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公开(公告)号：CN105229771B
公开(公告)日：2017-12-26
申请号：CN201480030681.4
申请日：2014-05-28
申请人： 普莱克斯技术有限公司
IPC分类号： H01J37/08 , H01J37/317
CPC分类号： H01L21/265 , H01J37/08 , H01J37/3171 , H01J2237/006 , H01L21/67017 , Y10T137/86348 , Y10T137/88054
摘要： 提供了用于使用铝掺杂剂组合物的方法和系统。选择铝掺杂剂组合物的组合物，其由式AlxRyLz代表，其中R是甲基，L是Cl、F、I或Br，x是1或2，由此若x=1，那么y=1或2且若x=2，那么y=2‑4，及对于x=1或x=2，z=3x–y。组合物具有足够的蒸汽压和最少的碳含量，从而使得能够容易地向离子注入过程递送并在Al离子注入期间显著减少碳沉积。源材料优选由低于大气压的储存和递送设备来储存和递送，以增强在Al离子注入过程期间的安全性和可靠性。
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公开(公告)号：CN105493225B
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201480046171.6
申请日：2014-05-19
申请人： 株式会社日立高新技术
CPC分类号： H01J37/20 , G01N23/22 , G01N23/2204 , H01J37/18 , H01J37/285 , H01J2237/006 , H01J2237/188 , H01J2237/2003 , H01J2237/2802 , H01J2237/2806 , H01M8/04671
摘要： 本发明的目的为将试样附近保持为大气压、且高效地检测二次电子。在带电粒子装置的试样室中，试样支架(4)具备用于将试样(20)附近控制为大气压环境的气体导入导管与气体排出用导管，在试样(20)的上部共用能检测带电粒子通路孔(18)与能检测从试样(20)产生的二次电子(15)的微小孔口(18)，具有通过使孔径比试样(20)上部的微小孔口(18)大，积极地进行气体导入时的排气的带电粒子通路孔(19)。
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公开(公告)号：CN103325651B
公开(公告)日：2017-10-24
申请号：CN201310089789.8
申请日：2013-03-20
CPC分类号： H01J37/3002 , B05B1/005 , B05B1/30 , F16K11/0716 , H01J37/02 , H01J37/023 , H01J37/16 , H01J2237/006 , H01J2237/317
摘要： 公开了一种多种气体喷射系统。一种多位置阀被用于控制来自多个气体源的气流的目的地。在一个阀位，气体在引入样品真空室之前先流向隔离的真空系统，在其中可以调节流速和混合。在另一个阀位，预混合的气体从隔离的真空室流出并经过阀针流入样品真空室内。
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公开(公告)号：CN102760649B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：CN201210239469.1
申请日：2012-04-23
申请人： 卡尔蔡司显微镜有限责任公司
发明人： F·佩雷斯-维拉德
IPC分类号： H01L21/265 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3178 , H01J37/3002 , H01J37/3056 , H01J2237/006 , H01J2237/31744
摘要： 一种处理系统包括：围绕在聚焦透镜和相互作用区域之间的束通道环形延伸的环形管道，特别是以圆环形的形式延伸；其中环形管道在面向相互作用区域的侧部上包括朝向相互作用区域的多个用于气体的出口；并且其中环形管道包括保持器装置，其配置成绕着枢轴枢转环形管道，其中该枢轴平行于物体保持器的倾斜轴。
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公开(公告)号：CN104285273B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201380023331.0
申请日：2013-03-21
申请人： 瓦里安半导体设备公司
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01L21/265 , C23C14/48 , H01J37/08 , H01J37/3171 , H01J2237/006 , H01J2237/022 , H01J2237/0825
摘要： 本发明的处理基板的方法可由离子植入系统来实现，此离子植入系统包括具有离子源腔室的离子源。离子源腔室具有定义离子产生区及萃取孔的壁，经由萃取孔萃取离子产生区中产生的离子。萃取系统位于靠近萃取孔的离子源下游。材料源包括包含第一材料的第一源、包含第二材料的第二源、及第一导管与第二导管，第一导管可与第一源及离子源腔室连通，以提供来自第一源的第一材料至离子源腔室，且第二导管与第二源连通。离子源腔室外侧的第一区提供来自第二源的第二材料至第一区。
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公开(公告)号：CN104508791B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：CN201380040374.X
申请日：2013-07-30
IPC分类号： H01J37/26
CPC分类号： H01J37/26 , H01J37/18 , H01J37/28 , H01J2237/0044 , H01J2237/006 , H01J2237/24445
摘要： 一种气体喷射系统提供了样品表面处的局部区域，其具有足够的气体浓度来由次级电子电离以中和样品表面上的电荷。在一些实施例中，气体集中结构将气体集中在表面附近。气体集中结构中的可选的孔允许带电粒子束冲击护罩区域的内部。在一些实施例中，表面附近的阳极增大返回至工件表面用于电荷中和的离子的数量，阳极在一些实施例中为气体喷射系统的一部分，而在一些实施例中为单独的结构。
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公开(公告)号：CN104685603B
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201380039786.1
申请日：2013-06-19
申请人： 株式会社日立高新技术
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/244 , H01J37/26 , H01J37/261 , H01J2237/006 , H01J2237/063 , H01J2237/2001 , H01J2237/2002 , H01J2237/2003 , H01J2237/2007 , H01J2237/2448 , H01J2237/2602
摘要： 本发明的目的在于提供一种电子显微镜及电子显微镜用试样保持装置，其能在电子显微镜内容易且安全地营造气体或液体环境，以高分辨率观察其中的试样及其反应。在具备保持试样(23)的试样保持单元(6)的电子显微镜中，上述试样(23)配置于电子束能通过的毛细管(17)内部，在上述毛细管(17)内部具有向上述毛细管(17)内部供给气体或液体的供给装置、以及回收上述气体或液体的回收装置，一边使上述气体或液体流动一边获得上述试样的试样图像。
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公开(公告)号：CN105463384A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201510606832.2
申请日：2015-09-22
申请人： 苹果公司
发明人： M·S·罗杰斯
IPC分类号： C23C14/34 , C23C16/513 , C23C16/30
CPC分类号： H01J37/32596 , C23C14/0021 , C23C14/0036 , C23C14/3407 , C23C14/3464 , C23C14/542 , C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/50 , C23C16/52 , C23C28/04 , G02B1/113 , H01J37/32403 , H01J37/32541 , H01J37/32614 , H01J37/3417 , H01J37/342 , H01J37/3423 , H01J37/3435 , H01J2237/006 , H01J2237/081 , H01J2237/327 , H01J2237/3321
摘要： 本申请涉及耐用的3D几何形状保形抗反射涂层。更具体而言，公开了用于沉积薄膜的方法和系统。该方法和系统可以被用来在基板表面上沉积具有均匀厚度的膜，其中基板表面具有非平坦三维几何形状，诸如弯曲的表面。该方法涉及沉积源的使用，其中沉积源具有符合基板表面的非平坦三维几何形状的形状。在一些实施例中，多层膜沉积在彼此之上，从而形成多层涂层。在一些实施例中，多层涂层是用于窗口或透镜的抗反射(AR)涂层。
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公开(公告)号：CN102668016B
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：CN201080054595.9
申请日：2010-10-25
申请人： 安格斯公司
IPC分类号： H01J37/317 , H01L21/265
CPC分类号： H01L21/265 , C23C14/48 , C23C14/52 , H01J37/08 , H01J37/3171 , H01J37/32055 , H01J37/32412 , H01J37/32449 , H01J2237/006 , H01J2237/022
摘要： 一种离子注入系统及方法，提供掺杂气体馈送线路中掺杂气体的冷却，以对抗由于电弧腔室生成的热量而造成掺杂气体的加热与分解,例如使用诸如B2F4的硼源材料，或其它BF3的替代物。在此描述了各种电弧腔室热管理的设置，以及等离子体特性的改变、特定流动设置、清洗处理过程、功率管理、平衡偏移、提取光学器件的最优化、流动通道中的沉积物的探测，以及源寿命的最优化，以实现离子注入系统的有效操作。
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公开(公告)号：CN105339521A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201480034388.5
申请日：2014-06-30
申请人： 欧瑞康表面处理解决方案股份公司特鲁巴赫
发明人： 徳尼斯·库拉珀夫 , 西格弗里德·克拉斯尼策尔
CPC分类号： C23C14/0042 , C23C14/0641 , C23C14/14 , C23C14/3485 , C23C14/3492 , C23C14/35 , C23C14/54 , H01J37/32449 , H01J37/32935 , H01J37/3405 , H01J37/3426 , H01J37/3467 , H01J37/347 , H01J37/3476 , H01J2237/006 , H01J2237/24585 , H01J2237/3323
摘要： 本发明涉及用于执行反应溅射工艺的方法，其中，与靶老化无关地保持靶溅射特性以及沉积速率恒定，或者至少在工业生产环境可接受的范围内。
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