根据目标投射匀光光场确定相位#imgabs6#和相位#imgabs7#中的另一者；根据相位#imgabs8#和相位#imgabs9#确定超表面元件的多个微纳结构的分布。本发明解决了现有技术中的超表面元件存在集成多种投射光场困难的问题。