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公开(公告)号:CN101154034B
公开(公告)日:2012-05-09
申请号:CN200710154389.5
申请日:2007-09-26
申请人: TDK株式会社
CPC分类号: G03F7/001 , G03H1/02 , G03H2001/0264 , G03H2250/43 , G03H2260/12 , G11B7/2531
摘要: 本发明提供一种在不仅使用绿色激光器还使用了蓝色激光器的全息照相存储器记录中,也实现高折射率变化、柔软性、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低尺寸变化(低收缩性)及高多重性的适于体积型全息记录的全息记录材料及全息记录介质。一种全息记录材料,包含金属氧化物基质和光聚合型化合物,其中,金属氧化物基质至少将Si及Ti作为金属元素含有,Ti来源于含钛氧化物微粒。全息记录介质(11)具有由全息记录材料构成的全息记录层(21)。
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公开(公告)号:CN102320742A
公开(公告)日:2012-01-18
申请号:CN201110254243.4
申请日:2008-03-21
申请人: 旭硝子株式会社
CPC分类号: G11B5/7315 , C03C3/085 , C03C3/087 , G11B7/2531 , Y10T428/24355
摘要: 本发明的目的是提供即使不进行化学强化处理等附加处理耐候性也优良、不易发生白斑现象、玻璃化温度在685℃以上、且耐酸性优良的数据存储介质用基板用玻璃。本发明的数据存储介质用基板玻璃的特征在于,以质量%表示含有47~60%的SiO2、8~20%的Al2O3、0~8%的MgO、0~2.4%的CaO、1~18%的SrO、0~13%的BaO、1~6%的TiO2、1~5%的ZrO2、2~8%的Na2O、1~15%的K2O,K2O/Na2O:2.2~40,玻璃化温度在685℃以上。
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公开(公告)号:CN1954271B
公开(公告)日:2012-01-11
申请号:CN200580015295.9
申请日:2005-04-25
申请人: TDK株式会社
IPC分类号: G03H1/02 , G03F7/004 , G03F7/033 , G03F7/075 , G11B7/0065
CPC分类号: G11B7/24044 , G03F7/001 , G03F7/0042 , G03F7/0757 , G03H1/02 , G03H2001/0264 , G03H2260/12 , G11B7/0065 , G11B7/245 , G11B7/249 , G11B7/2531
摘要: 提供一种全息照相记录材料及全息照相记录介质,所述全息照相记录材料不需要进行记录时的预曝光处理,实现高的折射率变化、高灵敏度、低散射、耐环境性、耐久性、低尺寸变化及高多重性,适用于体积型全息照相记录。其全息照相记录材料包含软化温度为50℃以上的基体材料和在室温下为液相的光聚合性单体。相对全息照相记录材料整体,优选含有基 体材料50重量%以上90重量%以下。全息照相记录材料的软化温度优选为0℃以上。
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公开(公告)号:CN101542603B
公开(公告)日:2011-08-24
申请号:CN200780043351.9
申请日:2007-11-05
申请人: 柯尼卡美能达精密光学株式会社
IPC分类号: G11B5/73 , G11B5/84 , C03C21/00 , G11B7/253 , G11B11/105
CPC分类号: G11B5/8404 , C03C21/002 , G11B5/7315 , G11B7/2531 , G11B11/10582 , G11B11/10586 , G11B23/0021
摘要: 本发明提供一种信息记录媒体用玻璃基板、该信息记录媒体用玻璃基板的制造方法以及采用该信息记录媒体用玻璃基板的信息记录媒体,其中信息记录媒体用玻璃基板能够在兼备高强度高平坦度的同时以低成本进行制造。该信息记录媒体用玻璃基板,其玻璃基板的外周端面及内周端面的被化学强化了的区域中的玻璃基板厚度方向中央的离子浓度,在以K+离子浓度的最大值为W1,K+离子浓度为最大之位置上的Na+离子浓度为W2,玻璃基板没有被化学强化的区域中的K+离子浓度为W3时,满足0.1≤(W1-W3)/W2≤5。
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公开(公告)号:CN101035867B
公开(公告)日:2011-05-25
申请号:CN200580034204.6
申请日:2005-09-21
申请人: 株式会社艾迪科
IPC分类号: C09B23/00 , G11B7/244 , B41M5/26 , C07D209/60
CPC分类号: C07D403/06 , C09B23/06 , G11B7/246 , G11B7/2467 , G11B7/2472 , G11B7/248 , G11B7/2492 , G11B7/2495 , G11B7/2531 , G11B7/2533 , G11B7/2534 , G11B7/2535 , Y10S430/146
摘要: 本发明的花青化合物如下述通式(I)所示,其分解行为适合光学记录材料,所述光学记录材料用于实现高速记录的光学记录介质的光学记录层中。(式中,环A和环B表示可以具有取代基的苯环或萘环,X表示O、S、Se、CR3R4或NY,R1和R2中的至少一个表示通式(II)或(III)所示的基团,当仅有一个是通式(II)或(III)所示的基团时,另一个表示碳原子数为1~30的有机基团,R3和R4表示碳原子数为1~30的有机基团,Y表示氢原子或碳原子数为1~30的有机基团,Y1和Y2中的至少一个表示通式(IV)所示的基团,当仅有一个是通式(IV)所示的基团时,另一个表示氢原子或碳原子数为1~30的有机基团,Z表示氢原子、卤原子或氰基,Anm-表示m价的阴离子,m表示1或2的整数,p表示保持电荷为中性的系数。)。
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公开(公告)号:CN101389487B
公开(公告)日:2010-09-08
申请号:CN200780006083.3
申请日:2007-02-15
申请人: 株式会社理光
CPC分类号: G11B7/2492 , G11B7/246 , G11B7/2463 , G11B7/2467 , G11B7/2472 , G11B7/248 , G11B7/2531 , G11B7/2533 , G11B7/2534 , G11B7/2536 , G11B7/256 , G11B7/2578 , G11B7/259 , G11B2007/24612 , G11B2007/25706 , G11B2007/2571 , G11B2007/25715 , G11B2007/25716 , G11B2007/25718
摘要: 本发明提供一种光记录介质,包括:其表面上具有沟槽和凹坑中的至少一种的基板;和形成于基板上的染料记录层,其中所述染料记录层包括下列通式(I)所表示的花青染料、下列通式(II)所表示的方形酸络合物、和胺化合物。
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公开(公告)号:CN101807412A
公开(公告)日:2010-08-18
申请号:CN201010113857.6
申请日:2010-02-05
申请人: 索尼公司
IPC分类号: G11B7/24
CPC分类号: G11B7/2578 , G11B7/00454 , G11B7/24038 , G11B7/252 , G11B7/2531 , G11B7/2538 , G11B2007/24312 , G11B2007/24314 , G11B2007/24316 , Y10T428/21
摘要: 本发明公开了一种光学记录介质,包括:基底;形成在基底上的信息记录层,信息信号通过照射光线来在信息记录层中记录以及从其中再现;其中,信息记录层包括反射层、形成在反射层上的电介质层和形成在电介质层上的记录层,电介质层包括第一电介质层和第二电介质层,并且位于反射层侧的第二电介质层的热导率大于位于记录层侧的第一电介质层的热导率。
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公开(公告)号:CN101027188B
公开(公告)日:2010-05-05
申请号:CN200580032457.X
申请日:2005-09-30
申请人: 太阳诱电株式会社
CPC分类号: G11B7/2475 , G11B7/2531 , G11B7/2542 , G11B7/256 , G11B7/259 , Y10S430/146
摘要: 本发明提供具有适合于采用350~500nm、特别是400nm左右(例如405nm)的蓝色激光的高密度和高速的光记录的染料,可进行低能量的记录,可以抑制记录所产生的热量对光记录层的影响,通过折射率n和消光系数k的变化可以期待反射率或调制度的确保方面的叠加效果的光信息记录介质及其记录方法。并不是像以往那样以染料的折射率n的变化Δn产生的光学相位差为主的记录,而是着眼于基于可进行基于消光系数k的变化Δk的记录的染料的获得,进行主要基于消光系数k的变化Δk的记录,较好是将比上述染料对激光的吸收光谱的吸收峰更长波长侧的波长作为记录波长,但并不局限于此,其特征在于,通过染料对于记录波长的消光系数的变化进行记录。
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公开(公告)号:CN101689385A
公开(公告)日:2010-03-31
申请号:CN200980000515.9
申请日:2009-04-30
申请人: 索尼株式会社 , 索尼化学&信息部件株式会社
IPC分类号: G11B7/24 , G11B7/254 , G11B7/257 , C08F290/06
CPC分类号: G11B7/252 , G11B7/24 , G11B7/2531 , G11B7/2533 , G11B7/2585 , G11B7/259
摘要: 本发明提供了光记录介质以及用于该介质的反应性架桥树脂组合物。同时实现了降低光盘翘曲和降低光透过层的蠕变。在光透过层中,25℃下的弹性模量在1×10 7 Pa至5×10 8 Pa的范围内,-20℃的弹性模量在4×10 8 Pa至5×10 9 Pa的范围内,玻璃化转变温度为-20℃至0℃。光透过层的马氏硬度为10N/mm 2 以下。光透过层的压痕蠕变为2%以下。光透过层的压痕深度的返回值在0.2微米至2.0微米的范围内。
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