-
公开(公告)号:CN102668016B
公开(公告)日:2016-02-24
申请号:CN201080054595.9
申请日:2010-10-25
申请人: 安格斯公司
IPC分类号: H01J37/317 , H01L21/265
CPC分类号: H01L21/265 , C23C14/48 , C23C14/52 , H01J37/08 , H01J37/3171 , H01J37/32055 , H01J37/32412 , H01J37/32449 , H01J2237/006 , H01J2237/022
摘要: 一种离子注入系统及方法,提供掺杂气体馈送线路中掺杂气体的冷却,以对抗由于电弧腔室生成的热量而造成掺杂气体的加热与分解,例如使用诸如B2F4的硼源材料,或其它BF3的替代物。在此描述了各种电弧腔室热管理的设置,以及等离子体特性的改变、特定流动设置、清洗处理过程、功率管理、平衡偏移、提取光学器件的最优化、流动通道中的沉积物的探测,以及源寿命的最优化,以实现离子注入系统的有效操作。
-
公开(公告)号:CN105702547A
公开(公告)日:2016-06-22
申请号:CN201610048444.1
申请日:2010-10-25
申请人: 安格斯公司
IPC分类号: H01J37/08 , H01J37/317
CPC分类号: H01L21/265 , C23C14/48 , C23C14/52 , H01J37/08 , H01J37/3171 , H01J37/32055 , H01J37/32412 , H01J37/32449 , H01J2237/006 , H01J2237/022
摘要: 一种离子注入系统及方法,提供掺杂气体馈送线路中掺杂气体的冷却,以对抗由于电弧腔室生成的热量而造成掺杂气体的加热与分解,例如使用诸如B2F4的硼源材料,或其它BF3的替代物。在此描述了各种电弧腔室热管理的设置,以及等离子体特性的改变、特定流动设置、清洗处理过程、功率管理、平衡偏移、提取光学器件的最优化、流动通道中的沉积物的探测,以及源寿命的最优化,以实现离子注入系统的有效操作。
-