金属薄膜连续电沉积装置及其方法

    公开(公告)号:CN100564606C

    公开(公告)日:2009-12-02

    申请号:CN200510127810.4

    申请日:2005-12-06

    IPC分类号: C25D1/04

    摘要: 本发明属于磁性材料领域,涉及金属薄膜的制备方法和装置。本发明金属薄膜连续电沉积装置由电镀槽、支撑辊、剥离辊、清洗装置、吹干装置、烘干装置、张力调节装置、卷曲装置、电镀液补充装置、电镀液循环装置、控制系统和电镀电源组成;所述的连续电沉积方法,以柔性封闭金属带作为电沉积基带,当封闭金属带在电镀槽内循环回转的过程中、浸在电镀液内的部分就会电沉积一层金属薄膜,该金属薄膜先后经在线剥离、清洗、吹干、烘干和张力调节后由卷曲装置卷曲成金属薄膜带卷;封闭金属带不间断连续运动,电镀槽中电镀液不断循环和补充,整个过程不间断地连续进行,金属薄膜带则连续形成。

    一种纳米晶合金涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN101353775A

    公开(公告)日:2009-01-28

    申请号:CN200810149232.8

    申请日:2008-09-17

    IPC分类号: C23C4/04

    摘要: 本发明涉及一种纳米晶合金涂层及其制备方法。具体的,本发明涉及一种纳米晶合金涂层,其组成用原子比表示满足关系式:(Fe1-aM1a)100-x-y-z-α-β-γCuxSiyBzM2αM3βXγ式中M1为Co和Ni中的一种或两种,M2为Nb、W、Ta、Zr、Hf、Ti和Mo中的至少一种,M3为V、Cr、Mn、Al、Sc、Y、Au、Zn、Sn和Re中的至少一种,X为C、Ge、P、Ga、Sb、In、Be和As中的至少一种,0≤a≤0.5,0.1≤x≤3,0≤y≤30,0≤z≤25,且5≤y+z≤30,0.1≤α≤30,0≤β≤10,0≤γ≤10,涂层中的纳米晶体积百分含量为50%以上,纳米晶晶粒尺寸在100nm以下。本发明还涉及该涂层的用途和制备方法。

    一种热型连铸设备与方法

    公开(公告)号:CN1974060A

    公开(公告)日:2007-06-06

    申请号:CN200610164827.1

    申请日:2006-12-06

    IPC分类号: B22D11/06

    摘要: 本发明为一种热型连铸设备,包括底座(1),电机支架(2),伺服电动机(4),支架(8),主动辊和压紧力调整单元,其中:主动辊包括用于拉坯的、相配合的上、下主动辊(13-1)、(13-2),所述上、下主动辊由电机带动同步转动;该设备还包括相配合的上、下定位辊(19-1)、(19-2);上主动辊(13-1)和上定位辊(19-1)由压紧力调整单元控制上下运动;上、下主动辊之间配合的工作轮面为V型沟槽状-梯型凸面,上、下定位辊之间配合的工作轮面也为V型沟槽状-梯型凸面。本设备传动平稳,位置准确,电机能同时带动一组拉坯辊转动,克服了单辊驱动的缺点。

    高耐蚀耐磨铁基热喷涂涂层材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN1948544A

    公开(公告)日:2007-04-18

    申请号:CN200610114516.4

    申请日:2006-11-13

    IPC分类号: C23C4/06 C22C45/02 C23C24/08

    摘要: 本发明涉及一种高耐蚀耐磨铁基合金涂层材料及其制备方法,其中:1)所述热喷涂材料是由金属带包覆金属粉末加工形成的金属丝材;2)所述热喷涂材料为如下成分的较高非晶形成能力材料:Cr 13~20%,Mn0.2~5%,B 0.2~5%,C 0.05~1%,Si 0.1~0.5%,S、P之和为0.02~0.5%;选自下列两组合金元素中的至少一种:(1)包含Al、Ga、Sn中的一种或几种,或者(2)包含Mo、W、V中的至少一种;上述两组合金元素的总含量>0.5%;其余是Fe;3)热喷涂后直接得到的涂层为非晶纳米晶复合涂层。该涂层为既有非晶又有纳米晶结构的复合涂层,同时具有纳米结构涂层耐磨损和非晶涂层耐腐蚀的特点;涂层制备流程简单、成本低廉,易于现场施工。

    一种复合电磁屏蔽材料及其制造方法

    公开(公告)号:CN1852653A

    公开(公告)日:2006-10-25

    申请号:CN200610081226.4

    申请日:2006-05-26

    IPC分类号: H05K9/00 G12B17/02

    摘要: 本发明属于磁性功能材料领域,涉及一种新型电磁屏蔽材料及其制造方法。本发明是在软磁材料基体的两个表面电沉积一层金属铜形成复合电磁屏蔽材料。所述软磁材料是用快淬方法制备的纳米晶或非晶带材,厚度在20~40μm之间;基体软磁材料的成分由Fe,Co,Ni,Cu,Nb,Zr,Hf,Si,B,P中的金属和非金属元素组成,该软磁材料采用单辊或双辊快淬方法制备。而电沉积的双面铜导电层总厚度在1~50μm之间。沉积的金属铜是在含有铜离子的酸性或碱性电解液中,使用直流或交流电源沉积得到。本发明的优点是该复合材料具有优良的电磁屏蔽性能,其屏蔽的频率范围在50Hz-20GHz,屏蔽效能达到80dB以上。