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发明公开
一种化学机械抛光液审中-公开

公开(公告)号：CN118256156A

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202211698530.9

申请日：2022-12-28

申请人： 安集微电子科技(上海)股份有限公司

发明人： 彭芸 , 王淑超 , 王桢炜 , 杨越海 , 李星 , 郁夏盈 , 王晨

IPC分类号： C09G1/02 , C23F3/06 , H01L21/306

摘要： 本发明提供了一种化学机械抛光液，包括水、氧化物研磨颗粒、催化剂、稳定剂、氧化剂和pH调节剂，其中，所述氧化物研磨颗粒表面由有机官能团修饰。本发明中的化学机械抛光液，通过在研磨颗粒表面修饰官能团，能够在不影响抛光液对钨等材料的抛光速率的前提下，有效减少抛光后晶圆表面的缺陷，有效改善抛光后晶圆表面的形貌。